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          蒸發(fā)鍍膜設(shè)備

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                江蘇雷博科學(xué)儀器有限公司2013年9月成立于江蘇江陰,是一家初期以 高檔專業(yè)的實驗室儀器開發(fā)為目標(biāo)的海歸創(chuàng)業(yè)企業(yè)。公司主營高檔實驗室儀器及半導(dǎo)體設(shè)備開發(fā)業(yè)務(wù)。公司技術(shù) 力量雄厚,人才濟(jì)濟(jì),憑借雄厚的技術(shù)實力不斷進(jìn)行新產(chǎn)品開發(fā)和創(chuàng)新實現(xiàn), 在納米薄膜制備類儀器領(lǐng)域取得了顯著的市場地位。公司生產(chǎn)的高精度高可 靠性勻膠機(jī)榮獲江蘇省高新技術(shù)產(chǎn)品,是國內(nèi)勻膠機(jī)全系列、多功能、定制 化服務(wù)的供應(yīng)商

                公司生產(chǎn)和銷售不同領(lǐng)域的高檔科研儀器和工業(yè)半導(dǎo)體設(shè)備:Schwan technology®是我們的納米薄膜制備類設(shè)備品牌,主要有勻膠機(jī)、顯影機(jī)、 烤膠機(jī)、提拉機(jī)、噴膠機(jī)、涂膜機(jī)、狹縫涂布機(jī)等相關(guān)產(chǎn)品;L EB O science®是我們的工業(yè)半導(dǎo)體設(shè)備品牌,主要有勻膠機(jī)、顯影機(jī)、蝕刻機(jī)、 去膠機(jī)、清洗機(jī)等獨立柜式機(jī)臺及工業(yè)全自動機(jī)臺。 公司產(chǎn)品被廣泛應(yīng)用于納米薄膜制備需求的鈣鈦礦薄膜太陽能、有機(jī)光 電、MEMS、聲表、光通訊、化合物半導(dǎo)體及先進(jìn)封裝等領(lǐng)域,具有核心技 術(shù)可靠、高性價比、定制化服務(wù)的競爭優(yōu)勢。

           

          勻膠機(jī)、顯影機(jī)、烤膠機(jī)、刻蝕機(jī)、清洗機(jī)

          產(chǎn)地類別 國產(chǎn) 價格區(qū)間 5萬-10萬
          應(yīng)用領(lǐng)域 化工,生物產(chǎn)業(yè),能源,電氣,綜合
            蒸發(fā)鍍膜設(shè)備是專業(yè)在塑料表面進(jìn)行蒸發(fā)鍍鋁絲、鉻絲、銅絲的專用設(shè)備,利用電阻加熱,將金屬絲熔融、汽化,讓金屬分子沉積在基片上,獲得光滑的高反射率的金屬膜層,達(dá)到裝飾美化物品表面的目的。
           
            該設(shè)備主要廣泛應(yīng)用于:化妝品、玩具、手機(jī)、家居裝飾品、汽車、各類小家電、衛(wèi)浴噴灑、音響、鐘表等行業(yè)。
           
            可加工的材料包括:ABS、PS、PP、PC、PVC、TPU、尼龍、玻璃、陶瓷、金屬等。
           
            可鍍基材表面狀態(tài):普通電鍍亮面、啞面(半啞、全啞)、工藝電鍍皺紋、拉絲、雨滴等。
           
            鍍制顏色有:半透明、金、銀、玫瑰金、黑、紅、綠、藍(lán)、粉、紫、漸變、七彩等。

           


           
            蒸發(fā)鍍膜設(shè)備主要用于產(chǎn)業(yè)化研究。它能夠蒸鍍有機(jī)、無機(jī)或金屬材料,為各種薄膜材料的研究和應(yīng)用提供了強(qiáng)有力的支持。對于有機(jī)材料,蒸發(fā)鍍膜設(shè)備能夠提供高質(zhì)量的薄膜,具有較高的結(jié)晶度和良好的電性能。對于無機(jī)材料,該設(shè)備能夠?qū)崿F(xiàn)高純度、高密度的薄膜沉積。對于金屬材料,能夠提供具有優(yōu)良導(dǎo)電性能和機(jī)械性能的薄膜。
           
            設(shè)備特點:
           
            ★鍍率PID自動調(diào)節(jié),實現(xiàn)穩(wěn)定蒸鍍速率
           
            ★長時間運行生產(chǎn),確保產(chǎn)線稼動率
           
            ★線型蒸發(fā)源最高溫度650℃;點型蒸發(fā)源最高溫度1500℃
           
            設(shè)備參數(shù):
           
            ★基板尺寸:基板最大寬幅≤650mmx450mm;roller to roller傳動
           
            ★蒸鍍方式:點型蒸發(fā)源、電子束、線型蒸發(fā)源
           
            ★膜厚均勻性優(yōu)異(±3%~±5%)重復(fù)性優(yōu)異(±2%~±3%)


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