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產(chǎn)品簡介
詳細介紹
該系統(tǒng)可以測量半導體材料或其他發(fā)光特性材料(如GaN、ZnO、CdTe或某些復(fù)合薄膜等)在激光激發(fā)下的光致發(fā)光譜，進而分析材料能帶等特征，是材料研究和半導體研究*的測試設(shè)備。
技術(shù)指標
- 光譜范圍：200-2500nm (可根據(jù)實際需要選擇）
- 波長準確度：±0.2nm
- 光譜分辨率：±0.1nm
- 光譜帶寬：0.2-10nm 可調(diào)
- 光源波長：224nm、248nm、266nm、325nm、488nm、532nm等