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PICOSUN R-200標(biāo)準(zhǔn)型ALD系統(tǒng)PX 1610
SAL1000G原子層沉積系統(tǒng)PX 3202
氣相液相儀華粵行IVF顯微操作胚胎移植PX 2029
PICOSUN ALD R-300PICOSUN原子層沉積系統(tǒng)ALD R-300高級(jí)版PX 3255
TFS 200原子層沉積研究設(shè)備PX 1800
等離子體增強(qiáng)原子層沉積鍍膜系統(tǒng)PX 2729
GM10/100/1000正極材料包覆PX 2807
NLD-3500(M)原子層沉積系統(tǒng)PX 2972
便攜式樣品傳送腔體PX 4054
AT-600原子層沉積系統(tǒng)PX 3230
P 系列粉末原子層沉積系統(tǒng)PX 3147
ALD R-200原子層沉積系統(tǒng)PX 2966
VE-2012日本shinkuu真空簡單的真空氣相沉積系統(tǒng)PX 4972
AT 200M迷你原子層沉積系統(tǒng)-可放入手套箱PX 1610
原子團(tuán)簇束流系統(tǒng)桌面式PX 0
工業(yè)半導(dǎo)體微納加工二維材料實(shí)驗(yàn)室設(shè)備PX 2029
PE鉑金埃爾默ICPMSPX 2029
氣相沉積光刻機(jī)刻蝕機(jī)磁控濺射PX 2029
便攜式樣品傳送腔體沉積系統(tǒng)PX 2029
4/6英寸輻射式樣品臺(tái)系統(tǒng)PX 2029
插拔式加熱器沉積系統(tǒng)PX 2029
脈沖激光沉積樣品臺(tái)PX 2029
脈沖激光沉積靶臺(tái)PX 2029
脈沖激光沉積系統(tǒng)激光光路PX 2029
單腔體脈沖激光沉積系統(tǒng)PX 2029
雙腔體脈沖激光沉積系統(tǒng)PX 2029
電漿原子層沉積設(shè)備PX 2029
原子層沉積設(shè)備2PX 2029
原子層沉積系統(tǒng)PX 2029
批量式電漿輔助氣相沉積設(shè)備PX 2029
FPD-PECVD 電漿輔助化學(xué)氣相沉積PX 2029
感應(yīng)耦合電漿化學(xué)氣相沉積設(shè)備PX 2029
低真空化學(xué)氣相沉積設(shè)備PX 2029
電漿輔助式化學(xué)氣相沉積設(shè)備PX 2029
化學(xué)氣相沉積PX 2029
PECVD等離子沉積設(shè)備DEPOLAB 200PX 2029
帶預(yù)真空室的化學(xué)氣相沉積設(shè)備SI 500 PPDPX 2029
等離子沉積設(shè)備SI 500 DPX 2029
化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)PX 2029
沉積系統(tǒng)PX 2029
薄膜生長設(shè)備
工藝測量和檢測設(shè)備
集成電路測試與分選設(shè)備
光刻及涂膠顯影設(shè)備
熱工藝設(shè)備/熱處理設(shè)備
硅片制備/晶體生長設(shè)備
掩模版和中間掩模版制造設(shè)備
離子注入設(shè)備
干法工藝設(shè)備
濕法工藝設(shè)備
組裝與封裝設(shè)備
其它半導(dǎo)體行業(yè)儀器設(shè)備
迷你原子層沉積系統(tǒng)-可放入手套箱
氣相液相儀華粵行IVF顯微操作胚胎移植
工業(yè)半導(dǎo)體微納加工二維材料實(shí)驗(yàn)室設(shè)備
PE鉑金埃爾默ICPMS
氣相沉積光刻機(jī)刻蝕機(jī)磁控濺射
原子層沉積ALD
等離子增強(qiáng)原子層沉積PEALD
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賽默飛色譜及質(zhì)譜
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對(duì)夾式蝶閥廠家
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