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涂膠顯影機(jī)
KS-FT200/300系列堆疊式高產(chǎn)能前道涂膠顯影機(jī)，為我司自主研發(fā)的突破晶圓前道28nm工藝節(jié)點(diǎn)及以上工藝制程，適用于ArF、KrF、I-Line、PI、B...
型號(hào)： KS-FT200/... 所在地：深圳市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/4 15:41:33 對(duì)比

涂膠顯影
等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積PECVD
提供大面積刻蝕與沉積的量產(chǎn)型解決方案，LED工業(yè)要求高產(chǎn)量，高器件質(zhì)量和低購(gòu)置成本。 PlasmaPro 1000更好地解決了這些需求。
型號(hào)： PlasmaPro... 所在地：深圳市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/4 15:39:11 對(duì)比

牛津 PECVD
8英寸電感耦合等離子體化學(xué)氣相沉積設(shè)備
Shale® C系列電感耦合等離子體化學(xué)氣相沉積設(shè)備（ICP-CVD），通過(guò)電感耦合（ICP）產(chǎn)生高密度等離子體，并通過(guò)電容耦合（CCP）產(chǎn)生偏壓，可...
型號(hào)： Shale... 所在地：徐州市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/4 15:35:04 對(duì)比

ICP
8英寸等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積設(shè)備
詳細(xì)介紹Shale® A系列等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積設(shè)備（PECVD），通過(guò)平行電容板電場(chǎng)放電產(chǎn)生等離子體，可以在400℃及以下沉積比較致密、均勻性較...
型號(hào)： Shale... 所在地：深圳市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/4 15:30:52 對(duì)比

PECVD
深硅刻蝕機(jī)
深硅刻蝕機(jī)HSE P300主要用于12英寸硅刻蝕。采用Cluster結(jié)構(gòu)布局，能夠減小占地，提升產(chǎn)能。系統(tǒng)主要由傳輸模塊、工藝模塊、灰區(qū)部件、電源柜等組成?？蓪?shí)...
型號(hào)： HSE系列所在地：深圳市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/4 15:25:22 對(duì)比

HSE 深硅刻蝕機(jī)北方華創(chuàng)
氣相分解金屬沾污收集（VPD）設(shè)備
詳細(xì)介紹Seehund® A型氣相分解金屬沾污收集設(shè)備（VPD）是專為集成電路制造、大晶圓生產(chǎn)及再生、先導(dǎo)工藝研發(fā)等行業(yè)提供金屬沾污控制方案的產(chǎn)品。由...
型號(hào)： Seehund&#... 所在地：徐州市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/4 15:19:49 對(duì)比

金屬沾污收集
等離子增強(qiáng)原子層沉積PEALD
我們的 Fiji® 系列是一種模塊化、高真空熱原子層沉積系統(tǒng)，采用靈活的架構(gòu)和多種前驅(qū)體和等離子體氣體配置，可適應(yīng)各種沉積模式。Fiji G2 是下一...
型號(hào)： Fiji 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/4 15:00:25 對(duì)比

等離子增強(qiáng)原子層沉積 PEALD 薄膜沉積
物理氣相沉積PVD
Veeco 的單靶點(diǎn) NEXUS PVDi 物理氣相沉積系統(tǒng)為各種薄膜沉積應(yīng)用提供了最大的靈活性。NEXUS PVD 的加工精度為 200 毫米，具有先進(jìn)的工藝...
型號(hào)： NEXUS 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/4 14:42:13 對(duì)比

物理氣相沉積 PVD 薄膜沉積
高真空電子束及熱阻蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)
產(chǎn)品概述：高真空電子束及熱阻蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)主要由蒸發(fā)真空室、E型電子槍、熱阻蒸發(fā)組件、旋轉(zhuǎn)基片加熱臺(tái)、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、真空測(cè)量、安裝機(jī)臺(tái)及電控系統(tǒng)等部分組...
型號(hào)： DZS500 所在地：沈陽(yáng)市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/4 11:32:00 對(duì)比

電子束蒸發(fā)鍍膜沈陽(yáng)科儀
勻膠機(jī)
CIF勻膠機(jī)轉(zhuǎn)速穩(wěn)定、啟動(dòng)迅速，旋涂均勻，操作簡(jiǎn)單，結(jié)構(gòu)緊湊實(shí)用，為實(shí)驗(yàn)室提供了理想的解決方案。廣泛應(yīng)用于微電子、半導(dǎo)體、新能源、化工材料、生物材料、光學(xué)，硅片...
型號(hào)： MSC/SC1/2 所在地：深圳市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/2 17:12:57 對(duì)比

CIF勻膠機(jī)勻膠機(jī)
烤膠機(jī)
CIF烤膠機(jī)采用智能程序化控溫技術(shù)，控溫精準(zhǔn)均勻，加熱快速高效，維修簡(jiǎn)單方便，控溫范圍在室溫－360℃之間，控溫精度達(dá)到0.1℃。適用于各種控溫精度高，加熱均勻...
型號(hào)： PH22/35/2... 所在地：深圳市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/2 17:12:27 對(duì)比

CIF烤膠機(jī)烤膠機(jī)
等離子去膠機(jī)
CIF等離子去膠機(jī) 采用電感耦合各向同性（各個(gè)方向）等離子激發(fā)方式，適用于所有的基材及復(fù)雜的幾何構(gòu)形都可以進(jìn)行等離子體去膠。其外觀美學(xué)設(shè)計(jì)，結(jié)構(gòu)緊湊，漂亮大氣，...
型號(hào)： SPB-5/plu... 所在地：深圳市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/2 17:10:10 對(duì)比

等離子去膠機(jī)去膠機(jī)
反應(yīng)離子刻蝕機(jī)
CIF推出RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)，采用RIE反應(yīng)離子誘導(dǎo)激發(fā)方式，實(shí)現(xiàn)對(duì)材料表面各向異性的微結(jié)構(gòu)刻蝕。特別適合于大學(xué)，科研院所、微電子、半導(dǎo)體企業(yè)實(shí)驗(yàn)室進(jìn)行介質(zhì)刻...
型號(hào)： RIE200/Pl... 所在地：深圳市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/2 17:08:20 對(duì)比

反應(yīng)離子刻蝕機(jī)刻蝕機(jī)
全新CIF 實(shí)驗(yàn)室型等離子清洗機(jī)
全新CIF 實(shí)驗(yàn)室型等離子清洗機(jī)并非傳統(tǒng)等離子體清洗設(shè)備設(shè)計(jì)理念，可中試生產(chǎn)、模擬生產(chǎn)條件，幾乎具備等離子體清洗設(shè)備所有的功能。采用頂置真空倉(cāng)，上開(kāi)蓋下壓式鉸鏈...
型號(hào)： CPC-G/Gpl... 所在地：深圳市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/2 17:05:49 對(duì)比

實(shí)驗(yàn)室型等離子清洗機(jī)等離子清洗機(jī)
刻蝕機(jī)終點(diǎn)檢測(cè)系統(tǒng)
刻蝕機(jī)終點(diǎn)檢測(cè)系統(tǒng) 檢測(cè)原理：通過(guò)特定波長(zhǎng)譜線的強(qiáng)度變化來(lái)反映是否達(dá)到刻蝕終點(diǎn)。
型號(hào)： customize... 所在地：深圳市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/2 17:02:50 對(duì)比

刻蝕機(jī)終點(diǎn)檢測(cè)系統(tǒng)刻蝕
無(wú)掩模直接成像儀
VPG 300 DI 無(wú)掩模直接成像儀是一款體積圖案發(fā)生器，專為在 i 線光刻膠中直接寫(xiě)入高分辨率微結(jié)構(gòu)而設(shè)計(jì)。它源自掩模制作工具，具有所有先進(jìn)的 VPG 系統(tǒng)...
型號(hào)： VPG 300 所在地：深圳市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/8/27 10:34:35 對(duì)比

高分辨率微結(jié)構(gòu)精確高效微結(jié)構(gòu)制造能力
有掩膜光刻機(jī)
VPG 800 / VPG 1400 有掩膜光刻機(jī)為光掩模（0.8至1.4 m）的高通量圖案化而定制。VPG1400是我們專為顯示行業(yè)設(shè)計(jì)的最大的系統(tǒng)。它是平板...
型號(hào)： VPG 800 /... 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/8/27 10:28:56 對(duì)比

海德堡有掩膜
等離子體（ICP）刻蝕設(shè)備
RIE-230iPC是以電感耦合等離子體為放電方式，高速進(jìn)行各種材料的超精細(xì)加工的盒式ICP蝕刻系統(tǒng)。該系統(tǒng)通過(guò)采用龍卷風(fēng)式線圈電，高效地產(chǎn)生穩(wěn)定的高密度等離子...
型號(hào)： RIE-230iP... 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/8/27 10:19:08 對(duì)比

RIE-230iPC 等離子體（ICP）刻蝕設(shè)備
掩模對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī)
MA200 3代掩模對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī)專為大批量生產(chǎn)而設(shè)計(jì)，適用于200毫米以下晶圓和方形襯底的自動(dòng)化加工。本系統(tǒng)集全場(chǎng)光刻技術(shù)與多種創(chuàng)新功能于一身。使其成為眾多應(yīng)用的...
型號(hào)： MA200 Gen... 所在地：深圳市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/8/27 9:37:26 對(duì)比

半導(dǎo)體光刻有掩膜
掩模對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī)
SUSS MicroTec為熱門(mén)化合物半導(dǎo)體工藝專門(mén)設(shè)計(jì)了一款新型光刻平臺(tái)：MA100/150e Gen2掩模對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī)?；衔锇雽?dǎo)體工藝，是指諸如高亮發(fā)光二極...
型號(hào)： MA100/150... 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/8/27 9:36:10 對(duì)比

半導(dǎo)體 SUSS 光刻

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