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科瓦普物理氣相沉積平臺
科瓦普物理氣相沉積平臺COVAP PVD 為許多過程應用提供了緊湊、經(jīng)濟且仍然強大的解決方案。專為需要安全可靠的工具的實驗室而設計，該工具可在緊湊的占地面積內(nèi)生...
型號： COVAP 所在地：加拿大參考價：面議更新時間：2024/9/5 17:34:37 對比

COVAP PVD AE 物理氣相沉積平臺
鈣鈦礦專用涂膜機
鈣鈦礦專用涂膜機，配備4.3寸全彩觸屏，操作便捷。采用硬質(zhì)陽極氧化鋁面板，帶真空吸附，確保涂膜穩(wěn)定。精準控制移動速率，提高涂膜重復性?？蛇x配多種涂膜工具，適應不...
型號： PF200-H 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/5 17:34:07 對比

涂膠
單晶爐
直拉法晶體生長系統(tǒng)SC 24單晶爐專為單晶硅晶體（硅錠）的工業(yè)生產(chǎn)而研發(fā)。該系統(tǒng)的模塊化設計理念可根據(jù)客戶的需求而進行靈活的調(diào)整。低能耗優(yōu)化設計的24英寸熱系統(tǒng)...
型號： SC24 所在地：美國參考價：面議更新時間：2024/9/5 17:33:42 對比

半導體晶圓單晶爐 SC24 PVA TePlad
碳化硅高溫氧化爐
VERIC A6151A 碳化硅高溫氧化爐，適用于碳化硅高溫激活 & 退火的設備,最高溫度 2000℃，升溫速率可達 100℃/min,石墨電阻加熱，工藝腔室潔...
型號： VERIC A61... 所在地：北京市參考價：面議更新時間：2024/9/5 17:32:05 對比

VERIC A6151A 碳化硅高溫氧化爐退火爐北方華創(chuàng)
固體蠟貼片機
固體蠟貼片機（貼蠟機）是一款高精度桌上型貼片機，采用手動涂蠟&放片方式，具有加熱和冷卻功能，自動壓片，蠟層均勻?？缮壵婵召N片功能，先抽真空再熱壓冷卻，貼片效果...
型號： TWB-1150S 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/5 17:27:38 對比

貼片機
單晶爐
直拉法晶體生長系統(tǒng)CGS1218單晶爐，專為符合半導體行業(yè)的嚴格要求而設計。該系統(tǒng)采用模塊化設計，且可以配置鋼絲軟軸或硬軸。配合特殊的晶體軸配置能夠達到最高的精...
型號： CGS1218 所在地：美國參考價：面議更新時間：2024/9/5 17:26:40 對比

半導體晶圓單晶爐 CGS1218 PVA TePla
單晶爐
CGS-Lab單晶爐是PVA產(chǎn)品線中最小的直拉法晶體生長系統(tǒng)，專門為研究所和實驗室設計。10 英寸熱系統(tǒng)的設計用于最多 5 公斤的加料量和生長直徑為 100 毫...
型號： CGS Lab 所在地：美國參考價：面議更新時間：2024/9/5 17:23:55 對比

半導體晶圓單晶爐 PVA TePla CGS Lab
8英寸立式爐
FLOURIS 201系列 8英寸立式爐，高精度溫度場控制技術，可實現(xiàn) 1200℃ 內(nèi)氧化退火工藝。
型號： FLOURIS 2... 所在地：北京市參考價：面議更新時間：2024/9/5 17:22:58 對比

8英寸立式爐 FLOURIS 201系列退火爐北方華創(chuàng)
部件鍍膜設備
部件鍍膜設備KaLine 8V是在真空狀態(tài)中向產(chǎn)品外部涂層非導體的設備,在真空內(nèi)產(chǎn)品做自空傳,由能保持一定的膜厚度構成的.
型號： KaLine 8V 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/5 17:21:20 對比

鍍膜韓國真空/IOKOVA 部件鍍膜設備韓國真空/IOKOVA
IoN系列等離子清洗去膠系統(tǒng)
IoN系列等離子清洗去系統(tǒng)具有多種射頻電源選項，可滿足客戶的特定工藝和產(chǎn)量要求。我們提供不同腔體和電極配置，最大腔體可達 1200 升。
型號： IoN 10Q 所在地：美國參考價：面議更新時間：2024/9/5 17:21:13 對比

半導體前道去膠
實驗型勻膠機
實驗型勻膠機技術參數(shù)：1.適用基片尺寸：小于1cm小碎片及到8寸標準晶圓，非標準基片可定制載物盤2.自動滴膠功能3.支持去邊、背洗、勻膠、顯影、清洗、控溫等功...
型號： customize... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/5 17:20:10 對比

勻膠機實驗型勻膠機勻膠顯影自動滴膠
AE物理氣相沉積平臺
AE物理氣相沉積平臺Nexdep PVD在經(jīng)濟性和多功能性之間取得了平衡。它可以配備強大的工藝增強功能，而不會占用實驗室的所有空間或預算。您的研究目標、生產(chǎn)需求...
型號： NEXDEP 所在地：加拿大參考價：面議更新時間：2024/9/5 17:18:04 對比

NEXDEP PVD AE 物理氣相沉積平臺
12英寸金屬刻蝕機
NMC 612G 12英寸金屬刻蝕機，可用于鋁、硅，氧化物、鉬、氧化銦錫等多種材料刻蝕。
型號： NMC 612G 所在地：北京市參考價：面議更新時間：2024/9/5 17:18:00 對比

12英寸金屬刻蝕機 NMC 612G 北方華創(chuàng)
去膠機
適用于半導體及LED芯片制造領域中的光刻膠去除、金屬剝離等工藝制程。
型號： KS-S150-4... 所在地：沈陽市參考價：面議更新時間：2024/9/5 17:16:52 對比

去膠
高密度刻蝕機
GDE C200系列高密度刻蝕機，等離子體源和頻率設計，等離子體密度高，適用于強鍵合材料刻蝕。
型號： GDE C200系... 所在地：北京市參考價：面議更新時間：2024/9/5 17:13:09 對比

GDE C200系列高密度刻蝕機北方華創(chuàng)
無掩模對光刻機
無掩模對光刻機 MLA 300 提供高吞吐量、簡化的工作流程以及與制造執(zhí)行系統(tǒng) （MES）的集成。該工具用于生產(chǎn)傳感器和傳感器 IC、MEMS 和微流體器件。...
型號： MLA 300 所在地：德國參考價：面議更新時間：2024/9/5 17:12:35 對比

傳感器 MEMS 微流體器件
Amod物理氣相沉積平臺
Angstrom Engineering 的 Amod PVD 平臺是一款物理氣相沉積系統(tǒng)，Amod物理氣相沉積平臺開始允許更大的腔室投射距離，并能夠適應更多的...
型號：所在地：加拿大參考價：面議更新時間：2024/9/5 17:10:22 對比

PVD Amod AE 物理氣相沉積
部件鍍膜設備
部件鍍膜設備實現(xiàn)高大量生產(chǎn)率的高真空基礎In-line Sputter - 1Carrier/20Sheet(A4 Size)產(chǎn)品 Loading可以，以In-...
型號： For Half ... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/5 17:09:58 對比

鍍膜 For Half Mirror Coating 韓國真空/IOKOVA 部件鍍膜設備
程控烤膠機
LEBO science HP100-SE程控烤膠機，7寸觸屏PLC控，硬質(zhì)陽極氧化鋁面板，優(yōu)異性能，專業(yè)服務，實驗理想之選。
型號： HP100-SE標... 所在地：南京市參考價：面議更新時間：2024/9/5 17:09:54 對比

烤膠機
EvoVac 物理氣相沉積平臺
EvoVac PVD 平臺可以做任何您需要的事情。它有一個大腔室，可以配備您需要的任何源或工藝增強。EvoVac 物理氣相沉積平臺是我們具有可定制性的單腔室平臺...
型號：埃沃維克所在地：加拿大參考價：面議更新時間：2024/9/5 17:07:57 對比

EvoVac 物理氣相沉積平臺 PVD Angstrom Engineering

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