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原子層沉積ALD
Phoenix®系統(tǒng)經(jīng)過精心設計，可在從中試生產(chǎn)到工業(yè)級制造的任何制造環(huán)境中實現(xiàn)高吞吐量和最長的正常運行時間。技術(shù)人員和研究人員依靠 Phoenix&...
型號： Phoenix 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/5 10:02:26 對比

原子層沉積 ALD 薄膜沉積
立式/臥式管舟清洗設備
Bpure系列立式/臥式管舟清洗設備，全自動清洗，浸泡式清洗與噴淋式清洗工藝可選。
型號： Bpure系列所在地：北京市參考價：面議更新時間：2024/9/5 10:01:28 對比

立式/臥式管舟清洗設備 Bpure系列北方華創(chuàng)
桌面式高精密3D光刻機
織雀™PL-3D 是托托科技自主研發(fā)的桌面式高精密3D光刻設備，光學精度達5μm。在復雜三維微納結(jié)構(gòu)、高深寬比微納結(jié)構(gòu)以及復合材料三維微納結(jié)構(gòu)制造方...
型號：織雀™... 所在地：蘇州市參考價：面議更新時間：2024/9/5 9:58:29 對比

3D光刻光學精度達5μm
ICP 刻蝕機
NMC 508系列 ICP刻蝕機是電感耦合高密度等離子體（Inductively Coupled Plasma, ICP）干法刻蝕機，具有高精度、高選擇性和高效...
型號： NMC 508系列所在地：北京市參考價：面議更新時間：2024/9/5 9:58:11 對比

ICP刻蝕機 NMC 508系列北方華創(chuàng)
高真空脈沖激光濺射薄膜沉積系統(tǒng)
產(chǎn)品概述：高真空脈沖激光濺射薄膜沉積系統(tǒng)主要由濺射真空室、旋轉(zhuǎn)靶臺、抗氧化基片加熱臺、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、安裝機臺、真空測量及電控系統(tǒng)等部分組成。設備用途：用于...
型號： PLD300 所在地：沈陽市參考價：面議更新時間：2024/9/5 9:54:51 對比

高真空脈沖激光濺射薄膜沉積系統(tǒng)PLD 沈陽科儀
AL實時監(jiān)控器
SENTECH AL 實時監(jiān)測器是一種經(jīng)過驗證的光學診斷工具，可實現(xiàn)單個 ALD 和 ALE 周期的超高分辨率。主要應用是在不破壞真空的情況下分析薄膜特性（生長...
型號： SENTECH A... 所在地：德國參考價：面議更新時間：2024/9/5 9:53:27 對比

ALD 實時監(jiān)控
噪聲系數(shù)分析儀和噪聲源
噪聲系數(shù)分析儀和噪聲源解決方案包括噪聲系數(shù)分析儀、適用于是德科技信號分析儀和網(wǎng)絡分析儀的噪聲系數(shù)測量專用軟件等等。我們還提供了各式各樣的噪聲源，進一步完善這些...
型號： NFA 系列所在地：美國參考價：面議更新時間：2024/9/5 9:51:18 對比

半導體測試分析儀
高真空脈沖激光濺射薄膜沉積系統(tǒng)
產(chǎn)品概述：高真空脈沖激光濺射薄膜沉積系統(tǒng)主要由真空室、旋轉(zhuǎn)靶臺、基片加熱臺、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、安裝機臺、真空測量及電控系統(tǒng)等組成。設備用途：脈沖激光沉積(Pu...
型號： PLD450 所在地：沈陽市參考價：面議更新時間：2024/9/5 9:49:09 對比

PLD450 高真空脈沖激光濺射薄膜沉積系統(tǒng)
CMP后清洗機
GNP CLEANER-428L型CMP后清洗機集成了兩個雙刷站，設計緊湊，占地面積小，可清洗(4“~8“)晶圓。
型號： GNP CLEAN... 所在地：韓國參考價：面議更新時間：2024/9/5 9:48:10 對比

半導體濕法化學機械拋光
晶圓鍵合機
新型的 XBC300 Gen2 D2W/W2W晶圓鍵合機是將所有現(xiàn)有混合鍵合工藝集成到單一設備中的平臺： W2W、集體 D2W 和順序 D2W。這是蘇斯微技術(shù)...
型號： XBC300 Ge... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/5 9:42:26 對比

SUSS 晶圓鍵合
波形/函數(shù)信號測試發(fā)生器
波形/函數(shù)信號測試發(fā)生器提供您期望的標準信號和功能 — 調(diào)制、掃描和突發(fā)。它還具有一些功能，可為您提供快速完成工作所需的功能和靈活性，無論工作多么復雜。
型號： Trueform ... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/5 9:40:28 對比

發(fā)生器 KEYSIGHT
測量系統(tǒng)
DSM8/200 Gen2測量系統(tǒng)用于研發(fā)和大量產(chǎn)的對準測量SUSS DSM為廣泛的應用和基板提供從正面到反面的測量。測量結(jié)果詳細列出了了偏移矢量的各個分量：平...
型號： DSM8/200 ... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/5 9:38:20 對比

測量系統(tǒng)SUSS
掩模對準光刻機
掩模對準光刻機是用于 300 mm 和 200 mm 晶圓的高度自動化掩模對準平臺。SUSS MicroTec 的 MA300 Gen3 是一款高度自動化的掩模...
型號： MA300 Gen... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/5 9:31:21 對比

掩膜對準光刻半導體前道工藝
化學機械磨拋機
SL-1023化學機械磨拋機，適用于 CMP 平坦化和平滑化工藝技術(shù)，整機研磨部分采用防腐材料，耐化學腐蝕，配置自動滴料器和精密磨拋控制儀，全自動觸摸屏面板，...
型號： SL-1023 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/5 9:27:34 對比

SL-1023化學機械磨拋機 SL-1023 化學機械磨拋機磨拋機
鍵合對準機
鍵合對準機BA Gen4 是專為手動對準并鍵合兩個 200 毫米以下晶圓而設計的。選配掩模對準器工具后還可使用各種功能。BA Gen4 Series 用于先進封...
型號： BA Gen4 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/5 9:25:43 對比

晶圓鍵合
掩膜自動處理系統(tǒng)
掩模的完整性對高標準光刻工藝的成功起主要作用。MaskTrack Pro 掩膜自動處理系統(tǒng)滿足下一代光刻節(jié)點在掩模清洗、烘烤和顯影工藝方面的所有標準。它是應對 ...
型號： MaskTrack... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/5 9:14:28 對比

掩模清洗烘烤顯影
功率分析儀
是德科技交流功率分析儀更快速、更輕松地完成所有重要的功率測量。是德科技直流電源分析儀，幾分鐘即可洞察直流上電性能。無需任何編程，在研發(fā)階段輕松執(zhí)行直流上電測試
型號： PA220系列所在地：美國參考價：面議更新時間：2024/9/4 22:02:54 對比

半導體分析儀測試 PA220系列是德科技
脈沖信號測試機
是德科技高速脈沖發(fā)生器為數(shù)字和模擬波形及數(shù)據(jù)信號的生成提供了全面的激勵解決方案組合。是德科技脈沖信號測試機設備的頻率范圍為 1μHz 至 56 Gb/s，輸出幅...
型號：所在地：美國參考價：面議更新時間：2024/9/4 21:31:45 對比

KEYSIGHT 信號發(fā)生器
KEYSIGHT直流電源
KEYSIGHT直流電源在選擇過程中應考慮的關鍵特性來幫助您選擇正確的可變直流電源。可編程直流電源的關鍵方面包括可用功率、噪聲要求、編程精度、可用軟件等。
型號： E36200 系列所在地：美國參考價：面議更新時間：2024/9/4 21:25:14 對比

KEYSIGHT 電源
精密型電流－電壓分析儀
精密型電流－電壓分析儀系列將功能強大的表征軟件與綜合 SMU 結(jié)合，能夠確保準確和高效的電流－電壓測量，為您分析各種應用中的 IV 特征提供清晰的洞察力。
型號： B1500A 所在地：美國參考價：面議更新時間：2024/9/4 21:24:12 對比

分析儀電流電壓

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