等離子體納米表面處理改造系統(tǒng)產(chǎn)品特點：

等離子源采用頻率為13.56MHz射頻發(fā)生器，同時具備物理清洗和化學清洗能力。

電源功率為200W，覆蓋常規(guī)處理需求。

創(chuàng)新設(shè)計，可調(diào)整電極之間距離，調(diào)整等離子體濃度和強度，大提升處理效率和能力。

真空腔體和管道連接件均采用316不銹鋼，電極6061航空鋁合金，配件材質(zhì)精良，保證設(shè)備穩(wěn)定高效運行。

樣品處理面積可達125mm（大處理面積可達200mm，如有需求請咨詢銷售人員）。

4.3寸工業(yè)級觸摸屏，操作簡單，可設(shè)置多種實驗參數(shù)。

性能穩(wěn)定可靠，質(zhì)量穩(wěn)定，自主研發(fā)，售后有保障。

等離子體納米表面處理改造系統(tǒng)產(chǎn)品參數(shù)：

1. 真空腔規(guī)格：316不銹鋼腔體，直徑210mm*(深)230mm，約4L

2. 電極：兩個自適應(yīng)平板電極，材質(zhì)T6061鋁合金

3. 電極尺寸：120*135mm間距20~75mm可調(diào)

4. 等離子體發(fā)生器：RF射頻發(fā)生器，頻率：13.56MHz

5. 功率：0-200W連續(xù)可調(diào)，精度1W

6. 氣體控制：針式氣體流量閥，標配1路氣體

7. 控制方式：4.3寸工業(yè)控制觸摸屏

控制軟件功能：界面顯示實時工作狀態(tài)

可顯示設(shè)置值與實際值，便于實時控制

可自由設(shè)置等離子功率，通入氣體時間

全手動控制和全自動控制可選

8. 保護裝置：一鍵急停保護按鈕