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VacTechniche真空鍍膜系統(tǒng) 沉積和熱蒸發(fā)器

英國VacTechniche,真空鍍膜系統(tǒng),濺射鍍膜機(jī),PLD-T 脈沖激光器，沉積和熱蒸發(fā)器

PLD-T 脈沖激光器沉積和熱蒸發(fā)器

SEM/TEM 樣品制備 Vac Techniche

多功能脈沖激光沉積和熱蒸發(fā)器系統(tǒng) – PLD-T 是一種高真空薄膜沉積系統(tǒng)，可通過脈沖激光沉積和熱蒸發(fā)技術(shù)沉積不同的材料。它可以將復(fù)雜材料和晶體結(jié)構(gòu)沉積到基板上，只需很少的設(shè)置。

脈沖激光沉積技術(shù)可實(shí)現(xiàn)高效的非熱燒蝕，并保持靶材的化學(xué)計(jì)量。通過應(yīng)用這種方法，它可以沉積氮化物、氧化物、超晶格、聚合物和復(fù)合材料等材料。

PLD-T
熱蒸發(fā)源
（舟/籃/盤管）

脈沖激光沉積系統(tǒng)可配備三個(gè)獨(dú)立的熱阻熱蒸發(fā)源。蒸發(fā)源支架的良好設(shè)計(jì)不會(huì)使污染物從源材料轉(zhuǎn)移到其他材料。源架的長(zhǎng)度可在 5~10 cm 范圍內(nèi)調(diào)節(jié)，滿足客戶要求。

DCT-Desktop 碳素涂布機(jī)

轉(zhuǎn)速可調(diào)的目標(biāo)機(jī)械手
3 個(gè)熱源和特殊的饋入件
用于實(shí)時(shí)厚度測(cè)量的石英晶體監(jiān)測(cè)系統(tǒng)（精度為 1 nm）
直觀的觸摸屏，用于控制涂層過程和快速數(shù)據(jù)輸入
等離子清洗
用戶友好型軟件，可通過網(wǎng)絡(luò)更新
配備旋轉(zhuǎn)樣品架
配備電子快門
配備機(jī)動(dòng)船選擇
500 °C 基板加熱器
兩年保修

VacTechniche真空鍍膜系統(tǒng) 沉積和熱蒸發(fā)器

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PLD-T 脈沖激光器沉積和熱蒸發(fā)器

脈沖激光沉積技術(shù)可實(shí)現(xiàn)高效的非熱燒蝕，并保持靶材的化學(xué)計(jì)量。通過應(yīng)用這種方法，它可以沉積氮化物、氧化物、超晶格、聚合物和復(fù)合材料等材料。

PLD-T
熱蒸發(fā)源
（舟/籃/盤管）

DCT-Desktop 碳素涂布機(jī)

轉(zhuǎn)速可調(diào)的目標(biāo)機(jī)械手

3 個(gè)熱源和特殊的饋入件

用于實(shí)時(shí)厚度測(cè)量的石英晶體監(jiān)測(cè)系統(tǒng)（精度為 1 nm）

直觀的觸摸屏，用于控制涂層過程和快速數(shù)據(jù)輸入

等離子清洗

用戶友好型軟件，可通過網(wǎng)絡(luò)更新

配備旋轉(zhuǎn)樣品架

配備電子快門

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PLD-T 脈沖激光器沉積和熱蒸發(fā)器

脈沖激光沉積技術(shù)可實(shí)現(xiàn)高效的非熱燒蝕，并保持靶材的化學(xué)計(jì)量。通過應(yīng)用這種方法，它可以沉積氮化物、氧化物、超晶格、聚合物和復(fù)合材料等材料。

PLD-T熱蒸發(fā)源（舟/籃/盤管）

DCT-Desktop 碳素涂布機(jī)

轉(zhuǎn)速可調(diào)的目標(biāo)機(jī)械手

3 個(gè)熱源和特殊的饋入件

用于實(shí)時(shí)厚度測(cè)量的石英晶體監(jiān)測(cè)系統(tǒng)（精度為 1 nm）

直觀的觸摸屏，用于控制涂層過程和快速數(shù)據(jù)輸入

等離子清洗

用戶友好型軟件，可通過網(wǎng)絡(luò)更新

配備旋轉(zhuǎn)樣品架

配備電子快門

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PLD-T
熱蒸發(fā)源
（舟/籃/盤管）

直觀的觸摸屏，用于控制涂層過程和快速數(shù)據(jù)輸入