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          氣相沉積光刻機(jī)刻蝕機(jī)磁控濺射

          具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
          • 公司名稱 北京瑞科中儀科技有限公司
          • 品牌 其他品牌
          • 型號(hào)
          • 產(chǎn)地
          • 廠商性質(zhì) 代理商
          • 更新時(shí)間 2024/10/10 13:21:39
          • 訪問次數(shù) 160
          產(chǎn)品標(biāo)簽

          化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)

          聯(lián)系方式:汪先生查看聯(lián)系方式

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          北京瑞科中儀科技有限公司一家是專門從事數(shù)碼光學(xué)顯微鏡及相關(guān)實(shí)驗(yàn)室設(shè)備研發(fā)與銷售的新型高科技公司,也專注于半導(dǎo)體材料研究與分析設(shè)備的經(jīng)銷和代理,為高校、企業(yè)科研工作者提供專業(yè)的材料分析解決方案,北京瑞科中儀科技有限公司長(zhǎng)期代理銷售供應(yīng)多種分子材料的研究分析設(shè)備,其中包括但不限于掃描電子顯微鏡、感應(yīng)耦合等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)、離子束刻蝕機(jī)、等離子清洗機(jī)、物理氣相沉積系統(tǒng)以及各品牌的光學(xué)顯微鏡以及實(shí)驗(yàn)室設(shè)備儀器,以專業(yè)能力導(dǎo)向,精細(xì)工藝流程,用科學(xué)手段解決科研中遇到的難題.彼此協(xié)作,為我國(guó)的科研領(lǐng)域譜寫新篇章。

          公司主要產(chǎn)品包括:生物顯微鏡、金相顯微鏡、偏光顯微鏡、體視顯微鏡、數(shù)碼顯微鏡、顯微鏡數(shù)碼相機(jī)照相接口、顯微鏡*冷光源、數(shù)碼圖像分析系統(tǒng)、測(cè)量顯微鏡、三座標(biāo)測(cè)量顯微鏡,激光細(xì)胞顯微操作 拉曼顯微鏡光學(xué)儀器及設(shè)備/光學(xué)顯微鏡/熒光顯微鏡光學(xué)儀器及設(shè)備/電子顯微鏡/其它電子顯微鏡半導(dǎo)體行業(yè)專用儀器/其它半導(dǎo)體行業(yè)儀器設(shè)備其它半導(dǎo)體設(shè)備生命科學(xué)儀器/分子生物學(xué)儀器/PCR儀生命科學(xué)儀器/分子生物學(xué)儀器/基因測(cè)序儀生命科學(xué)儀器/分子生物學(xué)儀器/DNA合成儀半導(dǎo)體行業(yè)專用儀器/薄膜生長(zhǎng)設(shè)備/其它薄膜沉積設(shè)備半導(dǎo)體行業(yè)專用儀器/光刻及涂膠顯影設(shè)備/無(wú)掩模光刻機(jī)/直寫光刻機(jī)

          公司經(jīng)銷代理品牌包括:蔡司顯微鏡,奧林巴斯顯微鏡,尼康顯微鏡,徠卡顯微鏡,國(guó)產(chǎn)各廠家顯微鏡, 華粵行 ,基恩士 , 日本電,日立 ,布魯克,三和聯(lián), sentech(森泰克),SYSKEY(矽碁), PE(鉑金埃爾默)全系產(chǎn)品 ,天美愛丁堡,原子光譜,氣相色譜,PE(鉑金埃爾默)全系產(chǎn)品

          代理經(jīng)銷的產(chǎn)品種類包括,熒光顯微鏡,熒光顯微成像系統(tǒng),激光捕獲顯微切割,全自動(dòng)切片掃描,三維超景深顯微系統(tǒng),動(dòng)物超聲系統(tǒng),3D超景深顯微鏡,形貌探測(cè)顯微鏡,蔡司共聚焦顯微鏡,全自動(dòng)數(shù)字切片掃描,病理切片掃描,激光切割顯微系統(tǒng),立體顯微鏡,國(guó)產(chǎn)激光共聚焦顯微鏡,精準(zhǔn)醫(yī)學(xué)顯微切割,激光顯微切割系統(tǒng),按需搭建顯微系統(tǒng),熒光光譜儀,激光細(xì)胞顯微操作 拉曼顯微鏡光學(xué)儀器及設(shè)備/光學(xué)顯微鏡/熒光顯微鏡光學(xué)儀器及設(shè)備/電子顯微鏡/其它電子顯微鏡半導(dǎo)體行業(yè)專用儀器/其它半導(dǎo)體行業(yè)儀器設(shè)備其它半導(dǎo)體設(shè)備生命科學(xué)儀器/分子生物學(xué)儀器/PCR儀生命科學(xué)儀器/分子生物學(xué)儀器/基因測(cè)序儀生命科學(xué)儀器/分子生物學(xué)儀器/DNA合成儀半導(dǎo)體行業(yè)專用儀器/薄膜生長(zhǎng)設(shè)備/其它薄膜沉積設(shè)備半導(dǎo)體行業(yè)專用儀器/光刻及涂膠顯影設(shè)備/無(wú)掩模光刻機(jī)/直寫光刻機(jī)


          公司成立伊始,即本著“以人為本,誠(chéng)信發(fā)展,合作共贏"的企業(yè)宗旨,快樂中結(jié)識(shí)新朋友,穩(wěn)步中追求新發(fā)展。目前公司已經(jīng)擁有一支由專業(yè)技術(shù)人員、營(yíng)銷人員和維修人員組成的強(qiáng)大隊(duì)伍,竭誠(chéng)為廣大客戶提供包括技術(shù)咨詢、產(chǎn)品配套、安裝調(diào)試、應(yīng)用指導(dǎo)、維護(hù)保養(yǎng)在內(nèi)的整套細(xì)致入微的服務(wù)。同時(shí)公司還依托中國(guó)地質(zhì)研究院、清華大學(xué)、中國(guó)農(nóng)業(yè)大學(xué)、中科院等科研院所的強(qiáng)大技術(shù)實(shí)力,特聘多名教授、博士作為我公司提供多方面的技術(shù)支持。

          公司儲(chǔ)備各顯微鏡現(xiàn)貨,只要您有需求,我們就能隨時(shí)為您提供各種產(chǎn)品選配服務(wù)。公司管理層、營(yíng)銷隊(duì)伍和技術(shù)人員都具備多年的專業(yè)技術(shù)經(jīng)驗(yàn),相信我們的質(zhì)量和服務(wù)一定是顯微光學(xué)領(lǐng)域中無(wú)法可比的。

          北京瑞科中儀科技有限公司秉承“專業(yè)的人員,過硬的技術(shù),優(yōu)秀的產(chǎn)品"精神,為您提供專業(yè)、及時(shí)、周到的技術(shù)服務(wù),北京瑞科中儀科技有限公司必將成為您值得信賴的伙伴!












          顯微鏡,激光共聚焦,電鏡,x射線,激光捕獲顯微切割,熒光成像系統(tǒng),DNA/RNA合成儀,半導(dǎo)體行業(yè)儀器設(shè)備,生命科學(xué)儀器,光刻機(jī),

          價(jià)格區(qū)間 100萬(wàn)-200萬(wàn) 應(yīng)用領(lǐng)域 環(huán)保,生物產(chǎn)業(yè),石油,制藥,綜合

          氣相沉積光刻機(jī)刻蝕機(jī)磁控濺射介紹:

          工藝靈活性

          PECVD沉積設(shè)備SI 500 PPD便于在從室溫到350℃的溫度范圍內(nèi)進(jìn)行SiO2、SiNx、SiOxNy和a-Si的標(biāo)準(zhǔn)的化學(xué)氣相沉積工藝。

          預(yù)真空室

          SI 500 PPD化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)的特色是預(yù)真空室和干泵裝置,用于無(wú)油、高產(chǎn)量和潔凈的化學(xué)氣相沉積過程。

          SENTECH控制軟件

          強(qiáng)大的用戶界面友好軟件包括模擬圖形用戶界面,參數(shù)窗口,工藝處方編輯窗口,數(shù)據(jù)記錄和用戶管理。

          SI 500 PPD代表了的等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積設(shè)備,用于介質(zhì)膜、非晶硅、碳化硅和其他材料的沉積。它基于平板電容耦合等離子體源,預(yù)真空室,溫控襯底電極,可選的低頻射頻源、全自動(dòng)控制的無(wú)油真空系統(tǒng)、的SENTECH控制軟件,采用遠(yuǎn)程現(xiàn)場(chǎng)總線技術(shù),以及用戶友好的通用界面來(lái)操作SI 500 PPD。

          SI 500 PPD等離子沉積設(shè)備,可以加工從大到200毫米直徑的晶片到裝載在載片器上的零件。單晶片預(yù)真空室保證穩(wěn)定的工藝條件,并實(shí)現(xiàn)簡(jiǎn)易切換的過程。

          SI 500 PPD等離子增強(qiáng)沉積設(shè)備用于在從室溫到350℃的溫度范圍內(nèi)沉積SiO2、SiNx、SiONx和a-Si薄膜。通過液態(tài)或氣態(tài)前驅(qū)體,SI 500 PPD可以為TEOS, SiC和其它材料的沉積提供解決方案。SI 500 PPD特別適用于化學(xué)氣相沉積用于刻蝕掩膜,鈍化膜,波導(dǎo)及其他的介質(zhì)膜和非晶硅。

          SENTECH提供不同級(jí)別的自動(dòng)化程度,從真空片盒載片到一個(gè)工藝腔室或至多六個(gè)工藝模塊端口,可用于不同的蝕刻和沉積工藝模塊組成多腔系統(tǒng),目標(biāo)是高靈活性或高產(chǎn)量。SI 500 PPD也可用作多腔沉積系統(tǒng)中的一個(gè)工藝模塊。

          氣相沉積光刻機(jī)刻蝕機(jī)磁控濺射圖片介紹:

          氣相沉積光刻機(jī)刻蝕機(jī)磁控濺射氣相沉積光刻機(jī)刻蝕機(jī)磁控濺射氣相沉積光刻機(jī)刻蝕機(jī)磁控濺射氣相沉積光刻機(jī)刻蝕機(jī)磁控濺射氣相沉積光刻機(jī)刻蝕機(jī)磁控濺射氣相沉積光刻機(jī)刻蝕機(jī)磁控濺射氣相沉積光刻機(jī)刻蝕機(jī)磁控濺射









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