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涂膠和顯影機(jī)
ACS200 Gen3 涂膠和顯影機(jī)是創(chuàng)新組件和經(jīng)過(guò)生產(chǎn)驗(yàn)證的組件結(jié)合的成功結(jié)果。它具有多達(dá) 4 個(gè)濕法工藝模塊和最多 19 塊板的能力，非常適合大批量生產(chǎn) （...
型號(hào)： ACS200 Ge... 所在地：深圳市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/8/27 9:30:44 對(duì)比

涂膠顯影半導(dǎo)體前道工藝
多功能濺射、電子束和熱蒸發(fā)沉積平臺(tái)
Kurt J. Lesker Company PRO Line PVD 75 是基于主力 PVD 75多功能濺射、電子束和熱蒸發(fā)沉積平臺(tái)的下一代薄膜沉積系統(tǒng)。P...
型號(hào)： PRO Line ... 所在地：深圳市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/8/14 16:39:14 對(duì)比

PVD 濺射電子束熱蒸發(fā)沉積
熱蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)
Kurt J. Lesker Company® NANO 36™ 熱蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)是我們優(yōu)化的入門級(jí)沉積系統(tǒng)。我們的腔室設(shè)計(jì)特別適合手套...
型號(hào)： NANO 36&t... 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/8/14 15:30:30 對(duì)比

PVD 熱蒸發(fā)薄膜沉積
等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)
EPEE系列等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)單片和多片式架構(gòu)，滿足量產(chǎn)和研發(fā)客戶需求高效遠(yuǎn)程等離子體清洗系統(tǒng)，優(yōu)異的顆?？刂?滿足量產(chǎn)和研發(fā)客戶需求.
型號(hào)： EPEE系列所在地：北京市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/8/14 14:00:47 對(duì)比

EPEE系列等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)
金屬化學(xué)氣相沉積MOCVD
用于 5G、光子學(xué)和 CMOS 的 Propel 300mm GaN MOCVD 系統(tǒng)全自動(dòng)單晶圓簇系統(tǒng)可在 300 毫米基板上生產(chǎn) 5G 射頻、光子學(xué)和高級(jí) ...
型號(hào)： Propel 30... 所在地：深圳市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/8/13 16:07:47 對(duì)比

金屬化學(xué)氣相沉積 MOCVD
高真空等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相薄膜沉積系統(tǒng)
產(chǎn)品概述：系統(tǒng)主要由3個(gè)真空沉積室（分別沉積P、I、N結(jié)）、1個(gè)進(jìn)樣室、1個(gè)中央傳輸室、平板式電極、基片加熱臺(tái)、工作氣路、傳送機(jī)械手、抽氣系統(tǒng)、安裝機(jī)臺(tái)、射頻電...
型號(hào)： PECVD 所在地：沈陽(yáng)市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/8/13 14:40:44 對(duì)比

化學(xué)氣相薄膜沉積
高真空等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相薄膜沉積
高真空等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相薄膜沉積系統(tǒng)主要由真空反應(yīng)室、上蓋組件、噴淋頭裝置、熱絲架、基片加熱臺(tái)、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、安裝機(jī)臺(tái)、真空測(cè)量及電控系統(tǒng)等部分組成。本...
型號(hào)： PECVD 所在地：沈陽(yáng)市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/8/13 13:58:48 對(duì)比

化學(xué)氣相薄膜沉積
化合物半導(dǎo)體沉積系統(tǒng)
化合物半導(dǎo)體沉積系統(tǒng)AIX G5 WW C“下一代碳化硅電力電子器件的最佳性能，以應(yīng)對(duì)全球大趨勢(shì)"高吞吐量批量外延與單晶圓控制 - 兩全其美。
型號(hào)： AIX G5 WW... 所在地：德國(guó) 參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/8/13 11:12:18 對(duì)比

半導(dǎo)體沉積
扇出型晶圓級(jí)熱拆鍵合
扇出型晶圓級(jí)熱拆鍵合? FOWLP優(yōu)化熱拆鍵合? 全自動(dòng)脫膠? FOWLP晶圓翹曲控制和測(cè)量? FOWLP晶圓正反面標(biāo)記? 可獨(dú)立的全自動(dòng)翹曲矯正模式? 符合S...
型號(hào)： MDM330s 所在地：深圳市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/8/12 11:33:25 對(duì)比

扇出型晶圓級(jí)熱拆鍵合 MDM330s
等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積
PlasmaPro 100 Nano用于生長(zhǎng)1D / 2D納米材料和異質(zhì)結(jié)構(gòu)的CVD / PECVD工具。 PlasmaPro 100 Nano通過(guò)在線催化劑活...
型號(hào)： PlasmaPro... 所在地：深圳市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/8/12 11:13:24 對(duì)比

薄膜生長(zhǎng)
原子層沉積（ALD）
FlexAL系統(tǒng)可提供遠(yuǎn)程等離子體原子層沉積（ALD），這為納米結(jié)構(gòu)和器件的工程設(shè)計(jì)提供了一系列新的靈活性和可行性。ALD產(chǎn)品家族涵蓋的系列設(shè)備可以滿足學(xué)術(shù)界、...
型號(hào)： FlexAL 所在地：深圳市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/8/12 11:04:26 對(duì)比

原子層沉積（ALD）
原子層沉積研究設(shè)備
TFS 500 是薄膜鍍膜應(yīng)用的理想選擇。作為第一個(gè) Beneq 反應(yīng)器模型，已被證明是用于深入研究原子層沉積研究和穩(wěn)健批處理的多功能工具。TFS 500 是多...
型號(hào)： TFS 500 所在地：深圳市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/8/12 11:03:34 對(duì)比

原子層沉積
超快速、高精度空間原子層沉積鍍膜
超快速、高精度空間原子層沉積鍍膜Beneq C2R 是我們集群兼容設(shè)備系列的空間 ALD 成員。Beneq C2R 將等離子體增強(qiáng)原子層沉積（PEALD）工...
型號(hào)：貝內(nèi)克 C2R 所在地：深圳市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/8/12 11:03:18 對(duì)比

空間原子層沉積鍍膜
原子層沉積
市場(chǎng)和應(yīng)用用于電池、太陽(yáng)能和柔性電子產(chǎn)品的功能性原子層沉積涂層。 Genesis ALD 是涂布任何卷筒格式基材以及多種功能應(yīng)用的理想選擇。各種類型鋰離子和固態(tài)...
型號(hào)：捷尼賽思所在地：深圳市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/8/12 11:03:02 對(duì)比

原子層沉積
緊透尺寸檢測(cè)系統(tǒng)
可靠、快速和可重復(fù)的手動(dòng)和自動(dòng)檢測(cè)基于VoidInspect的自動(dòng)氣泡計(jì)算易于使用的動(dòng)態(tài)增強(qiáng)過(guò)濾功能，例如eHDR使用micro3Dslice和FF CT軟件的...
型號(hào)： Cougar EV... 所在地：深圳市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/8/12 10:47:29 對(duì)比

SMT檢測(cè)晶圓檢測(cè)半導(dǎo)體檢測(cè)
涂膠與顯影機(jī)
ACS300 Gen3作為模塊化系統(tǒng)，是為滿足量產(chǎn)環(huán)境而專門設(shè)計(jì)的。它提供了復(fù)雜的涂膠、顯影和烘烤功能，可輕松地適應(yīng)各種工藝。其的工藝控制，有效地支持廣泛的使用...
型號(hào)： ACS300 Ge... 所在地：深圳市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/8/12 10:46:36 對(duì)比

涂膠顯影先進(jìn)封裝
離子束濺射（IBD）光學(xué)鍍膜系統(tǒng)
用 Veeco 的 SPECTOR® 離子束濺射（IBD）光學(xué)鍍膜系統(tǒng)，實(shí)現(xiàn)更高的精度和薄膜工藝靈活性。SPECTOR IBD 光學(xué)鍍膜系統(tǒng)具有多...
型號(hào)： SPECTOR 所在地：深圳市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/8/12 10:26:10 對(duì)比

IBD
PEALD 系統(tǒng)
SENTECH True Remote CCP 源可在低溫下對(duì)敏感基材和層進(jìn)行均勻和保形涂層。在樣品表面提供高通量的反應(yīng)性氣體種類，而沒有紫外線輻射或離子轟擊。...
型號(hào)： SI PEALD 所在地：深圳市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/8/12 10:25:24 對(duì)比

PEALD
PEARD系統(tǒng)
SENTECH SILAYO是一種用于光學(xué)鍍膜的等離子體增強(qiáng)原子層沉積（PEALD）系統(tǒng)，擴(kuò)展了SENTECH PECVD和ALD產(chǎn)品組合。SENTECH SI...
型號(hào)： SENTECH S... 所在地：深圳市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/8/12 10:25:06 對(duì)比

原子層沉積ALD
投影步進(jìn)電機(jī)
AP200/300 系列光刻系統(tǒng)基于 Veeco 的可定制 Unity 平臺(tái)™構(gòu)建，可提供覆蓋層、分辨率和側(cè)壁輪廓性能，并可實(shí)現(xiàn)高度自動(dòng)化和具有成本...
型號(hào)： AP200/300 所在地：深圳市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/8/12 10:21:06 對(duì)比

投影步進(jìn)光刻

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