多功能鍍膜儀 參考價(jià)：面議
多功能鍍膜儀是雙組件設(shè)計(jì)配備磁控濺射逐漸和熱蒸發(fā)鍍膜組件，即可實(shí)現(xiàn)磁控濺射各種金屬膜，也可實(shí)現(xiàn)熱蒸發(fā)度碳膜。雙組件共存，工作時(shí)只需將樣品放置與對(duì)應(yīng)的組件下方即可...
電極制備鍍膜儀 參考價(jià)：面議
電極制備鍍膜儀雙組件設(shè)計(jì)配備磁控濺射逐漸和熱蒸發(fā)鍍膜組件，即可實(shí)現(xiàn)磁控濺射各種金屬膜，也可實(shí)現(xiàn)熱蒸發(fā)度碳膜。雙組件共存，工作時(shí)只需將樣品放置與對(duì)應(yīng)的組件下方即可...
手套箱專用磁控濺射儀 參考價(jià)：面議
GVC-2000手套箱專用磁控濺射儀采用觸摸控制，外置泵組設(shè)計(jì)，采用平面磁控濺射靶設(shè)計(jì)，從而使試樣在熱效應(yīng)最小的條件下得到有效的濺射效果，常用于鋰電池電極防氧化...
GVC-2000磁控膜厚一體濺射儀 參考價(jià)：面議
GVC-2000磁控膜厚一體濺射儀內(nèi)部集成膜厚檢測(cè)控制模塊，可精確測(cè)量、實(shí)時(shí)顯示當(dāng)前鍍膜厚度。
GVC-5000T高真空多功能鍍膜儀 參考價(jià)：面議
GVC-5000T高真空多功能鍍膜儀雙組件設(shè)計(jì)；防污擋板設(shè)計(jì)；一鍵切換工作模式；鍍膜效率高、顆粒度小。
GVC-3000T高真空熱蒸發(fā)鍍碳儀 參考價(jià)：面議
GVC-3000T高真空熱蒸發(fā)鍍碳儀效率更高、顆粒更細(xì)，膜厚更均勻。7英寸TFT彩色液晶觸摸屏。
GVC-3000熱蒸發(fā)鍍碳儀 參考價(jià)：面議
GVC-3000熱蒸發(fā)鍍碳儀擁有優(yōu)秀的濺射系統(tǒng)，可以更換彈射進(jìn)行蒸鍍，實(shí)現(xiàn)高要求的細(xì)粒涂層。更加適合SEM領(lǐng)域的EDS和WDS應(yīng)用。
GVC-5000多功能鍍膜儀 參考價(jià)：面議
GVC-5000多功能鍍膜儀配備磁控濺射逐漸和熱蒸發(fā)鍍膜組件，即可實(shí)現(xiàn)磁控濺射各種金屬膜，也可實(shí)現(xiàn)熱蒸發(fā)度碳膜。
射頻磁控濺射鍍膜儀 參考價(jià)：面議
GVC-1000射頻磁控濺射鍍膜儀主要適用于掃描電鏡鍍覆導(dǎo)電膜，儀器操作簡(jiǎn)單方便，是樣品制備所必要的儀器。適用的靶材：金、鉑、金鈀合金、銀、鉛、銅、鉻、銻等！
GVC-2000T高真空磁控離子濺射儀 參考價(jià)：面議
GVC-2000T高真空磁控離子濺射儀是一款容易操控的磁控離子濺射儀，為自動(dòng)化技術(shù)鍍膜機(jī)給予市面上最好使用價(jià)值的商品。它被用于非導(dǎo)電性樣品的預(yù)備處理商品，以提升...
GVC-2000磁控離子濺射儀 參考價(jià)：面議
GVC-2000磁控離子濺射儀顆粒更小，更適宜于高倍圖像觀測(cè)，適配場(chǎng)發(fā)射/高分辨場(chǎng)發(fā)射電鏡。
GVC-2000TD高真空磁控離子濺射儀 參考價(jià)：面議
GVC-2000TD高真空磁控離子濺射儀可制備各種金屬、單質(zhì)、無機(jī)非金屬薄膜；不破真空情況下，可實(shí)現(xiàn)多層復(fù)合膜制備。
磁控離子濺射儀 參考價(jià)：面議
GVC-2000P磁控離子濺射儀一鍵操作，具備工作完成提示音；鍍膜顆粒小，無熱損傷；靶材更換非常簡(jiǎn)單。
輝光放電儀 參考價(jià)：面議
名稱：輝光放電儀型號(hào)：GVC-100用途：親水性處理應(yīng)用領(lǐng)域：透射電鏡 生物樣品制備
小型分子泵機(jī)組 參考價(jià)：面議
小型分子泵機(jī)組全無油真空系統(tǒng)；一鍵式啟停操作；快速連接方式；可便捷移動(dòng)真空獲得設(shè)備。
全自動(dòng)離子濺射儀 參考價(jià)：面議
GVC-1000全自動(dòng)離子濺射儀為掃描電鏡用戶在制樣過程中提供了更廣泛的選擇，以便適用支持掃描電子顯微鏡所需的涂層要求。在結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)及人機(jī)界面方面更加注重人性，簡(jiǎn)...
磁控離子濺射儀 參考價(jià)：面議
GVC-2000磁控離子濺射儀基本無溫升、樣品表面無熱損失；顆粒更小，更適宜于高倍圖像觀測(cè)，適配場(chǎng)發(fā)射/高分辨場(chǎng)發(fā)射3.低壓大電流濺射，效率更高。
磁控膜厚一體濺射儀 參考價(jià)：面議
GVC-2000磁控膜厚一體濺射儀內(nèi)部集成膜厚檢測(cè)控制模塊，可精確測(cè)量、實(shí)時(shí)顯示當(dāng)前鍍膜厚度；精準(zhǔn)測(cè)量并復(fù)現(xiàn)當(dāng)前試驗(yàn)結(jié)果。
手套箱鍍電極專用磁控濺射儀 參考價(jià)：面議
GVC-2000手套箱鍍電極專用磁控濺射儀為掃描電鏡用戶在制樣過程中提供了更廣泛的選擇,以便適用支持掃描電子顯微鏡所需的涂層要求?？捎糜诩儦?、純氮環(huán)境，使樣品免...
熱蒸發(fā)鍍碳儀 參考價(jià)：面議
熱蒸發(fā)鍍碳儀7英寸TFT觸摸屏，全數(shù)字顯示；全自動(dòng)控制，一鍵式操作；4根碳繩交替工作，自動(dòng)檢測(cè)通斷；連續(xù)蒸發(fā)、脈沖蒸發(fā)兩種工作模式。
高真空磁控離子濺射儀 參考價(jià)：面議
GVC-2000T 高真空磁控離子濺射儀沒有熱損傷，效率更高，顆粒度更細(xì)，更適合高分辨電鏡。適用于高分辨掃描電鏡樣品制備，電極制備-可制備各種金屬電極、ITO電...
高真空多功能鍍膜儀 參考價(jià)：面議
高真空多功能鍍膜儀雙組件設(shè)計(jì)；防污擋板設(shè)計(jì)；一鍵切換工作模式；鍍膜效率高、顆粒度小；可鍍所有金屬膜和ITO導(dǎo)電膜；工作過程全自動(dòng)；軟硬件互鎖，安全可靠。
高真空熱蒸發(fā)鍍碳儀 參考價(jià)：面議
GVC-3000T高真空熱蒸發(fā)鍍碳儀應(yīng)用領(lǐng)域：1.EDS樣品制備2. EBSD樣品制備3.MLA系統(tǒng)樣品制備4.其它需要制備碳膜的領(lǐng)域。(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)
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