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        1. 武漢賽斯特精密儀器有限公司
          初級(jí)會(huì)員 | 第5年

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          當(dāng)前位置:武漢賽斯特精密儀器有限公司>>等離子體表面處理系統(tǒng)>>等離子清洗機(jī)定制>> PLUTO-M等離子清洗機(jī)/處理機(jī)

          PLUTO-M等離子清洗機(jī)/處理機(jī)

          參  考  價(jià)面議
          具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

          產(chǎn)品型號(hào)

          品       牌其他品牌

          廠商性質(zhì)生產(chǎn)商

          所  在  地武漢市

          更新時(shí)間:2021-06-22 15:34:35瀏覽次數(shù):602次

          聯(lián)系我時(shí),請(qǐng)告知來自 化工儀器網(wǎng)
          應(yīng)用領(lǐng)域 環(huán)保,生物產(chǎn)業(yè),能源,電子
          PLUTO-M等離子清洗機(jī)/處理機(jī) 是針對(duì)于高校,科學(xué)研究所和企業(yè)實(shí)驗(yàn)室,或者小批量生產(chǎn)的創(chuàng)新性企業(yè)而研發(fā)的創(chuàng)新型實(shí)驗(yàn)平臺(tái)。我們收集了大量客戶使用信息,分析應(yīng)用需求,將多年設(shè)計(jì)和制造經(jīng)驗(yàn)應(yīng)用于小型化,多功能的等離子體表面處理設(shè)備。

          PLUTO-M等離子清洗機(jī)/處理機(jī)

          產(chǎn)品特點(diǎn):

          等離子源采用頻率為13.56MHz射頻發(fā)生器,同時(shí)具備物理清洗和化學(xué)清洗能力。

          電源功率為200W,覆蓋常規(guī)處理需求

          創(chuàng)新設(shè)計(jì),可調(diào)整電極之間距離,調(diào)整等離子體濃度和強(qiáng)度,大提升處理效率和能力

          真空腔體和管道連接件均采用316不銹鋼,電極6061航空鋁合金,配件材質(zhì)精良,保證設(shè)備穩(wěn)定高效運(yùn)行

          樣品處理面積可達(dá)125mm(大處理面積可達(dá)200mm,如有需求請(qǐng)咨詢銷售人員)

          4.3寸工業(yè)級(jí)觸摸屏,操作簡單,可設(shè)置多種實(shí)驗(yàn)參數(shù)

          性能穩(wěn)定可靠,質(zhì)量穩(wěn)定,自主研發(fā),售后有保障

          PLUTO-M等離子清洗機(jī)/處理機(jī)

          產(chǎn)品參數(shù):

          1. 真空腔規(guī)格: 316不銹鋼腔體,直徑210mm*(深)230mm 約4L

          2. 電極:兩個(gè)自適應(yīng)平板電極,材質(zhì)T6061鋁合金

          3. 電極尺寸:120*135mm 間距20~75mm 可調(diào)

          4. 等離子體發(fā)生器:RF射頻發(fā)生器,頻率:13.56MHz

          5. 功率:0-200W連續(xù)可調(diào),精度1W

          6. 氣體控制:針式氣體流量閥,標(biāo)配1路氣體

          7. 控制方式:4.3寸工業(yè)控制觸摸屏

          控制軟件功能:界面顯示實(shí)時(shí)工作狀態(tài),

          可顯示設(shè)置值與實(shí)際值,便于實(shí)時(shí)控制。

          可自由設(shè)置等離子功率,通入氣體時(shí)間

          全手動(dòng)控制和全自動(dòng)控制可選

          8. 保護(hù)裝置:一鍵急停保護(hù)按鈕

          等離子體表面處理系統(tǒng)Pluto-M?參數(shù)(標(biāo)準(zhǔn)配置)

          外部尺寸

          404*640*515mm

           

          真空腔尺寸

          直徑210mm*230mm

          不銹鋼腔體

          電極尺寸

          125*125mm

          多空自適應(yīng)平板電極

          等離子體發(fā)生器

          RF射頻發(fā)生器,頻率:13.56MHz

          自適應(yīng)阻抗匹配電源

          功率

          0-200W連續(xù)可調(diào)

          精度1W

          真空計(jì)

          熱電偶真空計(jì) 0-1000mT

           

          供氣

          1路氣體

          6mm國標(biāo)連接件(軟管)

          控制方式

          4.3寸觸摸屏

           

          可 選 配 置

          ALC

          純鋁腔體

           

          RF-300

          等離子體發(fā)生器

          頻率13.56MHz ,0-300W自動(dòng)阻抗匹配電源

          可調(diào)電極

          可調(diào)節(jié)電極間距

          電極間距20-60mm可調(diào),改變等離子體場濃度特性

          CM裝置

          沉積鍍膜模塊

          用于改變表面特性:

          1.    沉積CF材料,樣品表面可以具有憎水的特性

          2.    沉積含苯材料,樣品表面起到絕緣防水的特性

          3.    沉積含有羥基的材料,提高樣品表面和其他材料的結(jié)合效果。

          GP裝置

          氣體純化裝置

           

          PPU

          粉體處理裝置

          用于處理微納米級(jí)別顆粒

           

          氣體收集裝置

          用于收集等離子體化學(xué)反應(yīng)后的氣體

           

          小型氧氣發(fā)生器

          用于制備氧氣,可取代氧氣罐

           

          氣體混合裝置

          可以根據(jù)可以要求進(jìn)行混氣設(shè)計(jì)

           

          感應(yīng)耦合模塊

          感應(yīng)耦合等離子體裝置

           

          加熱電極模塊

          電極可以加熱,室溫~200度可調(diào)。

           

          光譜儀模塊

          可以增加光譜儀的接口,檢測等離子體光譜變化

           

          電極轉(zhuǎn)換模塊

          可以自由變換電極設(shè)計(jì),樣品可以放在射頻電極上,也可以放在地電極上。從而實(shí)現(xiàn)不同的處理效果。

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