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          VTC-600-3HD-1000三靶磁控濺射儀

          具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

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            沈陽(yáng)科晶立足國(guó)內(nèi)市場(chǎng)實(shí)際情況,以提供Z為實(shí)用的產(chǎn)品為己任。產(chǎn)品的質(zhì)量、精度在向國(guó)外企業(yè)看齊的基礎(chǔ)上,產(chǎn)品的價(jià)格定位卻僅僅是其幾分之一。性價(jià)比不僅吸引了眾多國(guó)內(nèi)客戶,而且令挑剔的外國(guó)客商也稱贊不已,產(chǎn)品遠(yuǎn)銷于印度、馬來(lái)西亞、土耳其、波蘭、突尼斯、澳大利亞等國(guó)家,并大量出口于美國(guó)。

            沈陽(yáng)科晶為了更好地服務(wù)客戶,專門設(shè)立了開(kāi)放式專業(yè)實(shí)驗(yàn)室,配備了優(yōu)秀的專業(yè)技術(shù)人員。在這里,不僅可以提供親身的產(chǎn)品體驗(yàn)環(huán)境,而且還可得到專業(yè)人員的操作指導(dǎo)。開(kāi)設(shè)以來(lái),制作的樣品達(dá)上千件,接待來(lái)訪客參觀戶百余次,其中包括多次外國(guó)友人的來(lái)訪。在此,沈陽(yáng)科晶全體員工誠(chéng)摯地歡迎您的到來(lái),并希望您能提出寶貴的意見(jiàn)與建議。

            沈陽(yáng)科晶一路走過(guò)的歷程,是為我國(guó)材料研究事業(yè)全力貢獻(xiàn)的歷程,是以實(shí)際行動(dòng)將自己打造成國(guó)內(nèi)材料分析設(shè)備品牌的歷程,是與國(guó)外同行不斷縮小差距的歷程,是與廣大客戶相扶相持的成長(zhǎng)歷程。雖一路充滿坎坷與荊棘,但堅(jiān)持不懈的沈陽(yáng)科晶人仍全力以赴的前行。秉承這份堅(jiān)持,相信在不久的將來(lái),沈陽(yáng)科晶也將會(huì)成為市場(chǎng)上專業(yè)的、杰出的材料分析設(shè)備品牌,沈陽(yáng)科晶的明天會(huì)更加燦爛輝煌。

           

          我們擁有同類型中優(yōu)質(zhì)性價(jià)比的產(chǎn)品!                 

                您正在為材料與設(shè)備無(wú)從下手而焦急嗎?

          歡迎來(lái)到沈陽(yáng)科晶,我們是國(guó)內(nèi)實(shí)驗(yàn)室樣品制備設(shè)備領(lǐng)域的專家!

           

           

           

           

           

           

           

           

          切割機(jī),金剛石線切割機(jī),研磨拋光機(jī),提拉涂膜機(jī),旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī),真空鍍膜機(jī),管式爐,箱式爐,電池實(shí)驗(yàn)研究設(shè)備,清洗機(jī)

          產(chǎn)地類別 國(guó)產(chǎn) 價(jià)格區(qū)間 面議
          應(yīng)用領(lǐng)域 冶金,綜合

          VTC-600-3HD-1000三靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開(kāi)發(fā)的一款高真空鍍膜設(shè)備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-3HD-1000三靶磁控濺射儀配備有三個(gè)靶槍和三個(gè)電源,一個(gè)射頻電源用于非導(dǎo)電材料的濺射鍍膜,一個(gè)直流電源用于導(dǎo)電材料的濺射鍍膜,可選配強(qiáng)磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜。與同類設(shè)備相比,且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn),且可使用的材料范圍廣,是一款實(shí)驗(yàn)室制備各類材料薄膜的理想設(shè)備。
          1、配置三個(gè)靶槍,兩個(gè)配套射頻電源用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜,一個(gè)配套直流電源用于導(dǎo)電性材料的濺射鍍膜。
          2、可制備多種薄膜,應(yīng)用廣泛。
          3、體積小,操作簡(jiǎn)便。

          產(chǎn)品名稱

          VTC-600-3HD-1000雙靶磁控濺射儀

          產(chǎn)品型號(hào)
          VTC-600-3HD-1000
          主要參數(shù)

          1、輸入電源:220V/50Hz 
          2、濺射靶數(shù)量:3
          3、腔體內(nèi)徑:?300mm
          4、靶槍冷卻方式:水冷 
          5、極限真空度:7.4E-5pa 
          6、真空室規(guī)格:Φ300×330 mm 
          7、真空系統(tǒng):VRD-16機(jī)械泵 FF-100/150渦輪分子泵 
          8、恢復(fù)真空:系統(tǒng)從大氣抽至5.0E-3pa≤30 min(系統(tǒng)短時(shí)間暴露大氣) 
          9、充氣系統(tǒng):2路質(zhì)量流量計(jì)(1路氬氣100scc、1路氬氣200scc)特殊氣體可定制 
          10、濺射靶規(guī)格:Φ2",厚度0.1-5mm(因靶材材質(zhì)不同厚度有所不同) 
          11、樣品臺(tái):Φ70mm//可加熱(室溫~1000℃) 

          產(chǎn)品規(guī)格


          主機(jī)尺寸:寬900mm×深650mm×高1100mm




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