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          VTC-600GD高真空磁控濺射儀

          具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

          聯(lián)系方式:吳女士查看聯(lián)系方式

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            沈陽(yáng)科晶立足國(guó)內(nèi)市場(chǎng)實(shí)際情況,以提供Z為實(shí)用的產(chǎn)品為己任。產(chǎn)品的質(zhì)量、精度在向國(guó)外企業(yè)看齊的基礎(chǔ)上,產(chǎn)品的價(jià)格定位卻僅僅是其幾分之一。性?xún)r(jià)比不僅吸引了眾多國(guó)內(nèi)客戶,而且令挑剔的外國(guó)客商也稱(chēng)贊不已,產(chǎn)品遠(yuǎn)銷(xiāo)于印度、馬來(lái)西亞、土耳其、波蘭、突尼斯、澳大利亞等國(guó)家,并大量出口于美國(guó)。

            沈陽(yáng)科晶為了更好地服務(wù)客戶,專(zhuān)門(mén)設(shè)立了開(kāi)放式專(zhuān)業(yè)實(shí)驗(yàn)室,配備了優(yōu)秀的專(zhuān)業(yè)技術(shù)人員。在這里,不僅可以提供親身的產(chǎn)品體驗(yàn)環(huán)境,而且還可得到專(zhuān)業(yè)人員的操作指導(dǎo)。開(kāi)設(shè)以來(lái),制作的樣品達(dá)上千件,接待來(lái)訪客參觀戶百余次,其中包括多次外國(guó)友人的來(lái)訪。在此,沈陽(yáng)科晶全體員工誠(chéng)摯地歡迎您的到來(lái),并希望您能提出寶貴的意見(jiàn)與建議。

            沈陽(yáng)科晶一路走過(guò)的歷程,是為我國(guó)材料研究事業(yè)全力貢獻(xiàn)的歷程,是以實(shí)際行動(dòng)將自己打造成國(guó)內(nèi)材料分析設(shè)備品牌的歷程,是與國(guó)外同行不斷縮小差距的歷程,是與廣大客戶相扶相持的成長(zhǎng)歷程。雖一路充滿坎坷與荊棘,但堅(jiān)持不懈的沈陽(yáng)科晶人仍全力以赴的前行。秉承這份堅(jiān)持,相信在不久的將來(lái),沈陽(yáng)科晶也將會(huì)成為市場(chǎng)上專(zhuān)業(yè)的、杰出的材料分析設(shè)備品牌,沈陽(yáng)科晶的明天會(huì)更加燦爛輝煌。

           

          我們擁有同類(lèi)型中優(yōu)質(zhì)性?xún)r(jià)比的產(chǎn)品!                 

                您正在為材料與設(shè)備無(wú)從下手而焦急嗎?

          歡迎來(lái)到沈陽(yáng)科晶,我們是國(guó)內(nèi)實(shí)驗(yàn)室樣品制備設(shè)備領(lǐng)域的專(zhuān)家!

           

           

           

           

           

           

           

           

          切割機(jī),金剛石線切割機(jī),研磨拋光機(jī),提拉涂膜機(jī),旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī),真空鍍膜機(jī),管式爐,箱式爐,電池實(shí)驗(yàn)研究設(shè)備,清洗機(jī)

          產(chǎn)地類(lèi)別 國(guó)產(chǎn) 價(jià)格區(qū)間 面議
          應(yīng)用領(lǐng)域 綜合

          IMG_256

          VTC-600GD 高真空磁控濺射儀是新自主研制開(kāi)發(fā)的鍍膜設(shè)備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600GD高真空磁控濺射儀最多可選配四個(gè)靶槍?zhuān)涮咨漕l電源用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜,配套直流電源用于導(dǎo)電性材料的濺射鍍膜。與同類(lèi)設(shè)備相比,其不僅應(yīng)用廣泛,且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn),是一款實(shí)驗(yàn)室制備材料薄膜的理想設(shè)備,特別適用于實(shí)驗(yàn)室研究固態(tài)電解質(zhì)及OLED等。IMG_257

           

          ·最多可選配四個(gè)靶槍?zhuān)涮咨漕l電源用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜,配套直流電源用于導(dǎo)電性材料的濺射鍍膜(靶槍可以根據(jù)客戶需要任意調(diào)換)。

          ·可制備多種薄膜,應(yīng)用廣泛。

          ·體積小,操作簡(jiǎn)便。

          ·整機(jī)模塊化設(shè)計(jì),真空腔室、真空泵組、控制電源分體式設(shè)計(jì),可根據(jù)用戶實(shí)際需要調(diào)整。

          ·可根據(jù)用戶實(shí)際需要選擇電源,可以一個(gè)電源控制多個(gè)靶槍?zhuān)部啥鄠€(gè)電源單一控制靶槍。IMG_258

          產(chǎn)品名稱(chēng)

          VTC-600GD高真空磁控濺射儀

          產(chǎn)品型號(hào)

          VTC-600GD

          安裝條件

          本設(shè)備要求在溫度25℃±15℃,濕度55%Rh±10%Rh下使用。
          1、水:設(shè)備配有自循環(huán)冷卻水機(jī)(加注純凈水或者去離子水)
          2、電:AC220V 50Hz,必須有良好接地
          3、氣:設(shè)備腔室內(nèi)需充注氬氣(純度99.99%以上),需自備氬氣氣瓶(自帶Ø6mm雙卡套接頭)及減壓閥
          4、工作臺(tái):尺寸1500mm×600mm×700mm,承重200kg以上
          5、通風(fēng)裝置:需要

          主要參數(shù)

          1、電源電壓:220V  50Hz
          2、總功率:<3.5KW
          3、腔體內(nèi)徑:Ø300mm
          4、極限真空度:< E-6mbar(配合本公司設(shè)備使用可達(dá)到?E-5mbar)
          5、工作溫度:RT-500℃,精度±1℃(可根據(jù)實(shí)際需要提升溫度)
          6、靶槍數(shù)量:4個(gè)
          7、靶槍冷卻方式:水冷
          8、靶材尺寸:Ø2″,厚度0.1mm-5mm(因靶材材質(zhì)不同厚度有所不同)
          9、直流濺射功率:500W(可選)
          10、射頻濺射功率:300W
          11、載樣臺(tái):Ø140mm
          12、載樣臺(tái)轉(zhuǎn)速:1rpm-20rpm內(nèi)可調(diào)
          13、保護(hù)氣體:Ar、N2等惰性氣體
          14、進(jìn)氣氣路:質(zhì)量流量計(jì)控制2路進(jìn)氣,1個(gè)流量為100 SCCM,1個(gè)流量為200 SCCM

          15、產(chǎn)品規(guī)格:
          ·尺寸:
          主機(jī)尺寸:850mm×760mm×660mm,
          整機(jī)尺寸:1300mm×660mm×1200mm;
          ·重量:190kg

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          IMG_261

          序號(hào)

          名稱(chēng)

          數(shù)量

          圖片鏈接

          1

          直流電源控制系統(tǒng)

          (可選)套

          -

          2

          射頻電源控制系統(tǒng)

          1套

          -

          3

          膜厚監(jiān)測(cè)儀系統(tǒng)

          1套

          -

          4

          分子泵(德國(guó)進(jìn)口或者國(guó)產(chǎn)更大抽速)

          1臺(tái)

          -

          5

          冷水機(jī)

          1臺(tái)

          -

          6

          聚酯PU管(Ø6mm)

          4m

          -


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          序號(hào)

          名稱(chēng)

          功能類(lèi)別

          圖片鏈接

          1

          金、銦、銀、鉑等各種靶材

          (可選)

          -

          2

          可選配強(qiáng)磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜。

          (可選)

          -

           

           

           

           

           

           

           

           



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