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YZ-2030 宇正YZ-2030大功率水冷夾套不銹鋼腔體式微波等離子體化學(xué)氣相沉積裝置
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
- 公司名稱 合肥宇正等離子體技術(shù)有限公司
- 品牌
- 型號(hào) YZ-2030
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時(shí)間 2017/7/12 13:32:12
- 訪問次數(shù) 2589
產(chǎn)品標(biāo)簽
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概述
宇正YZ-2030大功率水冷夾套不銹鋼腔體式微波等離子體化學(xué)氣相沉積裝置由合肥宇正等離子體技術(shù)有限公司研發(fā)生產(chǎn)。該裝置早在2000年就通過省*鑒定并在多所大學(xué)與科研院所等單位投入使用,效果良好。歷經(jīng)多年發(fā)展,該裝置技術(shù)*,性能穩(wěn)定,使用方便可靠。
宇正YZ-2030大功率水冷夾套不銹鋼腔體式微波等離子體化學(xué)氣相沉積裝置由微波系統(tǒng)、水冷諧振腔反應(yīng)室、氣路系統(tǒng)、真空系統(tǒng)、循環(huán)水冷卻系統(tǒng)和電子控制系統(tǒng)組成。裝置的主要工作原理是由微波源產(chǎn)生頻率為2450MHz的微波,沿波導(dǎo)管傳輸,zui后在水冷諧振腔反應(yīng)室內(nèi)激勵(lì)氣體形成軸對稱的等離子體球,等離子體球的直徑大小取決于真空沉積室中的氣體壓力和微波功率?;瑴囟纫晕⒉ǖ入x子體的自加熱方式達(dá)到。
對于CH4-H2氣體系統(tǒng)而言,在高能量高密度等離子體和合適的工藝條件下,氣體發(fā)生離解而產(chǎn)生大量含碳基團(tuán)和原子氫。含碳基團(tuán)在基片表面進(jìn)行結(jié)構(gòu)重組,由于原子氫對SP2鍵的刻蝕作用遠(yuǎn)比對SP3鍵強(qiáng)烈,這樣重組后的碳-碳間具有金剛石結(jié)構(gòu)的SP3鍵得以保留,開始金剛石晶粒的優(yōu)先成核、生長階段,逐漸在基片表面上得到完整的金剛石薄膜。該裝置產(chǎn)生和維持微波等離子體球均為無電極放電,避免了電極的放電污染,可以獲得純凈的金剛石膜,能量轉(zhuǎn)換效率也較高,運(yùn)行氣壓范圍寬,可產(chǎn)生大范圍高密度等離子體。該裝置可用于各種薄膜的沉積、等離子體清洗、微波燒結(jié)、金屬表面強(qiáng)化和高聚物表面改性等方面,特別適合制備大面積均勻無雜質(zhì)污染的高質(zhì)量金剛石膜(白色透明),廣泛應(yīng)用于機(jī)械、光學(xué)、電子、航空航天、國防軍事等領(lǐng)域。
技術(shù)指標(biāo)與特性
1) 微波功率源采用*的單片機(jī)控制,精度高,穩(wěn)定性好。微波源采用連鎖控制方式和可靠的保護(hù)系統(tǒng),能有效防止誤操作,保證了微波源正常安全地工作。該微波源工作頻率為2450MHz(正負(fù)15MHz),輸出功率為500~5000W連續(xù)可調(diào),反射功率為輸出功率的0~50%連續(xù)可調(diào)(要求三相電源不平衡zui大電壓差不超過3%)。電源電壓在265~410V變化且輸出功率為5KW時(shí),輸出功率變化小于2%。功率顯示采用兩套6位數(shù)字分別顯示輸出功率和反射功率。
2) 微波傳輸系統(tǒng)帶三端環(huán)形器、電動(dòng)三銷釘調(diào)配器、大功率負(fù)載,可保證等離子體終端負(fù)載的駐波系數(shù)(VSWR)在1.5-20大幅變化時(shí)仍能調(diào)配和穩(wěn)定工作。大功率負(fù)載上有反射檢波器,以檢測反射功率的大小。
3) 微波傳輸與模式轉(zhuǎn)換系統(tǒng)由環(huán)形器、水負(fù)載、定向耦合器、三螺釘阻抗調(diào)配器、微波模式轉(zhuǎn)換器(包括耦合天線)及BJ26銅波導(dǎo)。
4) 氣路系統(tǒng)由三路氣體自動(dòng)質(zhì)量流量控制器組成,流量范圍0-1000sccm,0-50sccm,0-30sccm。響應(yīng)時(shí)間10sec,準(zhǔn)確度正負(fù)2%,工作壓差范圍0.05-0.3MPa。氣體直接由反應(yīng)室頂部通過均流環(huán)進(jìn)入沉積室,氣體流量大小由質(zhì)量流量控制器進(jìn)行控制和測量及顯示。
5) 真空測量儀表采用電離規(guī)管復(fù)合真空計(jì)、熱偶真空計(jì)和壓敏真空計(jì),可精確測量本底真空和工作氣體壓強(qiáng)。
6) 真空泵及閥門采用渦輪分子泵(極限真空為1x10^-5Pa)和旋片式機(jī)械真空泵(極限真空為6x10^-2Pa),裝置可調(diào)節(jié)高真空隔膜閥和并聯(lián)高真空微調(diào)閥控制沉積氣壓。
7) 沉積室由全金屬密封微波石英窗(直徑100mm)水冷不銹鋼腔室(直徑140mm)和水冷基片臺(tái)(可自由升降和旋轉(zhuǎn))組成。該沉積室采用反應(yīng)氣體均流措施,石英窗口內(nèi)加有氣體均流環(huán),使反應(yīng)室內(nèi)基片加熱以微波等離子體自加熱方式實(shí)現(xiàn)。
8) 裝置常規(guī)采用380V三相電源。
9) 自帶冷卻水循環(huán)系統(tǒng)形成冷卻水。 制冷系統(tǒng)可保證冷卻水溫度在30度以下, 無水源要求。水冷裝置除對微波系統(tǒng)和分子泵進(jìn)行冷卻外,還對等離子體反應(yīng)沉積室和基片臺(tái)進(jìn)行冷卻,保證裝置能在高功率下*穩(wěn)定運(yùn)行。
*性
1) 在微波耦合技術(shù)和模式轉(zhuǎn)換技術(shù)方面成功實(shí)現(xiàn)了微波與等離子體的軸對稱耦合,提高了微波功率的輸入水平,改善反應(yīng)沉積室對微波傳輸線的阻抗匹配,形成了軸對稱球狀大面積的等離子體球。
2) 采用有效的氣體均流措施,在微波石英窗下的不銹鋼反應(yīng)腔內(nèi)加有氣體均流環(huán),使進(jìn)入反應(yīng)室內(nèi)氣相化合物的氣流分布比較均勻且分解充分,有利于形成高質(zhì)量大面積均勻薄膜特別是金剛石薄膜。基片臺(tái)可水冷且電動(dòng)控制升降,還能手動(dòng)旋轉(zhuǎn)。
3) 微波輸入石英窗口是全金屬封閉。裝置配備循環(huán)水冷卻系統(tǒng),可對微波系統(tǒng)(磁控管、水負(fù)載、模式轉(zhuǎn)換器)、等離子體反應(yīng)腔、微波輸入窗口和基片臺(tái)進(jìn)行冷卻,保證裝置能長時(shí)間在高微波功率下穩(wěn)定運(yùn)行,增加了裝置使用壽命和功能。
4) 微波扼流快捷裝卸門可保證基體和產(chǎn)品的快捷裝卸,并能有效防止微波泄露。
5) 電動(dòng)升降的微波扼流式水冷基片臺(tái)可使等離子體球覆蓋表面并能調(diào)控基片溫度。
6) 反應(yīng)腔室設(shè)置多個(gè)法蘭窗口,便于直接觀察等離子體反應(yīng)過程。根據(jù)用戶需求可另外加入光學(xué)測溫和等離子體原位診斷以及基片偏壓和熱電偶測溫。
7) 反應(yīng)室除了快捷裝卸門的密封外,其他均采用金屬密封,提高了反應(yīng)室的功率容量,大大提高了反應(yīng)室的本底真空。在整體水冷的條件下可大大減少等離子體中的雜質(zhì)污染,為高純度產(chǎn)品制備提供保證。
8) 整個(gè)裝置采用*的PLC(可編程邏輯控制器)控制,通過控制面板設(shè)置運(yùn)行參數(shù)后,裝置運(yùn)行控制全部由PLC完成,控制精確穩(wěn)定性強(qiáng),使用簡單方便。該裝置配有標(biāo)準(zhǔn)的RS-232串行接口,方便與計(jì)算機(jī)連接并提供計(jì)算機(jī)控制軟件,亦可由計(jì)算機(jī)控制裝置運(yùn)行。該裝置配備完善的保護(hù)系統(tǒng),對電源、冷卻水、內(nèi)部打火等異常情況能自動(dòng)保護(hù),磁控管各參數(shù)自動(dòng)檢測和連鎖保護(hù),確保工作安全可靠。提供外接連鎖保護(hù)接口,含220V/1A交流控制輸出和門開關(guān)保護(hù)接口。當(dāng)水電氣出現(xiàn)故障裝置會(huì)自動(dòng)報(bào)警并切斷電源,可實(shí)現(xiàn)長時(shí)間無人值守自動(dòng)運(yùn)行。