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          VTC-1HD-ZF2高真空磁控濺射蒸發(fā)鍍膜儀

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            沈陽科晶立足國內(nèi)市場(chǎng)實(shí)際情況,以提供Z為實(shí)用的產(chǎn)品為己任。產(chǎn)品的質(zhì)量、精度在向國外企業(yè)看齊的基礎(chǔ)上,產(chǎn)品的價(jià)格定位卻僅僅是其幾分之一。性價(jià)比不僅吸引了眾多國內(nèi)客戶,而且令挑剔的外國客商也稱贊不已,產(chǎn)品遠(yuǎn)銷于印度、馬來西亞、土耳其、波蘭、突尼斯、澳大利亞等國家,并大量出口于美國。

            沈陽科晶為了更好地服務(wù)客戶,專門設(shè)立了開放式專業(yè)實(shí)驗(yàn)室,配備了優(yōu)秀的專業(yè)技術(shù)人員。在這里,不僅可以提供親身的產(chǎn)品體驗(yàn)環(huán)境,而且還可得到專業(yè)人員的操作指導(dǎo)。開設(shè)以來,制作的樣品達(dá)上千件,接待來訪客參觀戶百余次,其中包括多次外國友人的來訪。在此,沈陽科晶全體員工誠摯地歡迎您的到來,并希望您能提出寶貴的意見與建議。

            沈陽科晶一路走過的歷程,是為我國材料研究事業(yè)全力貢獻(xiàn)的歷程,是以實(shí)際行動(dòng)將自己打造成國內(nèi)材料分析設(shè)備品牌的歷程,是與國外同行不斷縮小差距的歷程,是與廣大客戶相扶相持的成長(zhǎng)歷程。雖一路充滿坎坷與荊棘,但堅(jiān)持不懈的沈陽科晶人仍全力以赴的前行。秉承這份堅(jiān)持,相信在不久的將來,沈陽科晶也將會(huì)成為市場(chǎng)上專業(yè)的、杰出的材料分析設(shè)備品牌,沈陽科晶的明天會(huì)更加燦爛輝煌。

           

          我們擁有同類型中優(yōu)質(zhì)性價(jià)比的產(chǎn)品!                 

                您正在為材料與設(shè)備無從下手而焦急嗎?

          歡迎來到沈陽科晶,我們是國內(nèi)實(shí)驗(yàn)室樣品制備設(shè)備領(lǐng)域的專家!

           

           

           

           

           

           

           

           

          切割機(jī),金剛石線切割機(jī),研磨拋光機(jī),提拉涂膜機(jī),旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī),真空鍍膜機(jī),管式爐,箱式爐,電池實(shí)驗(yàn)研究設(shè)備,清洗機(jī)

          產(chǎn)地類別 國產(chǎn) 價(jià)格區(qū)間 面議
          應(yīng)用領(lǐng)域 電子,冶金,綜合
          產(chǎn)品簡(jiǎn)介VTC-1HD-ZF2高真空磁控濺射蒸發(fā)鍍膜儀

          VTC-1HD-Z F2高真空磁控濺射蒸發(fā)鍍膜儀是多功能高真空鍍膜設(shè)備,含單靶磁控濺射儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。

          本機(jī)設(shè)置1個(gè)蒸鍍加熱舟,特別適合蒸鍍對(duì)氧較敏感的金屬膜(如Ti、Al 、Au等),加熱舟上方有一個(gè)可旋轉(zhuǎn)擋板;2只束源爐工位(標(biāo)配1只束源爐);1組流量計(jì)(氬氣一組)帶φ150玻璃觀察窗。

          技術(shù)參數(shù)VTC-1HD-ZF2高真空磁控濺射蒸發(fā)鍍膜儀

          產(chǎn)品名稱

          VTC-1HD-ZF2高真空磁控濺射蒸發(fā)鍍膜儀

          產(chǎn)品型號(hào)

          VTC-1HD-ZF2

          主要參數(shù)

          1、真空室:φ324X330

          極限真空6.0X10-4Pa(采用國產(chǎn)FF-150升渦輪分子泵+機(jī)械泵)

          漏率:2.0x10-10Pa.m3/s

          材料為304不銹鋼焊接,電化學(xué)表面拋光處理。

          活動(dòng)處密封采用橡膠密封圈,不活動(dòng)處密封采用銅密封圈密封。

          動(dòng)力傳動(dòng)采用磁耦合聯(lián)動(dòng)方式。

          真空室一個(gè)磁控靶位、一組蒸發(fā)電極(兩只)、2只束源爐工位(標(biāo)配1只束源爐)。

          1組流量計(jì)(氬氣一組)帶φ150玻璃觀察窗,另預(yù)留C35法蘭接口。

          2、濺射靶頭:2吋(φ50.8mm)

          工作真空度:10Pa~0.2Pa

          靶材利用率:>35%(標(biāo)準(zhǔn)3mm銅靶材,靶面真空度0.5Pa)

          MAX功率:<240W(充分冷卻)

          絕緣電壓:>2000V(配套500W直流電源1個(gè))

          3、電阻蒸發(fā):

          蒸發(fā)輸出電壓:AC 0-8V連續(xù)可調(diào)

          極限蒸發(fā)電流200A

          極限蒸發(fā)功率<1.6KW

          溫度不可控,不可測(cè)。

          4、束源爐:坩堝容量:3CC

          加熱溫度:室溫-700°C

          加熱溫度可測(cè)、可調(diào)、可控。

          控溫精度:±0.5°C

          標(biāo)配石英坩堝,帶擋板、熱電偶。

          電源功率:500W、36V

          5、樣品臺(tái):φ120

          溫控:室溫-500°C

          轉(zhuǎn)數(shù):1-20rpm

          樣品臺(tái)可手動(dòng)升降,可調(diào)行程上限:50mm

          6、EQ-TM106-1膜厚儀

          1)電源:DC  5V(±10%),MAX電流400mA

          2)頻率分辨率:±0.03Hz

          3)膜厚分辨率:0.0136?(鋁)

          4)膜厚準(zhǔn)確度:±0.5%,取決于過程條件,特別是傳感器的位置,材料應(yīng)力,溫度和密度。

          5)測(cè)量速度:100ms-1s/次,可設(shè)置

          6)測(cè)量范圍:500000?(鋁)

          7)標(biāo)準(zhǔn)傳感器晶體:6MHz

          8)計(jì)算機(jī)接口:RS-232/485串行接口(波特率1200、2400、4800、9600、19200、38400可設(shè)置,數(shù)據(jù)位:8,停止位:1,校驗(yàn):無)

          9)模擬輸出:8比特分辨率,PWM脈寬調(diào)制輸出(集電極開路或內(nèi)部5V輸出)

          10)工作環(huán)境:溫度0-50℃,濕度5%-85%RH,不得有冷凝水珠

          11)外形尺寸:90mm×50mm×18mm

          7、設(shè)備標(biāo)配冷水機(jī)組1臺(tái)(KJ5000型),客戶自備冷水機(jī)及去離子水或純凈水。

          8、整機(jī)電源輸入:AC220V/50Hz。功率<3.5KW。

          9、產(chǎn)品規(guī)格:

          尺寸:約1300mm×660mm×1200mm;         重量:約160 kg






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