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12寸噴霧式涂膠機
KS-S300全自動噴霧式涂膠機通過超聲波將光阻霧化為微小顆粒，適用于在大深寬比的圖形表面以高分辨率均勻地涂敷光刻膠，可以有效覆蓋溝槽的側壁和邊緣，避免溝槽堆積...
型號： KS-S300-S... 所在地：沈陽市參考價：面議更新時間：2024/9/6 10:55:36 對比

涂膠顯影
化學氣相沉積 (PECVD) 系統(tǒng)
PD-220NL 是一種負載鎖定等離子體增強化學氣相沉積 (PECVD) 系統(tǒng)，能夠沉積硅基薄膜（氧化硅、氮化硅、氧氮化硅和非晶硅）。該系統(tǒng)以非常緊湊的占地面積...
型號： PD-220NL 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/6 10:55:35 對比

化學氣相沉積 (PECVD) 系統(tǒng)PD-220NL SAMCO
有機薄膜沉積和金屬化系統(tǒng)
概述針對有機材料沉積進行了優(yōu)化多達 12 個 LTE 信號源;1cc、10cc或35cc容量主體與摻雜劑比 1000：1多達 4 個熱蒸發(fā)源基板快門自動基板、掩...
型號： Super-SPE... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/6 10:53:08 對比

薄膜沉積 KURT.J.LESKER Super-SPECTROS™ 200 有機薄膜沉積和金屬化系統(tǒng)
激光光刻機.
DWL 2000 GS / DWL 4000 GS 激光光刻系統(tǒng)是快速、靈活的高分辨率圖形發(fā)生器。它們針對工業(yè)級灰度光刻進行了優(yōu)化，設計用于集成電路、MEMS、...
型號： DWL 2000 ... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/6 10:52:19 對比

微電子 MEMS 微流體
高溫型烤膠機
HP100-HT-CTM高溫型烤膠機，不銹鋼鍍陶瓷加熱，觸屏控溫，獨立電路，隔熱設計，安全耐用，高溫均勻，適合精密實驗。
型號： HP100-HT-... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/6 10:51:44 對比

烤膠機
Load-lock式濺射設備
Load-lock式濺射設備是可對應從研究開發(fā)到小規(guī)模量產的濺射設備。這種設備通過在真空濺射室之前增加一個預真空鎖室（Load-lock chamber），實現(xiàn)...
型號： CS-200 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/6 10:49:00 對比

Load-lock式濺射設備 CS-200
精密型烤膠機
HP6精密型烤膠機，全鋁機身，高精度控溫，獨立電路，真空吸附，數(shù)顯溫控，可選線性控溫，小巧便攜，適合手套箱使用。
型號： HP6 所在地：南京市參考價：面議更新時間：2024/9/6 10:48:33 對比

烤膠機
化學氣相沉積系統(tǒng)
PD-3800L 化學氣相沉積系統(tǒng)是一種能夠沉積硅基薄膜（氧化硅、氮化硅、氧氮化硅和非晶硅）的鎖載等離子體增強化學氣相沉積（PECVD）系統(tǒng)。該系統(tǒng)由于采用了大...
型號： PD-3800L 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/6 10:43:16 對比

化學氣相沉積（PECVD）系統(tǒng)PD-3800L SAMCO
AP200/300 投影步進式光刻機
AP200/300 系列光刻系統(tǒng)基于 Veeco 的可定制 Unity 平臺™構建，可提供覆蓋層、分辨率和側壁輪廓性能，并可實現(xiàn)高度自動化和具有成本...
型號：所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/6 10:41:07 對比

光刻投影步進
等離子增強化學氣相沉積PECVD
PlasmaPro 800 為大批量晶圓和 300mm 晶圓的等離子增強化學氣相沉積（PECVD）工藝提供了靈活的解決方案，它采用了緊湊的開放式裝載系統(tǒng)。可...
型號： PlasmaPro... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/6 10:40:53 對比

牛津 PECVD 等離子增強
批次式濺射設備
批次式濺射設備SV系列SV系列為縱型batch式濺射設備。為可以處理大量基板的回轉型設備。
型號： SV系列所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/6 10:40:43 對比

批次式濺射設備
濺射鍍膜設備（立式）
濺射鍍膜設備SMD系列（立式）SMD 系列是鍍金屬膜、ITO、IGZO、誘電體膜等的枚葉式濺射鍍膜設備。僅SMD系列就有超過1000臺的豐富的采用實績，在各種各...
型號： SMD系列所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/6 10:36:22 對比

濺射鍍膜設備（立式）SMD系列
12寸集束型涂膠顯影機
KS-C300涂膠顯影機可用于封裝、 MEMS、OLED等領域的涂覆顯影制程，每小時可加工180片晶片，同時產品可兼容不同材質的晶片如硅、玻璃片、鍵合片、化合物...
型號： KS-C300 所在地：沈陽市參考價：面議更新時間：2024/9/6 10:34:55 對比

涂膠顯影
刻蝕設備
量產用刻蝕設備NE-5700/NE-7800量產用刻蝕設備NE-5700/NE-7800是可以對應單腔及多腔、重視性價比擁有擴展性的刻蝕設備。
型號： NE-5700/N... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/6 10:32:07 對比

NE-5700/NE-7800 刻蝕設備
勻膠機
Laurell的EDC-650-15B型勻膠機結構緊湊，具有先進的功能。這款650系列EDC系統(tǒng)將可容納高達300mm的晶圓和9英寸×9英寸（229m...
型號： EDC-650-1... 所在地：美國參考價：面議更新時間：2024/9/6 10:30:17 對比

半導體前道勻膠機
全自動SCRUBBER清洗機
清洗機可以用于對晶圓表面，背面及晶圓邊緣的清洗，通過創(chuàng)新研發(fā)的二流體噴嘴技術可將附著在晶圓表面的細微顆粒污染物去除，實現(xiàn)高效去除。通過大量仿真與工藝試驗相結合，...
型號： KS-CF300/... 所在地：沈陽市參考價：面議更新時間：2024/9/6 10:25:43 對比

晶圓清洗
控溫型勻膠機
控溫型勻膠機，性能優(yōu)秀，專業(yè)服務，高品質材料，安全設計，桌面實驗理想選擇，為科學儀器領域的優(yōu)選產品。
型號： IC8000-S 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/6 10:25:32 對比

勻膠機
原子層沉積ALD
Kurt J. Lesker Company （KJLC） ALD150LX™是一種原子層沉積ALD 系統(tǒng)，專為高級研發(fā) （R&D）應用而設計。創(chuàng)...
型號： ALD-150LX... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/6 10:19:33 對比

原子層沉積ALD ALD-150LX™KURT.J.LESKER
單片清洗機
用于晶圓級封裝及OLED中的清洗工藝，配合清洗化學藥液、高壓水清洗、常壓水清洗、兆聲波清洗、二流體水清洗、毛刷和噴灑清洗劑等手段，可有效去除晶圓表面顆粒、有機物...
型號： KS-S300-S... 所在地：沈陽市參考價：面議更新時間：2024/9/6 10:17:16 對比

晶圓清洗
化學氣相沉積 (PECVD) 設備
PD-2201LC 是一種盒式裝載等離子體增強化學氣相沉積 (PECVD) 設備，能夠沉積硅基薄膜（氧化硅、氮化硅、氧氮化硅和非晶硅）。該系統(tǒng)在節(jié)省空間的提下提...
型號： PD-2201LC 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/6 10:16:09 對比

PD-2201LC 化學氣相沉積 (PECVD) 設備 SAMCO

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