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當(dāng)前位置：深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司>>其他前道工藝設(shè)備>>7 CMP>> GNP POLI-610CMP
| 參 考 價: | 面議 |
產(chǎn)品型號GNP POLI-610
品牌G&P
廠商性質(zhì)經(jīng)銷商
所在地韓國
更新時間：2024-09-04 16:51:37瀏覽次數(shù)：181次
聯(lián)系我時，請告知來自 化工儀器網(wǎng)1. 產(chǎn)品概述
GnP POLI-610專為藍寶石等復(fù)合晶圓的CMP工藝開發(fā)而設(shè)計。特別是該系統(tǒng)對于晶圓工藝開發(fā)具有較低的擁有成本，材料評估和生產(chǎn)前運行。
2. 規(guī)格
機頭，工作臺:30~ 200rpm，旋轉(zhuǎn)運動，機頭振蕩(±12mm)
尺寸:1200W* 1290D * 1960H mm
壓板尺寸:0635毫米(25英寸)，陽極氧化鋁(可選:特氟龍涂層)
壓制方式:可變空氣壓力
電子控制器載體類型:350kgfWafer Down Force & Conditioning Load Monitoring System
工藝:自動順序，干/濕
選項墊式調(diào)理方式:振蕩頭式
雙頭系統(tǒng):振蕩頭式
摩擦力和溫度監(jiān)測系統(tǒng)
應(yīng)用程序
工件:最多8 ea的3英寸晶圓/運行，最多6 ea的4英寸晶圓/運行
CMP工藝:SiC、GaN、藍寶石等復(fù)合晶圓的CMP工藝。
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