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便攜式飛行時(shí)間質(zhì)譜儀TOF-MS
MS-200便攜式飛行時(shí)間質(zhì)譜儀TOF-MS是一款支持電池供電，用于氣體分析的電子電離質(zhì)譜儀—wan全裝在手提箱里。

型號(hào)： MS-200 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/10 14:39:13 對(duì)比

便攜式飛行時(shí)間質(zhì)譜儀飛行時(shí)間質(zhì)譜儀TOF-MS便攜式質(zhì)譜儀電子電離質(zhì)譜儀
LSC4000 半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備
LSC4000 半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備：Nano-Master兆聲大基片濕法刻蝕系統(tǒng)提供高可重復(fù)性、高均勻性及高潔凈度的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離。它是集成式的...

型號(hào)：所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/8/20 17:35:24 對(duì)比

晶圓清洗設(shè)備晶圓清洗機(jī)硅片清洗設(shè)備半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備硅片清洗機(jī)
SWC4000 掩模版兆聲清洗機(jī)
SWC4000 掩模版兆聲清洗機(jī)：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機(jī)提供高可重復(fù)性、高均勻性及高潔凈度的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離，以及濕法刻蝕...

型號(hào)：所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/8/20 17:06:29 對(duì)比

兆聲清洗機(jī)晶圓清洗機(jī)晶圓清洗設(shè)備硅片清洗設(shè)備半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備
NIE-4000 IBE離子束刻蝕機(jī)
NIE-4000 IBE離子束刻蝕機(jī)：如銅和金等金屬不含揮發(fā)性化合物，這些金屬的刻蝕無法在RIE系統(tǒng)中完成。然而通過加速的Ar離子進(jìn)行物理刻蝕則是可能的。樣品表...

型號(hào)：所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/8/20 16:30:12 對(duì)比

離子束刻蝕機(jī)ibe刻蝕離子束刻蝕ibe離子束刻蝕ibe離子束刻蝕機(jī)
SIMS二次離子質(zhì)譜儀
SurfaceSeer I是一款高靈敏度、高質(zhì)量范圍、高分辨率的SIMS二次離子質(zhì)譜儀（TOF-SIMS），可以用于絕緣、導(dǎo)電表面的成像分析與化學(xué)成分分析。Su...

型號(hào)： SurfaceSe... 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/8/15 15:56:20 對(duì)比

飛行時(shí)間二次離子質(zhì)譜儀tof-sims二次離子質(zhì)譜儀飛行時(shí)間質(zhì)譜儀sims
高分辨二次離子質(zhì)譜儀tof-sims
高分辨二次離子質(zhì)譜儀tof-sims是非常靈敏的表面分析手段，憑借質(zhì)譜分析、二維成像分析、深度元素分析等功能，廣泛應(yīng)用于醫(yī)學(xué)、細(xì)胞學(xué)、地質(zhì)礦物學(xué)、半導(dǎo)體、微電子...

型號(hào)： SurfaceSe... 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/8/15 15:55:33 對(duì)比

飛行時(shí)間二次離子質(zhì)譜儀tof-sims二次離子質(zhì)譜儀飛行時(shí)間質(zhì)譜儀sims
TOF-SIMS飛行時(shí)間二次離子質(zhì)譜儀
Kore SurfaceSeer I是一款高靈敏度的TOF-SIMS飛行時(shí)間二次離子質(zhì)譜儀，用于絕緣、導(dǎo)電表面的成像分析與化學(xué)成分分析。SurfaceSeer ...

型號(hào)： SurfaceSe... 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/8/15 11:39:33 對(duì)比

飛行時(shí)間二次離子質(zhì)譜儀TOF-SIMS二次離子質(zhì)譜儀飛行時(shí)間質(zhì)譜儀質(zhì)譜儀
飛行時(shí)間二次離子質(zhì)譜儀（TOF-SIMS）
Kore SurfaceSeer S在飛行時(shí)間二次離子質(zhì)譜儀（TOF-SIMS）系列中，是一款高性價(jià)比且經(jīng)久耐用的產(chǎn)品。它是研究樣品表面化學(xué)成分的理想選擇，適用...

型號(hào)： SurfaceSe... 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/8/15 11:38:21 對(duì)比

飛行時(shí)間二次離子質(zhì)譜儀TOF-SIMS二次離子質(zhì)譜儀飛行時(shí)間質(zhì)譜儀質(zhì)譜儀
質(zhì)子轉(zhuǎn)移反應(yīng)飛行時(shí)間質(zhì)譜儀（PTR-TOF-MS）
KORE PTR 3C是KORE最新研發(fā)的一款質(zhì)子轉(zhuǎn)移反應(yīng)飛行時(shí)間質(zhì)譜儀（PTR-TOF-MS），緊湊型Kore PTR 3c是一種“軟"化學(xué)電離工具，用于對(duì)環(huán)...

型號(hào)： PTR 3c 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/8/15 11:37:36 對(duì)比

飛行時(shí)間質(zhì)譜儀質(zhì)子轉(zhuǎn)移反應(yīng)飛行時(shí)間質(zhì)子轉(zhuǎn)移反應(yīng)質(zhì)譜儀tof-ms氣體分析質(zhì)譜儀
高質(zhì)量分辨率飛行時(shí)間質(zhì)譜儀EI-TOF-MS
Kore高質(zhì)量分辨率飛行時(shí)間質(zhì)譜儀EI-TOF-MS提供實(shí)時(shí)、高時(shí)間分辨率、高靈敏度的所有氣體種類并行檢測(cè)。所有的質(zhì)量都被收集起來，并限度地保留所有的信息。雙進(jìn)...

型號(hào)： HR EI-TOF... 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/8/15 11:33:33 對(duì)比

高質(zhì)量分辨率飛行時(shí)間質(zhì)譜儀飛行時(shí)間質(zhì)譜儀高質(zhì)量分辨率質(zhì)譜儀電子電離質(zhì)譜儀氣體分析質(zhì)譜儀
光學(xué)鍍膜設(shè)備
光學(xué)鍍膜設(shè)備：NANO-MASTER NOC-4000光學(xué)涂覆系統(tǒng)提供*進(jìn)的技術(shù)，在一個(gè)腔體中實(shí)現(xiàn)原子級(jí)清洗和光學(xué)樣片拋光，然后把樣片傳送到第二級(jí)腔體中對(duì)同一樣...

型號(hào)：所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/8/12 15:28:46 對(duì)比

光學(xué)鍍膜設(shè)備光學(xué)元件原子級(jí)鍍膜光學(xué)元件鍍膜機(jī)光學(xué)元件清洗鍍膜
微波等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)
微波等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng): NM的微波PECVD能夠沉積高質(zhì)量SiO2, Si3N4, 或DLC膜到Z大可達(dá)12" 的基片.淋浴頭電極或中空陰極射頻等離子源，...

型號(hào)：所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/8/12 15:27:18 對(duì)比

等離子化學(xué)氣相沉積微波PECVD進(jìn)口微波PECVD
緊湊型電子電離飛行時(shí)間質(zhì)譜儀
緊湊型電子電離飛行時(shí)間質(zhì)譜儀是一款模塊化、計(jì)算機(jī)控制的飛行時(shí)間質(zhì)量分析儀，可作為臺(tái)式版本提供。該儀器可以很容易地從一個(gè)位置運(yùn)輸?shù)搅硪粋€(gè)位置，例如在汽車或貨車中。...

型號(hào)： Compact E... 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/8/12 15:25:45 對(duì)比

飛行時(shí)間質(zhì)譜儀電子電離質(zhì)譜儀質(zhì)譜儀tof-ms離子質(zhì)譜儀
NLD-3500（M）原子層沉積系統(tǒng)
NLD-3500（M）原子層沉積系統(tǒng)：ALD原子層沉積可以滿足精確膜厚控制以及高深寬比結(jié)構(gòu)的保形沉積，這方面ALD原子層沉積遠(yuǎn)超過其它沉積技術(shù)。由于前驅(qū)體流量的...

型號(hào)：所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/8/12 15:23:41 對(duì)比

ALD進(jìn)口ALDALD報(bào)價(jià)原子層沉積系統(tǒng)報(bào)價(jià)進(jìn)口ALD系統(tǒng)
兆聲清洗機(jī)
兆聲清洗機(jī)：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機(jī)提供高可重復(fù)性、高均勻性及的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離，以及濕法刻蝕。該系統(tǒng)配套機(jī)械手，也可以升級(jí)...

型號(hào)： SWC系列/LSC... 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/8/12 15:21:59 對(duì)比

兆聲清洗機(jī)晶圓清洗機(jī)兆聲無損清洗設(shè)備兆聲無損清洗機(jī)
NLD-4000（M）原子層沉積系統(tǒng)
NLD-4000（M）原子層沉積系統(tǒng)：ALD原子層沉積可以滿足精確膜厚控制以及高深寬比結(jié)構(gòu)的保形沉積，這方面ALD原子層沉積遠(yuǎn)超過其它沉積技術(shù)。由于前驅(qū)體流量的...

型號(hào)：所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/8/12 15:20:39 對(duì)比

進(jìn)口ALD系統(tǒng)進(jìn)口原子層沉積系統(tǒng)進(jìn)口ALD報(bào)價(jià)ALDALD報(bào)價(jià)
NIE-4000IBE離子束刻蝕系統(tǒng)
NIE-4000IBE離子束刻蝕系統(tǒng)：如銅和金等金屬不含揮發(fā)性化合物，這些金屬的刻蝕無法在RIE系統(tǒng)中完成。然而通過加速的Ar離子進(jìn)行物理刻蝕則是可能的。通常情...

型號(hào)：所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/8/12 15:19:26 對(duì)比

標(biāo)準(zhǔn)離子束刻蝕設(shè)備進(jìn)口離子束刻蝕系統(tǒng)
NSC-3500（A）全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)
NSC-3500（A）全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)：立式自動(dòng)系統(tǒng)，帶有水冷或者加熱（可加熱到700度）功能，可達(dá)6“旋轉(zhuǎn)平臺(tái)，支持到4個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵...

型號(hào)：所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/8/12 15:17:11 對(duì)比

NSC-3500磁控濺射系統(tǒng)全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)進(jìn)口全自動(dòng)濺射臺(tái)全自動(dòng)濺射鍍膜機(jī)
磁控濺射系統(tǒng)
NSC-4000（M）磁控濺射系統(tǒng)：帶有水冷或者加熱（可加熱到700度）功能，可達(dá)到到8“旋轉(zhuǎn)平臺(tái)，支持到4個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵，極限真空可達(dá)1...

型號(hào)： NSC-4000（... 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/8/12 15:15:51 對(duì)比

Sputter System進(jìn)口磁控濺射系統(tǒng)磁控濺射臺(tái)進(jìn)口真空鍍膜儀
NLD-4000（ICPA）全自動(dòng)PEALD系統(tǒng)
NLD-4000（ICPA）全自動(dòng)PEALD系統(tǒng)：ALD原子層沉積可以滿足精確膜厚控制以及高深寬比結(jié)構(gòu)的保形沉積，這方面ALD原子層沉積遠(yuǎn)超過其它沉積技術(shù)。由于...

型號(hào)：所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/8/12 14:52:04 對(duì)比

ALDPEALD進(jìn)口全自動(dòng)PEALD等離子增強(qiáng)原子層沉積原子層沉積

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