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C2GR16-立式氣相沉積爐PX 2690
C2GR16-氣相沉積爐PX 2712
GS-30-700廣樹CVD化學(xué)氣相沉積碳鍍膜機PX 3756
ICP-500D薄膜沉積CVDPX 3255
線列式PECVD高真空等離子體增強化學(xué)氣相薄膜沉積系統(tǒng)PX 1800
PECVD+RIE等離子體增強化學(xué)氣相沉積設(shè)備PX 2729
微波等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)PX 2972
FPSEM-ICP200D等離子體增強化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)PX 4378
TF-1200-PECVD等離子增強化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)PX 2430
MFC-5ZCVD化學(xué)氣相沉積多通道質(zhì)量流量控制系統(tǒng)PX 3606
CVD化學(xué)氣相沉積裝置PX 3097
CYRANNUS微波等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)PX 2907
FL-800N低溫化學(xué)氣相沉積冷卻系統(tǒng)-試驗用冷水機PX 6764
NPE-3500 PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)PX 3220
ZT-60-15立式化學(xué)氣相沉積爐PX 4109
等離子體化學(xué)氣相沉積設(shè)備PX 1930
轉(zhuǎn)移多壁碳納米管垂直陣列(化學(xué)氣相沉積法)PX 4162
Trion Orion HDCVDTrion Orion HDCVD高密度化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)PX 2456
TF1200-PECVD型等離子增強化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)PX 3728
WBMW-QXCJ4任氏巨源實驗室常用微波化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)PX 0
WBMW-DLZ3巨源實驗室常用微波等離子體化學(xué)氣相沉積PX 0
GS-30-700(廣樹)高溫化學(xué)氣相沉積碳鍍膜機PX 3756
ICP-500DICP等離子沉積系統(tǒng)-SI 500DPX 3255
Cluster PECVD高真空等離子體增強化學(xué)氣相薄膜沉積系統(tǒng)PX 1800
customized低壓化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)LPCVDPX 1800
customized等離子增強化學(xué)氣相沉積PECVDPX 1800
customized化學(xué)氣相沉積MOCVDPX 1800
PD-200STL等離子體增強型CVD系統(tǒng)PX 1800
PD-270STLC等離子體增強CVD系統(tǒng)PX 1800
PD-100ST等離子體增強CVD系統(tǒng)PX 1800
PlasmaPro 80 PECVD等離子增強化學(xué)氣相沉積PECVDPX 1800
PD-220NL化學(xué)氣相沉積 (PECVD) 系統(tǒng)PX 1800
PD-3800L化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)PX 1800
PlasmaPro 800 PECVD等離子增強化學(xué)氣相沉積PECVDPX 1800
PD-2201LC化學(xué)氣相沉積 (PECVD) 設(shè)備PX 1800
PlasmaPro 100 PECVD等離子增強化學(xué)氣相沉積PECVDPX 1800
HORIC L200 系列臥式 LPCVD 氣相沉積系統(tǒng)PX 1800
Automotive Lamp Reflector薄膜沉積鍍膜系統(tǒng)PX 1800
PlasmaPro 100 ICPCVD電感耦合等離子體化學(xué)氣相沉積ICPCVDPX 1800
Batch Type部件鍍膜設(shè)備PX 1800
薄膜生長設(shè)備
工藝測量和檢測設(shè)備
集成電路測試與分選設(shè)備
光刻及涂膠顯影設(shè)備
熱工藝設(shè)備/熱處理設(shè)備
硅片制備/晶體生長設(shè)備
掩模版和中間掩模版制造設(shè)備
離子注入設(shè)備
干法工藝設(shè)備
濕法工藝設(shè)備
組裝與封裝設(shè)備
其它半導(dǎo)體行業(yè)儀器設(shè)備
薄膜沉積CVD
部件鍍膜設(shè)備
薄膜沉積鍍膜系統(tǒng)
C2GR16-立式氣相沉積爐
金屬有機化學(xué)氣相沉積MOCVD
金屬化學(xué)氣相沉積MOCVD
ICP沉積系統(tǒng)
開蓋等離子體沉積系統(tǒng)PECVD
等離子增加化學(xué)氣相沉積CVD系統(tǒng)
智能型PECVD系統(tǒng)(含壓力控制系統(tǒng))
上海衡平儀器儀表有限公司
賽默飛色譜及質(zhì)譜
上海平軒科學(xué)儀器有限公司
廣播電視節(jié)目經(jīng)營許可證
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