氣相沉積光刻機(jī)刻蝕機(jī)磁控濺射
- 公司名稱 北京瑞科中儀科技有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號(hào)
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 代理商
- 更新時(shí)間 2024/10/10 13:21:39
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價(jià)格區(qū)間 | 100萬(wàn)-200萬(wàn) | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 環(huán)保,生物產(chǎn)業(yè),石油,制藥,綜合 |
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氣相沉積光刻機(jī)刻蝕機(jī)磁控濺射介紹:
工藝靈活性
PECVD沉積設(shè)備SI 500 PPD便于在從室溫到350℃的溫度范圍內(nèi)進(jìn)行SiO2、SiNx、SiOxNy和a-Si的標(biāo)準(zhǔn)的化學(xué)氣相沉積工藝。
預(yù)真空室
SI 500 PPD化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)的特色是預(yù)真空室和干泵裝置,用于無(wú)油、高產(chǎn)量和潔凈的化學(xué)氣相沉積過程。
SENTECH控制軟件
強(qiáng)大的用戶界面友好軟件包括模擬圖形用戶界面,參數(shù)窗口,工藝處方編輯窗口,數(shù)據(jù)記錄和用戶管理。
SI 500 PPD代表了的等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積設(shè)備,用于介質(zhì)膜、非晶硅、碳化硅和其他材料的沉積。它基于平板電容耦合等離子體源,預(yù)真空室,溫控襯底電極,可選的低頻射頻源、全自動(dòng)控制的無(wú)油真空系統(tǒng)、的SENTECH控制軟件,采用遠(yuǎn)程現(xiàn)場(chǎng)總線技術(shù),以及用戶友好的通用界面來(lái)操作SI 500 PPD。
SI 500 PPD等離子沉積設(shè)備,可以加工從大到200毫米直徑的晶片到裝載在載片器上的零件。單晶片預(yù)真空室保證穩(wěn)定的工藝條件,并實(shí)現(xiàn)簡(jiǎn)易切換的過程。
SI 500 PPD等離子增強(qiáng)沉積設(shè)備用于在從室溫到350℃的溫度范圍內(nèi)沉積SiO2、SiNx、SiONx和a-Si薄膜。通過液態(tài)或氣態(tài)前驅(qū)體,SI 500 PPD可以為TEOS, SiC和其它材料的沉積提供解決方案。SI 500 PPD特別適用于化學(xué)氣相沉積用于刻蝕掩膜,鈍化膜,波導(dǎo)及其他的介質(zhì)膜和非晶硅。
SENTECH提供不同級(jí)別的自動(dòng)化程度,從真空片盒載片到一個(gè)工藝腔室或至多六個(gè)工藝模塊端口,可用于不同的蝕刻和沉積工藝模塊組成多腔系統(tǒng),目標(biāo)是高靈活性或高產(chǎn)量。SI 500 PPD也可用作多腔沉積系統(tǒng)中的一個(gè)工藝模塊。
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