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掃描電鏡等離子清洗機
CIF掃描電鏡等離子清洗機采用遠(yuǎn)程等離子清洗源設(shè)計，清洗快速、高效、低轟擊損傷，主要用于SEM或FIB等電鏡腔體內(nèi)碳?xì)浠衔锏那逑础?
型號： CIF-SEM 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/5 14:34:10 對比

等離子清洗機清洗機
高真空有機及熱阻蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)
產(chǎn)品概述：高真空有機及熱阻蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)主要由有機/金屬源蒸發(fā)沉積室、真空排氣系統(tǒng)；真空測量系統(tǒng)；蒸發(fā)源；樣品加熱控溫；電控系統(tǒng)；配氣系統(tǒng)等部分組成。設(shè)備用途...
型號： DZ350 所在地：沈陽市參考價：面議更新時間：2024/9/5 14:33:48 對比

熱阻蒸發(fā)薄膜沉積
原子層沉積ALD
Beneq TFS 200 是有史以來最靈活的原子層沉積研究平臺，專為學(xué)術(shù)研究和企業(yè)研發(fā)而設(shè)計。Beneq TFS 200 經(jīng)過專門設(shè)計，可最大限度地減少多用戶...
型號： Beneq TFS... 所在地：芬蘭參考價：面議更新時間：2024/9/5 14:29:26 對比

Beneq ALD 原子層沉積半導(dǎo)體
芯片刻蝕機
ELEDE® 380系列芯片刻蝕機，先進的等離子體發(fā)生裝置，適用多種材料刻蝕，工藝窗口寬。
型號： ELEDE... 所在地：北京市參考價：面議更新時間：2024/9/5 14:26:03 對比

芯片刻蝕機 ELEDE® 380系列北方華創(chuàng)
MBE分子束外延系統(tǒng)
GENxplor® R&D MBE系統(tǒng)獲得了化合物半導(dǎo)體制造的CSindustry獎，采用Veeco成熟的3英寸生長室設(shè)計，并具工藝靈活性，非常適合U...
型號： GENxplor ... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/5 14:25:22 對比

分子束 MBE 薄膜沉積
原子層沉積ALD
用于電池、太陽能和柔性電子產(chǎn)品的功能性原子層沉積涂層。 Genesis ALD 是涂布任何卷筒格式基材以及多種功能應(yīng)用的理想選擇。
型號： Genesis A... 所在地：芬蘭參考價：面議更新時間：2024/9/5 14:24:21 對比

ALD Beneq 原子層沉積半導(dǎo)體
濺射系統(tǒng)
iTops PVD AlN 濺射系統(tǒng)，采用托盤形式，可兼容 2/4/6 英寸,工藝溫度在 0~700℃之間。
型號： iTops PVD... 所在地：北京市參考價：面議更新時間：2024/9/5 14:22:41 對比

濺射系統(tǒng)iTops PVD AlN 北方華創(chuàng)
濺射系統(tǒng)
iTops PVD ITO 濺射系統(tǒng)，加熱能力、精確的溫度控制、優(yōu)異的真空能力.高晶體質(zhì)量的氮化鋁薄膜及優(yōu)異的薄膜厚度均勻性。
型號： iTops PVD... 所在地：北京市參考價：面議更新時間：2024/9/5 14:18:05 對比

濺射系統(tǒng)iTops PVD ITO 北方華創(chuàng)
分子束外延MBE
GEN10™ MBE 系統(tǒng)是成熟平臺中經(jīng)濟、最靈活的簇狀工具系統(tǒng)，允許多達三個可配置的、特定于材料的生長模塊。這使得系統(tǒng)利用率高，允許多個研究人員同...
型號： GEN10 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/5 14:14:41 對比

分子束外延 MBE 薄膜沉積
超高真空激光分子束外延薄膜沉積系統(tǒng)
產(chǎn)品概述：超高真空激光分子束外延薄膜沉積系統(tǒng)由真空腔室（外延室、進樣室）、樣品傳遞機構(gòu)、樣品架、立式旋轉(zhuǎn)靶臺、基片加熱臺、抽氣系統(tǒng)、真空測量、工作氣路、電控系統(tǒng)...
型號： LMBE450 所在地：沈陽市參考價：面議更新時間：2024/9/5 14:13:08 對比

分子束外延薄膜沉積
高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)
產(chǎn)品概述：高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)可用于制備光學(xué)薄膜、電學(xué)薄膜、磁性薄膜、硬質(zhì)保護薄膜和裝飾薄膜等，工藝性能穩(wěn)定、模塊化結(jié)構(gòu)，采用行業(yè)的軟件控制系統(tǒng)。設(shè)備用途...
型號： PVD400 所在地：沈陽市參考價：面議更新時間：2024/9/5 14:08:37 對比

磁控濺射薄膜
勻膠機
H6-8型勻膠機機結(jié)構(gòu)緊湊，具有先進的功能，設(shè)計為最容易安裝在手套箱中的旋涂機。這款 650 系列 HL 涂布機系統(tǒng) 將可容納最大 200mm 晶圓和 7 英...
型號： H6-8 所在地：美國參考價：面議更新時間：2024/9/5 14:00:18 對比

半導(dǎo)體前道勻膠
高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)
高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)可用于制備光學(xué)薄膜、電學(xué)薄膜、磁性薄膜、硬質(zhì)保護薄膜和裝飾薄膜等，工藝性能穩(wěn)定、模塊化結(jié)構(gòu)，采用行業(yè)的軟件控制系統(tǒng)。
型號： PVD500 所在地：沈陽市參考價：面議更新時間：2024/9/5 13:55:32 對比

磁控濺射薄膜沉積
金屬有機化學(xué)氣相沉積MOCVD
Veeco 的 EPIK® 868 是 LED 業(yè)界最高性能的金屬有機物化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)MOCVD，可實現(xiàn)出色的均勻性和可重復(fù)性，以及低缺陷率。Vee...
型號： TurboDisc... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/5 13:48:50 對比

金屬有機化學(xué)氣相沉積 MOCVD
晶圓清洗機
高效的緊湊型清洗裝置，為您的流程提供支持977晶圓清洗機系統(tǒng)專為切割后工件清洗和干燥而設(shè)計，配有旋轉(zhuǎn)卡盤臺、旋轉(zhuǎn)清洗/干燥臂。臂可配置霧化清潔噴嘴或高壓噴嘴，滿...
型號： 977 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/5 13:37:50 對比

晶圓清洗
分子束外延MBE
屢獲殊榮的新型 GENxcel™ 系統(tǒng)是在 GENxplor 的基礎(chǔ)上進行的擴展，GENxplor™ 是自 2013 年 8 月推出以來...
型號： GENxcel R... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/5 11:33:27 對比

分子束外延 MBE 薄膜沉積
等離子清洗和加熱機
由德國UNITEMP研發(fā)的等離子清洗和加熱機，最大零件裝載面積：305 mm x 305 mm（最大零件高度為 25 mm）。
型號： PTP-300 所在地：德國參考價：面議更新時間：2024/9/5 11:33:05 對比

半導(dǎo)體前道清洗
勻膠機
laurell的H6-15系列勻膠機結(jié)構(gòu)緊湊，具有先進的功能，設(shè)計為最容易安裝在手套箱中的旋涂機。這款650系列HL涂布機系統(tǒng) 將可容納高達300mm 的晶圓...
型號： H6-15 所在地：美國參考價：面議更新時間：2024/9/5 11:31:33 對比

半導(dǎo)體前道勻膠機
勻膠機
laurell的H6-23型的勻膠機結(jié)構(gòu)緊湊，具有先進的功能，設(shè)計為最容易安裝在手套箱中的旋涂機。這款 650 系列 HL 涂布機系統(tǒng) 將可容納最大 150m...
型號： H6-23 所在地：美國參考價：面議更新時間：2024/9/5 11:30:46 對比

半導(dǎo)體前道勻膠機
分子束外延MBE
Veeco 的 GEN20™ MBE 系統(tǒng)是一種超靈活的工具，其設(shè)計可針對 III-V 族和新興材料進行配置，包括需要集成電子束技術(shù)的應(yīng)用。該系統(tǒng)采...
型號： GEN20 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/5 11:26:00 對比

分子束外延 MBE 薄膜沉積

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