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          鈣鈦礦鍍膜設(shè)備

          具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

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                江蘇雷博科學(xué)儀器有限公司2013年9月成立于江蘇江陰,是一家初期以 高檔專業(yè)的實(shí)驗(yàn)室儀器開發(fā)為目標(biāo)的海歸創(chuàng)業(yè)企業(yè)。公司主營高檔實(shí)驗(yàn)室儀器及半導(dǎo)體設(shè)備開發(fā)業(yè)務(wù)。公司技術(shù) 力量雄厚,人才濟(jì)濟(jì),憑借雄厚的技術(shù)實(shí)力不斷進(jìn)行新產(chǎn)品開發(fā)和創(chuàng)新實(shí)現(xiàn), 在納米薄膜制備類儀器領(lǐng)域取得了顯著的市場地位。公司生產(chǎn)的高精度高可 靠性勻膠機(jī)榮獲江蘇省高新技術(shù)產(chǎn)品,是國內(nèi)勻膠機(jī)全系列、多功能、定制 化服務(wù)的供應(yīng)商

                公司生產(chǎn)和銷售不同領(lǐng)域的高檔科研儀器和工業(yè)半導(dǎo)體設(shè)備:Schwan technology®是我們的納米薄膜制備類設(shè)備品牌,主要有勻膠機(jī)、顯影機(jī)、 烤膠機(jī)、提拉機(jī)、噴膠機(jī)、涂膜機(jī)、狹縫涂布機(jī)等相關(guān)產(chǎn)品;L EB O science®是我們的工業(yè)半導(dǎo)體設(shè)備品牌,主要有勻膠機(jī)、顯影機(jī)、蝕刻機(jī)、 去膠機(jī)、清洗機(jī)等獨(dú)立柜式機(jī)臺(tái)及工業(yè)全自動(dòng)機(jī)臺(tái)。 公司產(chǎn)品被廣泛應(yīng)用于納米薄膜制備需求的鈣鈦礦薄膜太陽能、有機(jī)光 電、MEMS、聲表、光通訊、化合物半導(dǎo)體及先進(jìn)封裝等領(lǐng)域,具有核心技 術(shù)可靠、高性價(jià)比、定制化服務(wù)的競爭優(yōu)勢。

           

          勻膠機(jī)、顯影機(jī)、烤膠機(jī)、刻蝕機(jī)、清洗機(jī)

          產(chǎn)地類別 國產(chǎn) 價(jià)格區(qū)間 5萬-10萬
          應(yīng)用領(lǐng)域 化工,生物產(chǎn)業(yè),能源,電氣,綜合
          鈣鈦礦鍍膜設(shè)備主要由有機(jī)/金屬源蒸發(fā)沉積室、真空排氣系統(tǒng)、真空測量系統(tǒng)、蒸發(fā)源、樣品加熱控溫、電控系統(tǒng)、配氣系統(tǒng)等部分組成。適用于制備金屬單質(zhì)薄膜、半導(dǎo)體薄膜、氧化物薄膜、有機(jī)薄膜等,可用于科研單位進(jìn)行新材料、新工藝薄膜研究工作,也可用于大批量生產(chǎn)前的試驗(yàn)工作,廣泛應(yīng)用于有機(jī)、無機(jī)、鈣鈦礦薄膜太陽能電池、OLED等研究領(lǐng)域。
           

           

            功能特點(diǎn)
          • 樣品位于真空室上方,蒸發(fā)源位于真空室下方,向上蒸發(fā)鍍膜,且蒸發(fā)源帶有擋板裝置。
          • 設(shè)有烘烤加熱功能,可在鍍膜過程中加熱樣品,最高烘烤加熱溫度為180℃。
          • 設(shè)有斷水、斷電連鎖保護(hù)報(bào)警裝置及防誤操作保護(hù)報(bào)警裝置。
            技術(shù)參數(shù)
          鍍膜室 不銹鋼材料,采用方形前后開門結(jié)構(gòu),內(nèi)帶有防污板,腔室尺寸約為600mm×450mm×450mm
          真空排氣系統(tǒng) 采用分子泵+機(jī)械泵系統(tǒng)
          真空度 鍍膜室極限真空≤6×10-4Pa
          系統(tǒng)漏率 ≤1×10-7Pa
          蒸發(fā)源 安裝在真空室的下底上;有機(jī)蒸發(fā)源4個(gè)、容積5ml,2臺(tái)蒸發(fā)電源,可測溫、控溫,加熱溫度400℃,功率0.5KW;無機(jī)蒸發(fā)源4套、容積5ml,2臺(tái)蒸發(fā)電源,加熱電流300A,功率3.2KW;蒸發(fā)源擋板采用自動(dòng)磁力控制方式控制其開啟
          樣品架 安裝在真空室的上蓋上,可放置Ø120mm的樣品、載玻片,旋轉(zhuǎn)速度0-30rpm
          加熱溫度 RT-180℃,測溫、控溫
          膜厚控制儀 石英晶振膜厚控制儀,膜厚測量范圍0-999999Å


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