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          VTC-600-1HD單靶磁控濺射儀

          具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
          產(chǎn)品標(biāo)簽

          濺射儀離子濺射儀

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            沈陽(yáng)科晶立足國(guó)內(nèi)市場(chǎng)實(shí)際情況,以提供Z為實(shí)用的產(chǎn)品為己任。產(chǎn)品的質(zhì)量、精度在向國(guó)外企業(yè)看齊的基礎(chǔ)上,產(chǎn)品的價(jià)格定位卻僅僅是其幾分之一。性價(jià)比不僅吸引了眾多國(guó)內(nèi)客戶,而且令挑剔的外國(guó)客商也稱贊不已,產(chǎn)品遠(yuǎn)銷于印度、馬來(lái)西亞、土耳其、波蘭、突尼斯、澳大利亞等國(guó)家,并大量出口于美國(guó)。

            沈陽(yáng)科晶為了更好地服務(wù)客戶,專門設(shè)立了開(kāi)放式專業(yè)實(shí)驗(yàn)室,配備了優(yōu)秀的專業(yè)技術(shù)人員。在這里,不僅可以提供親身的產(chǎn)品體驗(yàn)環(huán)境,而且還可得到專業(yè)人員的操作指導(dǎo)。開(kāi)設(shè)以來(lái),制作的樣品達(dá)上千件,接待來(lái)訪客參觀戶百余次,其中包括多次外國(guó)友人的來(lái)訪。在此,沈陽(yáng)科晶全體員工誠(chéng)摯地歡迎您的到來(lái),并希望您能提出寶貴的意見(jiàn)與建議。

            沈陽(yáng)科晶一路走過(guò)的歷程,是為我國(guó)材料研究事業(yè)全力貢獻(xiàn)的歷程,是以實(shí)際行動(dòng)將自己打造成國(guó)內(nèi)材料分析設(shè)備品牌的歷程,是與國(guó)外同行不斷縮小差距的歷程,是與廣大客戶相扶相持的成長(zhǎng)歷程。雖一路充滿坎坷與荊棘,但堅(jiān)持不懈的沈陽(yáng)科晶人仍全力以赴的前行。秉承這份堅(jiān)持,相信在不久的將來(lái),沈陽(yáng)科晶也將會(huì)成為市場(chǎng)上專業(yè)的、杰出的材料分析設(shè)備品牌,沈陽(yáng)科晶的明天會(huì)更加燦爛輝煌。

           

          我們擁有同類型中優(yōu)質(zhì)性價(jià)比的產(chǎn)品!                 

                您正在為材料與設(shè)備無(wú)從下手而焦急嗎?

          歡迎來(lái)到沈陽(yáng)科晶,我們是國(guó)內(nèi)實(shí)驗(yàn)室樣品制備設(shè)備領(lǐng)域的專家!

           

           

           

           

           

           

           

           

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          產(chǎn)地類別 國(guó)產(chǎn) 價(jià)格區(qū)間 面議
          應(yīng)用領(lǐng)域 綜合

          IMG_256VTC-600-1HD單靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開(kāi)發(fā)的一款高真空鍍膜設(shè)備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-1HD雙靶磁控濺射儀配備有一個(gè)靶槍,可選擇強(qiáng)磁靶或弱磁靶,弱磁靶用于非導(dǎo)磁材料的濺射鍍膜,強(qiáng)磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜。與同類設(shè)備相比,且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn),且可使用的材料范圍廣,是一款實(shí)驗(yàn)室制備各類材料薄膜的理想設(shè)備。IMG_2591、可選一個(gè)靶槍,配套射頻電源用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜或配套直流電源用于導(dǎo)電性材料的濺射鍍膜。
          2、可制備多種薄膜,應(yīng)用廣泛。
          3、體積小,操作簡(jiǎn)便。IMG_261

          產(chǎn)品名稱

          VTC-600-1HD單靶磁控濺射儀

          產(chǎn)品型號(hào)

          VTC-600-1HD

          安裝條件

          本設(shè)備要求在海拔1000m以下,溫度25℃±15℃,濕度55%Rh±10%Rh下使用。
          1、水:設(shè)備配有自循環(huán)冷卻水機(jī)(加注純凈水或者去離子水)
          2、電:AC220V 50Hz,必須有良好接地
          3、氣:設(shè)備腔室內(nèi)需充注氬氣(純度99.99%以上),需自備氬氣氣瓶(自帶?6mm雙卡套接頭)及減壓閥
          4、工作臺(tái):尺寸1500mm×600mm×700mm,承重200kg以上
          5、通風(fēng)裝置:需要

          主要參數(shù)

          1、電源電壓:220V  50Hz
          2、功率:<1KW(不含真空泵)
          3、腔體內(nèi)徑:?300mm
          4、極限真空度:9.0×10-4Pa
          5、樣品臺(tái)加熱溫度:RT-500℃,精度±1℃(可根據(jù)實(shí)際需要提升溫度)
          6、靶槍數(shù)量:1個(gè)(可選配其他數(shù)量)
          7、靶槍冷卻方式:水冷
          8、靶材尺寸:?2″,厚度0.1-5mm(因靶材材質(zhì)不同厚度有所不同)
          9、直流濺射功率:500W;射頻濺射功率:300W。(靶電源種類可選,可選擇直流或射頻電源)
          10、載樣臺(tái):?140mm,可根據(jù)客戶需求選配加裝偏壓功能,以實(shí)現(xiàn)更高質(zhì)量的鍍膜。
          11、載樣臺(tái)轉(zhuǎn)速:1rpm-20rpm內(nèi)可調(diào)
          12、工作氣體:Ar等惰性氣體
          13、進(jìn)氣氣路:質(zhì)量流量計(jì)控制2路進(jìn)氣,一路為100SCCM,另一路為200SCCM。

          產(chǎn)品規(guī)格

          1、主機(jī)尺寸:500mm×560mm×660mm
          2、整機(jī)尺寸:1300mm×660mm×1200mm
          3、重量:160kg
          4、真空室規(guī)格:φ300×300mm

          標(biāo)準(zhǔn)配件

          1、直流電源控制系統(tǒng)1套(可選)
          2、射頻電源控制系統(tǒng)1套(可選)
          3、冷水機(jī)1臺(tái)
          4、聚酯PU管(?6mm)4m

          可選配件

          1、金、銦、銀、白金等各種靶材,可選配強(qiáng)磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜。
          2、膜厚監(jiān)測(cè)儀系統(tǒng)
          3、分子泵(德國(guó)進(jìn)口或者國(guó)產(chǎn)更大抽速)

           




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