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半自動(dòng)劃片機(jī)
6110是一款高精度、高性能單軸半自動(dòng)劃片機(jī)，機(jī)身寬度490mm，占地面積小，結(jié)合全新設(shè)計(jì)的操作系統(tǒng)，提供高效、低使用成本的切割體驗(yàn)。
型號(hào)： 6110 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/4 15:55:01 對(duì)比

劃片機(jī)
步進(jìn)式光刻機(jī)
1、Nikon EX12B步進(jìn)式光刻機(jī)光源波長(zhǎng)248nm分辨率優(yōu)于0.3µm主要用于2寸、4寸、6寸及8寸生產(chǎn)線廣泛應(yīng)用于化合物半導(dǎo)體、MEMS、LE...
型號(hào)： Nikon EX1... 所在地：深圳市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/4 15:49:10 對(duì)比

Nikon EX12B步進(jìn)式光刻機(jī)步進(jìn)式光刻機(jī)光刻機(jī)
步進(jìn)式光刻機(jī)
1、Nikon SF120/130步進(jìn)式光刻機(jī)光源波長(zhǎng)365nm分辨率優(yōu)于0.28µm主要用于6寸、8寸及12寸生產(chǎn)線廣泛應(yīng)用于化合物半導(dǎo)體、MEMS...
型號(hào)： Nikon SF1... 所在地：深圳市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/4 15:46:17 對(duì)比

Nikon SF120/130步進(jìn)式光刻機(jī)步進(jìn)式光刻機(jī)光刻機(jī)
電容耦合等離子體刻蝕（CCP）設(shè)備
詳細(xì)介紹CCP腔室適用于制造微納結(jié)構(gòu)的等離子刻蝕技術(shù)。在反應(yīng)離子刻蝕過(guò)程中，等離子體中會(huì)包含大量的活性粒子，與表面原子產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)，生成可揮發(fā)產(chǎn)物后，隨真空抽氣...
型號(hào)： Haasrode&... 所在地：徐州市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/4 15:45:18 對(duì)比

CCP
Batch式高真空蒸發(fā)設(shè)備
Batch式高真空蒸發(fā)設(shè)備ei系列是可對(duì)應(yīng)在基板上成金屬膜或氧化物膜的設(shè)備?？赏ㄟ^(guò)操作面板實(shí)現(xiàn)抽真空、成膜等作業(yè)內(nèi)容的集中自動(dòng)化操作，適用于研究開(kāi)發(fā)及少量生產(chǎn)。
型號(hào)： ei系列所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/4 15:42:25 對(duì)比

Batch式高真空蒸發(fā)設(shè)備 ULVAC 愛(ài)發(fā)科 ei系列
涂膠顯影機(jī)
KS-FT200/300系列堆疊式高產(chǎn)能前道涂膠顯影機(jī)，為我司自主研發(fā)的突破晶圓前道28nm工藝節(jié)點(diǎn)及以上工藝制程，適用于ArF、KrF、I-Line、PI、B...
型號(hào)： KS-FT200/... 所在地：深圳市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/4 15:41:33 對(duì)比

涂膠顯影
等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積PECVD
提供大面積刻蝕與沉積的量產(chǎn)型解決方案，LED工業(yè)要求高產(chǎn)量，高器件質(zhì)量和低購(gòu)置成本。 PlasmaPro 1000更好地解決了這些需求。
型號(hào)： PlasmaPro... 所在地：深圳市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/4 15:39:11 對(duì)比

牛津 PECVD
光譜橢偏儀
UNECS系列是可以高速、高精度測(cè)量薄膜膜厚和折射率的分光橢偏儀。采用的測(cè)量方式，實(shí)現(xiàn)了高速測(cè)量和機(jī)體的小型化。我們的產(chǎn)品陣容包括便攜式，自動(dòng)式和對(duì)應(yīng)真空環(huán)境的...
型號(hào)： UNECS系列所在地：日本參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/4 15:39:06 對(duì)比

橢偏儀手動(dòng)型
步進(jìn)式光刻機(jī)
1、Nikon NSR 2205i14E步進(jìn)式光刻機(jī)光源波長(zhǎng)365nm分辨率優(yōu)于0.35µm主要用于2寸、4寸、6寸及8寸生產(chǎn)線，廣泛應(yīng)用于化合物半導(dǎo)...
型號(hào)： Nikon NSR... 所在地：深圳市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/4 15:37:08 對(duì)比

Nikon NSR 2205i14E步進(jìn)式光刻機(jī)步進(jìn)式光刻機(jī)光刻機(jī)
8英寸電感耦合等離子體化學(xué)氣相沉積設(shè)備
Shale® C系列電感耦合等離子體化學(xué)氣相沉積設(shè)備（ICP-CVD），通過(guò)電感耦合（ICP）產(chǎn)生高密度等離子體，并通過(guò)電容耦合（CCP）產(chǎn)生偏壓，可...
型號(hào)： Shale... 所在地：徐州市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/4 15:35:04 對(duì)比

ICP
活性化退火設(shè)備
PFS系列是SiC工藝等高溫處理工藝中，配合使用的退火設(shè)備?？勺畲髮?duì)應(yīng)φ 150mm。
型號(hào)： PFS系列所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/4 15:34:17 對(duì)比

活性化退火設(shè)備 PFS系列退火爐 ULVAC 愛(ài)發(fā)科
8英寸等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積設(shè)備
詳細(xì)介紹Shale® A系列等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積設(shè)備（PECVD），通過(guò)平行電容板電場(chǎng)放電產(chǎn)生等離子體，可以在400℃及以下沉積比較致密、均勻性較...
型號(hào)： Shale... 所在地：深圳市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/4 15:30:52 對(duì)比

PECVD
深硅刻蝕機(jī)
深硅刻蝕機(jī)HSE P300主要用于12英寸硅刻蝕。采用Cluster結(jié)構(gòu)布局，能夠減小占地，提升產(chǎn)能。系統(tǒng)主要由傳輸模塊、工藝模塊、灰區(qū)部件、電源柜等組成?？蓪?shí)...
型號(hào)： HSE系列所在地：深圳市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/4 15:25:22 對(duì)比

HSE 深硅刻蝕機(jī)北方華創(chuàng)
真空計(jì)
皮拉尼真空計(jì)，可以測(cè)量從大氣壓到5×10-2Pa的廣泛的壓力范圍該真空計(jì)從傳統(tǒng)的控制器（傳感器單元）中除去操作·顯示部，最大限度凝縮精簡(jiǎn)功能...
型號(hào)： SW系列所在地：日本參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/4 15:24:10 對(duì)比

真空計(jì)
氣相分解金屬沾污收集（VPD）設(shè)備
詳細(xì)介紹Seehund® A型氣相分解金屬沾污收集設(shè)備（VPD）是專(zhuān)為集成電路制造、大晶圓生產(chǎn)及再生、先導(dǎo)工藝研發(fā)等行業(yè)提供金屬沾污控制方案的產(chǎn)品。由...
型號(hào)： Seehund&#... 所在地：徐州市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/4 15:19:49 對(duì)比

金屬沾污收集
真空泵
VS系列是旋片式（單級(jí)）的油旋轉(zhuǎn)真空泵?？纱钆淞_茨泵獲得更大的排氣量。內(nèi)置油霧過(guò)濾器和回油裝置，排氣性能長(zhǎng)期穩(wěn)定。此外，設(shè)計(jì)上還考慮到了油和濾芯更換等維保的便宜...
型號(hào)： VS系列所在地：日本參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/4 15:10:10 對(duì)比

真空泵
半自動(dòng)CMP拋光機(jī)
CMP拋光機(jī)是一款針對(duì)薄膜（介質(zhì)層）的拋光設(shè)備，操作便捷，兼容性強(qiáng)，通過(guò)更換拋光壓頭實(shí)現(xiàn)不同尺寸晶圓的兼容，采用手動(dòng)裝片方式，可配置半自動(dòng)loading系統(tǒng)，氣...
型號(hào)： TMP-200S/... 所在地：深圳市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/4 15:08:39 對(duì)比

拋光
真空蒸餾設(shè)備
真空蒸餾設(shè)備CEH系列該設(shè)備的用途是真空蒸餾處理。可在真空下低溫短時(shí)間蒸餾熱感受性高的物質(zhì)（熱分解·重重合的物質(zhì)）。具有非常優(yōu)異的分離效率。
型號(hào)： CEH系列所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/4 15:06:41 對(duì)比

CEH系列真空蒸餾設(shè)備愛(ài)發(fā)科 ULVAC
12英寸槽式清洗設(shè)備
12英寸槽式清洗設(shè)備Pinnacle300平臺(tái)適用于集成電路、功率半導(dǎo)體、襯底材料、硅基微顯示領(lǐng)域的清洗工藝。該機(jī)臺(tái)主要由傳輸模塊、工藝模塊、藥液供給系統(tǒng)、電源...
型號(hào)： Pinnacle3... 所在地：北京市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/4 15:03:36 對(duì)比

Pinnacle300 12英寸槽式清洗設(shè)備北方華創(chuàng)
6/8英寸全自動(dòng)槽式清洗機(jī)
GAMA系列6/8英寸全自動(dòng)槽式清洗機(jī)滿足全部濕法工藝需求，覆蓋RCA、PR Strip、Solvent、Wet Etch等應(yīng)用，可用于典型0.35um、0.1...
型號(hào)： GAMA Seri... 所在地：北京市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/4 15:01:01 對(duì)比

GAMA Series 6/8英寸全自動(dòng)槽式清洗機(jī)北方華創(chuàng)

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