VTF-1600X-TSSG頂部籽晶法晶體生長爐 參考價：面議
VTF-1600X-TSSG頂部籽晶法晶體生長爐可利用助溶劑法生長各種材料單晶。箱式爐采用氧化鋁纖維作為爐膛材料，以MoSi2為加熱元件，其腔體尺寸為φ330m...
SP-MSM-4CZ四電弧提拉法單晶生長爐 參考價：面議
SP-MSM-4CZ四電弧提拉法單晶生長爐是一款采用4電弧的提拉法單晶生長爐（采用Ar氣電弧對樣品熔融，提拉裝置提拉），其溫度可達3000℃。腔體為304不銹鋼...
SKJ-BG1650布里奇曼單晶生長爐 參考價：面議
SKJ-BG1650布里奇曼單晶生長爐是一款高質(zhì)量的布里奇曼單晶生長爐，高溫度可達1650℃。此款設(shè)備可生長出各種金屬單晶，目前本公司用此款設(shè)備已經(jīng)生長出Cu,...
小型布里奇曼晶體生長爐 參考價：面議
OTF-1200X-S-VT-BMGH是一款小型的1100℃布里奇曼單晶生長爐，配有2英寸的石英管，精密提拉機。用于在氣氛保護環(huán)境下或密封石英坩堝環(huán)境下生長小尺...
高真空鉭加熱爐 參考價：面議
高真空鉭加熱爐是高溫電阻加熱爐。以鉭為加熱元件，適用于高真空狀態(tài)下對金屬、非金屬及其化合物進行燒結(jié)、熔化，也可以對小型樣品進行真空釬焊的操作，如硬質(zhì)合金、鎳基合...
OTF-1200X-4-VTQ管式退火爐 參考價：面議
4“管式退火爐OTF-1200X-4-VTQ是一款立式可開啟真空管式淬火爐，配有一個密封的液體容器用于樣品淬火，樣品可從Z高溫度1200℃環(huán)境到冰水或冷油中，可...
4真空立式淬火爐OTF-1200X-4-VTQ 參考價：面議
4“真空立式淬火爐OTF-1200X-4-VTQ是一款立式可開啟真空管式淬火爐，配有一個密封的液體容器用于樣品淬火，樣品可從Z高溫度1200℃環(huán)境到冰水或冷油中...
小型1000℃RTP爐OTF-1200X-4-RTP 參考價：面議
小型1000℃RTP爐OTF-1200X-4-RTP 是一款精巧型快速熱處理管式爐，配有4″石英管和真空法蘭，是專為半導(dǎo)體或太陽能電池基片（Z大3″）的退火而設(shè)...
1700℃ 8升氫氣爐KSL-1700X-H2 參考價：面議
1700℃ 8升氫氣爐KSL-1700X-H2屬于高溫箱式爐，專門針對于材料在氫氣或惰性氣體環(huán)境下進行燒結(jié)或退火的使用。采用氧化鋁纖維作為爐膛材料，鉬絲作為加熱...
臺車爐ZWDL-900X 參考價：面議
臺車爐ZWDL-900X是箱式高溫?zé)Y(jié)爐，為分體結(jié)構(gòu)，爐襯使用真空成型高純氧化鋁聚輕材料，采用硅碳棒為加熱元件。工件式樣在箱體中加熱，加熱元件均勻的裝于兩壁，有...
1100℃豎式馬弗爐GSL-1100D11 參考價：面議
1100℃豎式馬弗爐GSL-1100D11是大型的豎式馬弗爐，其Z高溫度為1100℃，精確的溫控系統(tǒng)包含了30段升溫和降溫曲線設(shè)置，其控溫精度達到± ...
1000℃臥式馬弗爐 參考價：面議
1000℃臥式馬弗爐爐襯使用真空成型高純氧化鋁聚輕材料，采用電阻絲為加熱元件，且均勻地分布六面墻體，有效的保證了溫場的均勻性。測溫采用性能穩(wěn)定、長壽命的“S"型...
4″高真空RTP爐OTF-1200X-4-RTP-HV 參考價：面議
4″高真空RTP爐OTF-1200X-4-RTP-HV 是一款精巧型快速熱處理管式爐，配有4″石英管及高真空系統(tǒng)（機械泵+分子泵）， 是專為半導(dǎo)體或太陽能電池基...
可滑動RTP爐OTF-1200X-4-RTP-SL 參考價：面議
可滑動RTP爐OTF-1200X-4-RTP-SL是一種快速熱處理爐，采用紅外燈加熱和移動爐體快速冷卻，可獲得Z高升溫速率為100°C/s 、降溫速率...
雙管滑動快速加熱冷卻爐OTF-1200X-4-C4LVS 參考價：面議
雙管滑動快速加熱冷卻爐OTF-1200X-4-C4LVS是特殊的雙管CVD系統(tǒng)，是專為在金屬箔上生長薄膜而設(shè)計的，特別適用于新一代能源——柔性金屬箔電極方面的研...
可滑動RTP爐 OTF-1200X-4-RTP-SL 參考價：面議
可滑動RTP爐OTF-1200X-4-RTP-SL是一種快速熱處理爐，采用紅外燈加熱和移動爐體快速冷卻，可獲得Z高升溫速率為100°C/s 、降溫速率...
1200℃單管滑動快速加熱冷卻爐OTF-1200X-80SL 參考價：面議
1200℃單管滑動快速加熱冷卻爐OTF-1200X-80SL底部安裝一對滑軌，可手動進行爐體移動，Z高工作溫度達1200°C，加熱和冷卻速率在真空或者...
1200℃雙管滑動式四通道混氣CVD系統(tǒng)OTF-1200X-4-C4LV 參考價：面議
1200℃雙管滑動式四通道混氣CVD系統(tǒng)OTF-1200X-4-C4LV是專門為在金屬箔表面生長薄膜而設(shè)計的，特別是應(yīng)用在新一代能源——柔性金屬箔電極方面的研究...
800℃高壓爐OTF-1200X-HVHP-80 參考價：面議
800℃高壓爐OTF-1200X-HVHP-80是高溫高壓管式爐，爐管采用 SS310S鎳基合金鋼制作而成，兩端配有法蘭和閥門，專為在105 PSI高壓下使用，...
800℃雙溫區(qū)高壓爐OTF-1200X-II-HVHP-80 參考價：面議
800℃雙溫區(qū)高壓爐OTF-1200X-II-HVHP-80是高溫高壓管式爐，爐管采用 SS310S鎳基合金鋼制作而成，兩端配有法蘭和閥門，專為在105 PSI...
1100℃高壓爐OTF-1200X-60UV 參考價：面議
1100℃高壓爐OTF-1200X-60UV爐管采用鎳基合金鋼制作而成，抗氧化性較強，Z高溫度可達1100℃，Z大真空度可達10-6 torr，可在高溫狀態(tài)下通...
1100℃高壓爐OTF-1200X-HP-55 參考價：面議
1100℃高壓爐OTF-1200X-HP-55是開啟式高溫高壓管式爐，爐管采用 SS310S鎳基合金鋼制作而成，Z高壓力高達20MPa，Z高溫度可達1100℃，...
真空熱壓爐OTF-1200X-VHP4 參考價：面議
真空熱壓爐OTF-1200X-VHP4是在真空高壓下制備致密化合物材料的理想工具，在5T壓力下可鍵合多層基片。本機可以加熱到1100 ℃，并設(shè)有30段控溫程序。
RC-Ti-100小型鈦金屬反應(yīng)釜 參考價：面議
RC-Ti-100小型鈦金屬反應(yīng)釜是由純鈦金屬制作而成，Z大可耐4Mpa的壓力，是制備*材料，尤其是水熱法合成生物材料的理想工具。
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