化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>半導(dǎo)體行業(yè)專用儀器>薄膜生長設(shè)備>化學(xué)氣相沉積設(shè)備>Scaler HK430 熱原子層沉積系統(tǒng)
Scaler HK430 熱原子層沉積系統(tǒng)
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
- 公司名稱 深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司
- 品牌 北方華創(chuàng)
- 型號 Scaler HK430
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
- 更新時間 2024/9/5 10:08:14
- 訪問次數(shù) 227
產(chǎn)品標(biāo)簽
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1. 產(chǎn)品概述
Scaler HK430 熱原子層沉積系統(tǒng)，填孔能力以及良好的薄膜均勻性。
2. 設(shè)備用途/原理
Scaler HK430 熱原子層沉積系統(tǒng)，填孔能力以及良好的薄膜均勻性，腔室結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，具備良好的防酸腐蝕能力，優(yōu)化機(jī)臺結(jié)構(gòu)，縮小占地面積。友好的人機(jī)交互和安全性設(shè)計(jì)保障系統(tǒng)穩(wěn)定、安全、高效。
3. 設(shè)備特點(diǎn)
晶圓尺寸 12 英寸，適用材料 氧化鉿、氧化鋯、氧化鋁，適用工藝 柵介質(zhì)層、介質(zhì)層、鈍化層，適用域 科研、集成電路、先進(jìn)封裝。原子層沉積（Atomic layer deposition）是一種可以將物質(zhì)以單原子膜形式一層一層的鍍在基底表面的方法。原子層沉積與普通的化學(xué)沉積有相似之處。但在原子層沉積過程中，新一層原子膜的化學(xué)反應(yīng)是直接與之前一層相關(guān)聯(lián)的，這種方式使每次反應(yīng)只沉積一層原子。
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