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鋁物理氣相沉積系統(tǒng)
eVictor Al PVD 鋁物理氣相沉積系統(tǒng)，先進(jìn)的磁控濺射系統(tǒng)，有效提高薄膜均勻性及靶材利用率。
型號(hào)： eVictor A... 所在地：北京市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/5 17:07:46 對(duì)比

鋁物理氣相沉積系統(tǒng)eVictor Al PVD 北方華創(chuàng)
電感耦合等離子體化學(xué)氣相沉積ICPCVD
該ICPCVD工藝模塊設(shè)計(jì)用于在低生長(zhǎng)溫度下生產(chǎn)高質(zhì)量的薄膜，通過(guò)高密度遠(yuǎn)程等離子體實(shí)現(xiàn)，從而實(shí)現(xiàn)優(yōu)秀的薄膜質(zhì)量，同時(shí)減少基板損傷。
型號(hào)： PlasmaPro... 所在地：英國(guó) 參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/5 17:06:35 對(duì)比

ICPCVD 薄膜沉積等離子體低溫生長(zhǎng)
條形等離子清潔系統(tǒng)
80 Plus 條形等離子清潔系統(tǒng)專為半導(dǎo)體加工而開(kāi)發(fā)，可支持手動(dòng)及自動(dòng)操作，兩種操作方式均簡(jiǎn)單易用。該系統(tǒng)可以配備或不配備裝卸站；此外，每個(gè)裝卸站都可支持不同...
型號(hào)： 80 Plus 所在地：美國(guó) 參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/5 17:05:42 對(duì)比

半導(dǎo)體前道清洗
區(qū)熔晶體生長(zhǎng)系統(tǒng)
FZ-14 區(qū)熔晶體生長(zhǎng)系統(tǒng)是專為工業(yè)生產(chǎn)直徑達(dá)100毫米（4英寸）的單晶硅晶體而設(shè)計(jì)。根據(jù)源棒的尺寸，可以拉出長(zhǎng)度達(dá)1. 1米的晶體。在這個(gè)過(guò)程中，晶體的直徑...
型號(hào)： FZ-14 所在地：美國(guó) 參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/5 17:03:59 對(duì)比

半導(dǎo)體晶圓長(zhǎng)晶爐 PVA TePla FZ-14
區(qū)熔晶體生長(zhǎng)系統(tǒng)
FZ-14M(G)區(qū)熔晶體生長(zhǎng)系統(tǒng)為制備單晶硅晶體樣品而設(shè)計(jì)開(kāi)發(fā)，該系統(tǒng)用于工業(yè)多晶硅生產(chǎn)中的材料分析。生產(chǎn)過(guò)程中的小型多晶體樣品在氬氣環(huán)境中被感應(yīng)熔化，并在籽...
型號(hào)： FZ-14M(G) 所在地：美國(guó) 參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/5 17:01:51 對(duì)比

半導(dǎo)體晶圓長(zhǎng)晶爐 FZ-14M(G)PVA TePla
區(qū)熔晶體生長(zhǎng)系統(tǒng)
FZ-30和FZ-35區(qū)熔晶體生長(zhǎng)系統(tǒng)專為工業(yè)生產(chǎn)直徑達(dá)200毫米（8英寸）的單晶硅晶體而設(shè)計(jì)。根據(jù)源棒的尺寸，可以拉出長(zhǎng)度為2000毫米的晶體。在這個(gè)過(guò)程中，...
型號(hào)： FZ-30和FZ-... 所在地：美國(guó) 參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/5 16:55:43 對(duì)比

半導(dǎo)體晶圓長(zhǎng)晶爐 PVA TePla 區(qū)熔晶體生長(zhǎng)系統(tǒng)
示波器
Infiniium S 系列示波器概述 Infinilum S 系列示波器采用創(chuàng)新技術(shù)設(shè)計(jì),能夠提供測(cè)量能力。硬件與豐富的軟件協(xié)同工作,為您提供測(cè)量能力。我...
型號(hào)： Infiniium... 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/5 16:54:30 對(duì)比

示波器 Infiniium S 系列 KEYSIGHT/美國(guó)是德
MPI探針臺(tái)
VEGA系列概述MPI VEGA 探針系列已準(zhǔn)備好滿足激光二極管（VCSEL、EEL）和光學(xué)模塊市場(chǎng)的各種測(cè)試和材料處理要求。
型號(hào)： VEGA系列所在地：深圳市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/5 16:52:48 對(duì)比

探針臺(tái)MPI VEGA系列光學(xué)通信光學(xué)傳感
MPI探針臺(tái)
MPI AVIOR 系列為光通信市場(chǎng)提供了廣泛的高性能探針系統(tǒng)陣容。我們的探針系統(tǒng)提供頂部發(fā)射（TP）、倒裝芯片（FP）發(fā)射和裸片/封裝（DP）配置，...
型號(hào)： AVIOR系列所在地：深圳市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/5 16:52:09 對(duì)比

AVIOR系列 MPI 探針臺(tái)光電分析光電傳感
濕法勻膠工作臺(tái)
Laurell的WS-1000系列濕法勻膠工作臺(tái)的配置和測(cè)試模塊建造和運(yùn)輸安裝時(shí)間短。易于裝載和操作，所有物品都讓操作員方便地觸及。
型號(hào)： WS-1000 所在地：美國(guó) 參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/5 16:50:11 對(duì)比

半導(dǎo)體前道勻膠機(jī)
MPI探針臺(tái)
Micro LED（μLED）是顯示行業(yè)的光學(xué)技術(shù)突破。Micro LED顯示器為消費(fèi)/顯示器/汽車應(yīng)用提供了巨大的潛力，因?yàn)榕c其他發(fā)射設(shè)備相比，它們更亮、更快...
型號(hào)： GEMINI系列所在地：深圳市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/5 16:44:48 對(duì)比

GEMINI系列 MPI 探針臺(tái)光電測(cè)試光電傳感
MPI探針臺(tái)
CAPELLA系列探針臺(tái)支持從晶圓到封裝芯片級(jí)的所有LED產(chǎn)品類型（垂直芯片、橫向芯片、倒裝芯片）的電氣和光學(xué)表征。無(wú)論您是需要高性能、高性價(jià)比還是專業(yè)探針系統(tǒng)...
型號(hào)： CAPELLA系列所在地：深圳市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/5 16:40:22 對(duì)比

CAPELLA系列 MPI 探針臺(tái)光電傳感光電測(cè)試
等離子清洗機(jī)
LEBO science的PT500真空等離子清洗機(jī)，作為Plasma Treatment Equipment，具備以下顯著特點(diǎn)：設(shè)備小巧，操作便捷：采用一鍵式...
型號(hào)： PT500 所在地：南京市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/5 16:39:58 對(duì)比

等離子清洗
區(qū)熔法硅芯爐
SR110區(qū)熔法硅芯爐的工作方式與區(qū)熔系統(tǒng)類似。該系統(tǒng)使用一個(gè)在高頻感應(yīng)線圈下直徑為100毫米的多晶硅棒（源棒）。根據(jù)硅棒的長(zhǎng)度，在多個(gè)拉動(dòng)工藝中可以產(chǎn)生特定數(shù)...
型號(hào)： SR110 所在地：美國(guó) 參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/5 16:34:04 對(duì)比

半導(dǎo)體晶圓長(zhǎng)晶爐
單晶圓刻蝕系統(tǒng)
憑借在蝕刻GaN，SiC和藍(lán)寶石等材料方面的豐富經(jīng)驗(yàn)，我們的技術(shù)既能夠滿足性價(jià)比的要求、又能使器件的性能得到更優(yōu)化。PlasmaPro 100 Polaris單...
型號(hào)： PlasmaPro... 所在地：英國(guó) 參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/5 16:33:24 對(duì)比

刻蝕堅(jiān)硬材料刻蝕
微型輪廓儀（光學(xué)檢測(cè)）
KOSAKA LAB ET 200A微型輪廓儀（光學(xué)檢測(cè)）是株式會(huì)社小坂研究所的高精度微細(xì)形狀測(cè)定機(jī)，基于Windows系統(tǒng)，采用金剛石探針接觸測(cè)量，適用于多種...
型號(hào)： ET200A型所在地：日本參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/5 16:29:06 對(duì)比

微型輪廓儀可靠性測(cè)試
部件鍍膜設(shè)備
它實(shí)現(xiàn)高大量生產(chǎn)性的高真空基本Sputter - 可以生產(chǎn)1Batch/900EA以上的產(chǎn)品，以沉積及Sputter工序的最佳化，提升EMI莫品質(zhì) - 證明“沉...
型號(hào)： HVD-1800 ... 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/5 16:26:45 對(duì)比

鍍膜 HVD-1800 Series 韓國(guó)真空/IOKOVA
單片濕法去膠機(jī)
用于先進(jìn)封裝工藝過(guò)程中的晶圓去膠制程和金屬剝離制程。設(shè)備可搭載槽式浸泡單元、高壓噴淋或二流體噴淋去膠單元、清洗及干燥單元等工藝模塊，滿足各種品牌型號(hào)、各種厚度的...
型號(hào)： KS-S300-S... 所在地：沈陽(yáng)市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/5 16:23:21 對(duì)比

去膠
批量晶圓處理等離子系統(tǒng)
批量晶圓處理等離子系統(tǒng)采用模塊化設(shè)計(jì)，其模塊化控制系統(tǒng)使用最新一代處理器，基于 Linux 平臺(tái)作為操作系統(tǒng)，以及圖形用戶界面 (GUI)。因此，可支持手動(dòng)和全...
型號(hào)： GIGAbatch 所在地：美國(guó) 參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/5 16:21:44 對(duì)比

半導(dǎo)體前道清洗
物理氣相傳輸系統(tǒng)
SiCma系統(tǒng)專為通過(guò)物理氣相傳輸系統(tǒng)（PVT）的方式生產(chǎn)碳化硅晶體而開(kāi)發(fā)。在此過(guò)程中，粉末狀的原材料在高溫下被加熱和升華，最后沉積在特定準(zhǔn)備的基片上。這項(xiàng)工藝...
型號(hào)： SICma Sys... 所在地：美國(guó) 參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/5 16:19:40 對(duì)比

半導(dǎo)體晶圓長(zhǎng)晶爐

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