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Lancer離子束蝕刻系統(tǒng)
新型 Lancer™ 離子束蝕刻（IBE）系統(tǒng)專為開發(fā)和生產(chǎn)智能手機、自動駕駛汽車和其他可實現(xiàn)連接性、功能性和移動性的“物聯(lián)網(wǎng)"設(shè)備中的下一代電...
型號：所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/8/12 10:20:00 對比

離子束蝕刻
原子層刻蝕
ALE是一種先進的刻蝕技術(shù)，可以針對較淺的微結(jié)構(gòu)進行出色的深度控制。隨著器件微結(jié)構(gòu)尺寸越來越小，要達到器件的更高性能可以通過ALE技術(shù)所具有的精度來實現(xiàn)。在如...
型號： PlasmaPro... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/8/12 10:19:40 對比

原子層刻蝕工藝
等離子體蝕刻系統(tǒng)
SI 500 C 代表了專為低溫蝕刻而設(shè)計的電感耦合等離子體（ICP）處理的前沿。SENTECH SI 500 C 低溫 ICP-RIE 等離子體蝕刻系統(tǒng)代...
型號： SI 500 C 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/8/12 10:19:16 對比

低溫蝕刻
等離子蝕刻系統(tǒng)
SENTECH SI 500 ICP-RIE等離子體蝕刻系統(tǒng)使用具有低離子能量的電感耦合等離子體（ICP）源，可實現(xiàn)低損傷蝕刻和納米結(jié)構(gòu)。
型號： SENTECH S... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/8/12 10:18:54 對比

電感耦合等離子體
開蓋等離子蝕刻系統(tǒng)
等離子蝕刻系統(tǒng) Etchlab 200 具有經(jīng)濟高效的 RIE 直接加載的優(yōu)點。SENTECH Etchlab 200 RIE等離子蝕刻系統(tǒng)代表了一系列直接加載...
型號： Etchlab 2... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/8/12 10:18:30 對比

等離子蝕刻系統(tǒng)
ICPCVD
PlasmaPro 80是一種結(jié)構(gòu)緊湊且使用方便的小型直開式系統(tǒng)，可以提供多種刻蝕和沉積的解決方案。它易于放置，便于使用，且能夠確保工藝性能。直開式設(shè)計可實現(xiàn)...
型號： PlasmaPro... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/8/12 10:13:43 對比

ICPCVD 刻蝕沉積
離子束沉積
離子束沉積產(chǎn)品是因為它們能夠生產(chǎn)具有高質(zhì)量，致密和表面光滑的沉積薄膜。離子束技術(shù)提供了一種多樣的刻蝕和沉積的方法，并可在同一設(shè)備上實現(xiàn)，因而提高系統(tǒng)的利用率。...
型號： Ionfab 30... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/8/12 10:12:56 對比

離子束沉積
激光光刻機
DWL 2000 GS / DWL 4000 GS 激光光刻系統(tǒng)是快速、靈活的高分辨率圖形發(fā)生器。它們針對工業(yè)級灰度光刻進行了優(yōu)化，設(shè)計用于集成電路、MEMS、...
型號： DWL 2000 ... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/8/12 10:10:05 對比

灰度光刻
ICPECVD 系統(tǒng)
電感耦合等離子體（ICP）沉積系統(tǒng)，SENTECH SI 500 D 用于介電膜的高密度、低離子能量和低壓等離子體沉積，以及用于鈍化層的低損傷、低溫沉積。S...
型號： SI 500 D 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/8/12 10:09:28 對比

電感耦合等離子體（ICP）沉積系統(tǒng)
涂膠與顯影機
ACS300 Gen2 涂布機和顯影劑用于晶圓級封裝的生產(chǎn)旋涂/開發(fā)集群ACS300 Gen2 是一個模塊化集群系統(tǒng)，旨在滿足制造商對 200 和 300 毫米...
型號： ACS300 Ge... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/8/12 10:01:51 對比

涂膠顯影半導(dǎo)體前道工藝

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