實(shí)驗(yàn)設(shè)備:MSK-AFA-I流延涂覆機(jī)、ZKC-250真空樣品貯存器、DZF-6020真空干燥箱
MSK-AFA-I流延涂覆機(jī) | ZKC-250真空樣品儲(chǔ)藏罐 | DZF-6020真空干燥箱 |
圖1實(shí)驗(yàn)所用設(shè)備圖
實(shí)驗(yàn)材料:液態(tài)硅膠、銅箔
實(shí)驗(yàn)?zāi)康模菏褂昧餮油扛矙C(jī)將液態(tài)硅膠均勻涂覆在銅箔表面,用真空干燥箱在90℃的環(huán)境下將薄膜烘干,而后使用數(shù)顯千分尺測(cè)量烘干后薄膜的厚度和均勻性。
實(shí)驗(yàn)過程:
①原料混合:
首先,將液態(tài)硅膠原料按1:1的比例混合好,混合后的液態(tài)硅膠內(nèi)充滿氣泡,將充滿氣泡的液態(tài)硅膠放入到ZKC-250真空樣品貯存器中,對(duì)罐體抽真空使液體中的氣泡排出,反復(fù)抽幾次真空,使膠體中所有氣泡全部排出,從而降低氣泡對(duì)薄膜的影響。
②樣品涂膜:
涂布前應(yīng)開啟真空泵將樣品固定在真空吸盤上,然后調(diào)節(jié)刮刀頂端的機(jī)械千分尺,設(shè)置薄膜的涂覆厚度,本實(shí)驗(yàn)液態(tài)薄膜的涂覆厚度設(shè)置為50μm。將脫泡后的液態(tài)硅膠用膠管吸出,擠入涂布機(jī)的刮刀內(nèi),設(shè)置涂布行程和涂布速度,然后開啟涂布機(jī)對(duì)銅箔進(jìn)行涂膜,擠入硅膠和涂膜后的試樣如圖所示:
擠入硅膠的試樣圖 | 涂膜后的試樣圖 |
圖2 擠入硅膠和涂膜后的試樣圖
③薄膜烘干測(cè)厚:
首先在制備薄膜前將烘箱溫度設(shè)置為90℃,開啟烘干箱,使溫度加熱至90℃待用,而后將涂覆后的薄膜平移(以防銅箔出現(xiàn)褶皺)至DZF-6020烘干箱中進(jìn)行烘干,烘干時(shí)間設(shè)置為1小時(shí)。烘干后取出帶有薄膜的銅箔,然后將薄膜從銅箔上撕下,待薄膜變形恢復(fù)后使用數(shù)顯千分尺對(duì)薄膜厚度進(jìn)行測(cè)量,測(cè)量結(jié)果如圖3所示,不同位置的薄膜厚度絕大部分為0.112㎜、0.111㎜、0.112㎜。
取下的薄膜樣品厚度圖1 | 取下的薄膜樣品厚度圖2 |
取下的薄膜樣品厚度圖3 | 取下后的薄膜樣品圖 |
圖3 從銅箔上取下的薄膜圖
實(shí)驗(yàn)結(jié)論:通過對(duì)烘干后的薄膜進(jìn)行厚度測(cè)試可知,整張薄膜絕大多數(shù)區(qū)域的厚度在0.111㎜-0.112㎜范偉內(nèi),可見使用AFA-I刮膜機(jī)所涂覆的液態(tài)硅膠薄膜厚度均勻,液態(tài)硅膠薄膜可使用刮膜機(jī)進(jìn)行薄膜制備。
設(shè)備優(yōu)勢(shì):
1、MSK-AFA-I自動(dòng)涂布機(jī)廣泛用于各種平板涂膜研究,例如陶瓷類薄膜、晶體類薄膜、電池材料薄膜、特殊納米薄膜等。該機(jī)采用真空吸附方法來對(duì)基片進(jìn)行固定,使得在涂布過程中基片無褶皺現(xiàn)象產(chǎn)生,從而使得涂布更加均勻順暢。制膜寬度可通過更換不通的制膜器進(jìn)行改變,制膜厚度可通過制膜器進(jìn)行調(diào)節(jié)。制膜長(zhǎng)度通過控制刮刀的行程來控制,刮刀的行程可在10-290mm的范圍內(nèi)進(jìn)行調(diào)節(jié)。設(shè)備體積小巧,適合在實(shí)驗(yàn)室中使用。
2、ZKC-250真空樣品貯存器可以貯存各種樣品,如生化試劑、藥品、光學(xué)鏡頭、種子、精密元器件、文物等,防止其氧化、變質(zhì)。對(duì)不宜真空保存的物體,通過變更進(jìn)、出氣口,可以充入各種惰性保護(hù)氣體,以達(dá)到防止氧化、變質(zhì)的作用。本機(jī)也可以用來對(duì)物體進(jìn)行真空干燥,且快速、安全有效。
3、DZF-6020真空干燥箱(真空烘箱)專為干燥熱敏性,易分解和易氧化物質(zhì)而設(shè)計(jì),能夠向內(nèi)部沖入惰性氣體,特別是一些成分復(fù)雜的物品也能進(jìn)行快速干燥,也可用于普通環(huán)境下對(duì)一些材料進(jìn)行干燥。
相關(guān)產(chǎn)品
免責(zé)聲明
- 凡本網(wǎng)注明“來源:化工儀器網(wǎng)”的所有作品,均為浙江興旺寶明通網(wǎng)絡(luò)有限公司-化工儀器網(wǎng)合法擁有版權(quán)或有權(quán)使用的作品,未經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)不得轉(zhuǎn)載、摘編或利用其它方式使用上述作品。已經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)使用作品的,應(yīng)在授權(quán)范圍內(nèi)使用,并注明“來源:化工儀器網(wǎng)”。違反上述聲明者,本網(wǎng)將追究其相關(guān)法律責(zé)任。
- 本網(wǎng)轉(zhuǎn)載并注明自其他來源(非化工儀器網(wǎng))的作品,目的在于傳遞更多信息,并不代表本網(wǎng)贊同其觀點(diǎn)和對(duì)其真實(shí)性負(fù)責(zé),不承擔(dān)此類作品侵權(quán)行為的直接責(zé)任及連帶責(zé)任。其他媒體、網(wǎng)站或個(gè)人從本網(wǎng)轉(zhuǎn)載時(shí),必須保留本網(wǎng)注明的作品第一來源,并自負(fù)版權(quán)等法律責(zé)任。
- 如涉及作品內(nèi)容、版權(quán)等問題,請(qǐng)?jiān)谧髌钒l(fā)表之日起一周內(nèi)與本網(wǎng)聯(lián)系,否則視為放棄相關(guān)權(quán)利。