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CCS系統(tǒng) 化合物半導(dǎo)體沉積系統(tǒng)
- 公司名稱 深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司
- 品牌 愛(ài)思強(qiáng)
- 型號(hào) CCS系統(tǒng)
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷(xiāo)商
- 更新時(shí)間 2024/9/5 14:46:40
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1 產(chǎn)品概述：
化合物半導(dǎo)體沉積系統(tǒng)是一類專門(mén)用于制備化合物半導(dǎo)體材料的設(shè)備，這些材料通常由兩種或多種元素組成，如GaAs、GaN和SiC等。這些材料因其高功率、高頻率等特性，在信息通信、光電應(yīng)用以及新能源汽車(chē)等產(chǎn)業(yè)中占據(jù)重要地位。
2 設(shè)備用途：
化合物半導(dǎo)體沉積系統(tǒng)的主要用途包括：
晶圓制備：通過(guò)外延生長(zhǎng)技術(shù)，在襯底上沉積高質(zhì)量的化合物半導(dǎo)體薄膜，用于制造高性能的半導(dǎo)體器件。
芯片設(shè)計(jì)與制造：支持化合物半導(dǎo)體器件的設(shè)計(jì)與制造過(guò)程，包括射頻功率放大器、高壓開(kāi)關(guān)器件等。
光電器件：用于制造太陽(yáng)電池、半導(dǎo)體照明、激光器和探測(cè)器等光電器件。
微波射頻：在移動(dòng)通信、導(dǎo)航設(shè)備、雷達(dá)電子對(duì)抗以及空間通信等系統(tǒng)中，化合物半導(dǎo)體沉積系統(tǒng)用于制造射頻功率放大器等核心組件。
3. 設(shè)備特點(diǎn)
化合物半導(dǎo)體沉積系統(tǒng)通常具備以下特點(diǎn)：
高精度與均勻性：
沉積均勻性：能夠?qū)崿F(xiàn)晶圓級(jí)的高沉積均勻性，確保薄膜厚度和質(zhì)量的一致性。
精確控制：通過(guò)調(diào)節(jié)沉積參數(shù)，如溫度、壓力、氣體流量等，可以精確控制薄膜的化學(xué)成分、形貌、晶體結(jié)構(gòu)和晶粒度。
多功能性：
多種沉積方法：支持化學(xué)氣相沉積（CVD）、物理氣相沉積（PVD）等多種沉積方法，滿足不同材料和器件的制備需求。
多種薄膜材料：能夠沉積金屬薄膜、非金屬薄膜、多組分合金薄膜以及陶瓷或化合物層等多種薄膜材料。
高溫與低溫兼容性：
高溫沉積：部分設(shè)備能夠在高溫下工作，確保薄膜的結(jié)晶質(zhì)量和純度。
低溫輔助：采用等離子或激光輔助技術(shù)，可以降低沉積溫度，保護(hù)基體材料不受高溫?fù)p傷。
高效與自動(dòng)化：
高吞吐量：通過(guò)優(yōu)化設(shè)計(jì)和自動(dòng)化控制，提高生產(chǎn)效率，降低生產(chǎn)成本
4 設(shè)備參數(shù)：
· 晶圓尺寸配置包括 3x2 英寸、6x2 英寸、19x2 英寸等多種規(guī)格。
· 具有動(dòng)態(tài)工藝間隙調(diào)整功能，高工作溫度可達(dá) 1400°C（部分型號(hào)）
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