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深硅刻蝕設(shè)備
RIE-400iPB是一款電感耦合等離子體放電設(shè)備，用于博世MEMS和電子元件工藝中的高速硅深孔加工。RIE-800iPB是為研究和開發(fā)目的而改裝的。該系統(tǒng)由R...
型號(hào)： RIE-400iP... 所在地：國外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/4 17:12:01 對(duì)比

深硅刻蝕設(shè)備 RIE-400iPB SAMCO
激光掩模光刻機(jī)
ULTRA激光掩模光刻機(jī) 是專門用于成熟半導(dǎo)體光掩模的合格激光掩模機(jī)。半導(dǎo)體光掩模用于制造電子設(shè)備，包括微控制器、電源管理、LED、物聯(lián)網(wǎng) （IoT）和 ME...
型號(hào)： ULTRA 所在地：國外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/4 17:11:10 對(duì)比

高吞吐量半導(dǎo)體光掩模 ULTRA
無掩膜光刻機(jī)
ACA系列是科研版的無掩膜版紫外光刻機(jī)，其基于空間光調(diào)制技術(shù)，實(shí)現(xiàn)了數(shù)字掩膜光刻，靈活性使其成為科學(xué)研究。設(shè)備搭載長壽命、高功率的紫外光源，設(shè)備穩(wěn)定，上手簡單。...
型號(hào)： UV Litho-... 所在地：蘇州市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/4 17:08:14 對(duì)比

高分辨率高套刻精度無掩膜光刻
雙軸全自動(dòng)晶圓劃片機(jī)
8230雙軸全自動(dòng)晶圓劃片機(jī)：一款專為半導(dǎo)體制造設(shè)計(jì)的設(shè)備，集高效、精準(zhǔn)、高性能與低成本于一身，最大支持12英寸晶圓切割。雙軸對(duì)向設(shè)計(jì)，提升切割效率，滿足高精度...
型號(hào)： 8230 所在地：國外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/4 17:04:00 對(duì)比

劃片機(jī)
等離子體（ICP）刻蝕設(shè)備
RIE-350iPC是一種盒式裝載電感耦合等離子體(ICP)蝕刻設(shè)備，可處理多達(dá)ø350毫米的載盤，用于多晶圓批量處理。該系統(tǒng)為各種蝕刻應(yīng)用提供了堅(jiān)固...
型號(hào)： RIE-350iP... 所在地：國外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/4 17:03:21 對(duì)比

等離子體（ICP）刻蝕設(shè)備 RIE-350iPC SAMCO
低溫ICP-RIE等離子體刻蝕系統(tǒng)
SENTECH SI 500 C 低溫 ICP-RIE 等離子體蝕刻系統(tǒng)代表了電感耦合等離子體（ICP）處理的前沿技術(shù)，其最寬溫度范圍為 -150 ...
型號(hào)： SENTECH S... 所在地：德國參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/4 17:00:11 對(duì)比

低溫 SENTECH 刻蝕
CMP后清洗機(jī)
GNP CLEANER-412S型CMP后清洗機(jī)集成了兩個(gè)雙刷站，設(shè)計(jì)緊湊，占地面積小，可清洗(4“~12“)晶圓。
型號(hào)： GNP CEANE... 所在地：韓國參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/4 16:56:54 對(duì)比

半導(dǎo)體清洗濕法
勻膠機(jī)
Laurell的WS-650-15B型勻膠機(jī)結(jié)構(gòu)緊湊，具有先進(jìn)的功能。這款650系列系統(tǒng)將可容納高達(dá)300mm的晶圓和9英寸×9英寸（229mm...
型號(hào)： WS-650-15... 所在地：美國參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/4 16:56:30 對(duì)比

半導(dǎo)體前道勻膠機(jī)
數(shù)字萬用表（DMM）
在設(shè)計(jì)產(chǎn)品時(shí)，您不應(yīng)擔(dān)心測量質(zhì)量問題，而應(yīng)該全神貫注于創(chuàng)造優(yōu)質(zhì)設(shè)計(jì)。我們的數(shù)字萬用表經(jīng)過精心設(shè)計(jì)，全力保證每次都能執(zhí)行可靠、準(zhǔn)確的測量。它們采用了非常先進(jìn)...
型號(hào)：所在地：美國參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/4 16:56:09 對(duì)比

測試設(shè)備萬用表
雙軸半自動(dòng)劃片機(jī)
雙軸半自動(dòng)劃片機(jī)是一款先進(jìn)的半導(dǎo)體切割設(shè)備，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造和封裝領(lǐng)域。該設(shè)備結(jié)合了高精度、高效率和穩(wěn)定性等特點(diǎn)，能夠滿足現(xiàn)代半導(dǎo)體工業(yè)對(duì)切割精度的嚴(yán)格要求...
型號(hào)： 7920 所在地：國外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/4 16:54:18 對(duì)比

劃片機(jī)
CMP
GnP POLI-610專為藍(lán)寶石等復(fù)合晶圓的CMP工藝開發(fā)而設(shè)計(jì)。特別是該系統(tǒng)對(duì)于晶圓工藝開發(fā)具有較低的擁有成本，材料評(píng)估和生產(chǎn)前運(yùn)行。
型號(hào)： GNP POLI-... 所在地：韓國參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/4 16:51:37 對(duì)比

半導(dǎo)體濕法化學(xué)機(jī)械拋光
G線光刻機(jī)
Nikon NSR G線光刻機(jī)1、Nikon NSR G線步進(jìn)式光刻機(jī)光源波長436nm分辨率優(yōu)于0.65µm主要用于2寸、4寸、6寸生產(chǎn)線廣泛應(yīng)用于...
型號(hào)： Nikon NSR 所在地：深圳市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/4 16:46:11 對(duì)比

Nikon NSR G線光刻機(jī)G線光刻機(jī)光刻機(jī)
12英寸特種金屬膜層刻蝕設(shè)備
LMEC-300™ 是魯汶儀器針對(duì)特種金屬膜層刻蝕而推出的 12 英寸集成設(shè)備，應(yīng)用于新興存儲(chǔ)器件的制備。此類器件的核心功能單元含有成分復(fù)雜的金屬疊...
型號(hào)： LMEC-300 所在地：徐州市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/4 16:45:53 對(duì)比

離子刻蝕
12英寸離子束塑形（IBS) 設(shè)備
Pangea®A系列常規(guī)IBS設(shè)備由離子源柵極引出正離子并加速，中性束流撞擊樣品表面，濺射形成刻蝕圖像。由于等離子體的產(chǎn)生遠(yuǎn)離晶圓空間，起輝不受非揮發(fā)...
型號(hào)： Pangea... 所在地：徐州市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/4 16:43:05 對(duì)比

離子束刻蝕
RIE等離子刻蝕系統(tǒng)
RIE-200NL是一種負(fù)載鎖定型的反應(yīng)離子蝕刻系統(tǒng)，它提高了工藝的可重復(fù)性，并允許腐蝕性氣體化學(xué)。優(yōu)化的工藝室設(shè)計(jì)可在ø8 “晶圓或ø22...
型號(hào)： RIE-200NL 所在地：國外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/4 16:41:42 對(duì)比

RIE等離子刻蝕系統(tǒng)RIE-200NL SAMCO
8英寸離子束塑形（IBS）設(shè)備
Lorem® A 系列常規(guī) IBS 設(shè)備，由離子源柵極引出正離子并加速，中性束流撞擊樣品表面，濺射形成刻蝕圖像。由于等離子體的產(chǎn)生遠(yuǎn)離晶圓空間，起輝不...
型號(hào)： Lorem... 所在地：徐州市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/4 16:39:49 對(duì)比

離子束刻蝕
8英寸離子束沉積（IBD）設(shè)備
Ganister™ A離子束沉積設(shè)備，是針對(duì)低溫、高致密、高均勻性薄膜沉積工藝所開發(fā)的專用產(chǎn)品，在硬盤磁頭、硬磁偏置層、布拉格反射鏡等器件的制備中有...
型號(hào)： Ganister&... 所在地：徐州市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/4 16:37:11 對(duì)比

離子束沉積離子束刻蝕
劃片機(jī)
7234劃片機(jī)是一款高精度的半導(dǎo)體切割設(shè)備，主要用于晶圓或其他材料的切割加工。它配備了4英寸的空氣軸承主軸，采用直流無刷電機(jī)驅(qū)動(dòng)，轉(zhuǎn)速高達(dá)30krpm，能夠兼容...
型號(hào)： 7234 所在地：深圳市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/4 16:35:19 對(duì)比

劃片機(jī)
12英寸硬掩膜刻蝕設(shè)備
Herent® Chimera® A 金屬硬掩膜刻蝕設(shè)備，為針對(duì) 12 英寸 IC 產(chǎn)業(yè)的后道銅互連中氮化鈦（TiN）金屬硬掩膜刻蝕（met...
型號(hào)： Herent... 所在地：徐州市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/4 16:34:09 對(duì)比

離子束刻蝕
勻膠機(jī)
Laurell的EDC-650-23B型勻膠機(jī)結(jié)構(gòu)緊湊，具有先進(jìn)的功能。這款650系列EDC系統(tǒng)將可容納最大150mm晶圓和5英寸×5英寸（127mm...
型號(hào)： EDC-650-2... 所在地：美國參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/4 16:32:39 對(duì)比

半導(dǎo)體前道勻膠機(jī)

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