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離子濺射儀（噴金儀）產(chǎn)品簡介：1、人性化設(shè)計，儀器操作簡單，一鍵鍍膜。2、儀器小巧，不占空間，適用于實驗室、科研院所等。3、鍍膜均勻細(xì)密，適用于多種靶材。4、樣...

離子濺射儀的離子流的大小通過控制真空壓力實現(xiàn)，真空度越低，I越大，濺射速度越快，原子結(jié)晶晶粒越粗，電子轟擊樣品（陽極）產(chǎn)生的熱量越高；真空度越高,I越小，濺射速...

全封閉顯影機主要用于半導(dǎo)體制造中晶片的顯影工藝，性價比高，穩(wěn)定性好，重復(fù)性好，對顯影作業(yè)有非常理想的效果。設(shè)備配有一路顯影和一路水、一路氣吹功能，并且噴嘴位置可...

小型真空等離子清洗機是一款專門針對科研院所研制的小批量樣品表面處理設(shè)備，利用真空環(huán)境產(chǎn)生等離子體去處理樣品的表面，達(dá)到常規(guī)清洗方法無法達(dá)到的效果。具有設(shè)備小巧，...

半導(dǎo)體顯影機是用于制造半導(dǎo)體器件的關(guān)鍵設(shè)備。它的工作原理是在半導(dǎo)體制造過程中，使用化學(xué)顯影液對芯片表面進(jìn)行處理，將不需要的材料或圖形去除，從而形成所需的電路結(jié)構(gòu)...

多功能鍍膜設(shè)備是一款集直流磁控濺射鍍膜技術(shù)、電阻蒸發(fā)鍍膜技術(shù)、CVD鍍膜技術(shù)及中頻離子清洗系統(tǒng)相結(jié)合的復(fù)合型設(shè)備，適應(yīng)客戶復(fù)雜的產(chǎn)品工藝切換；真空室內(nèi)可一次性完...

鈣鈦礦鍍膜設(shè)備主要由有機/金屬源蒸發(fā)沉積室、真空排氣系統(tǒng)、真空測量系統(tǒng)、蒸發(fā)源、樣品加熱控溫、電控系統(tǒng)、配氣系統(tǒng)等部分組成。

科研鍍膜機主要用于科研、教學(xué)、及化工涂料生產(chǎn)等行業(yè)的表面表面鍍膜。設(shè)備特點：小型試驗真空鍍膜機具有外形美觀、結(jié)構(gòu)緊湊、性能多樣、操作簡單可靠、耗電量低的特點。

實驗室鍍膜機具有外形美觀、結(jié)構(gòu)緊湊、占地面積小、自動化程度高、操作簡單靈活、性能穩(wěn)定、易維護(hù)的特點，尤其適用于實驗室高校使用，客戶可根據(jù)自身不同需求選配。

小型鍍膜設(shè)備具有外形美觀、結(jié)構(gòu)緊湊、性能多樣、操作簡單可靠、耗電量低的特點?？蓪崿F(xiàn)蒸發(fā)鍍膜、磁控濺射鍍膜、電弧鍍膜等工藝?？蛇M(jìn)行手動、半自動、全自動控制.有多種...

磁控濺射鍍膜設(shè)備集磁控濺射與離子鍍膜技術(shù)為一體，對提高顏色一致性、沉積速率及化合物成份的穩(wěn)定性提供了解決方案。根據(jù)不同的產(chǎn)品需求，可選配加熱系統(tǒng)、偏壓系統(tǒng)、離化...

蒸發(fā)鍍膜設(shè)備主要用于產(chǎn)業(yè)化研究。它能夠蒸鍍有機、無機或金屬材料，為各種薄膜材料的研究和應(yīng)用提供了強有力的支持。對于有機材料，蒸發(fā)鍍膜設(shè)備能夠提供高質(zhì)量的薄膜，具...

蒸發(fā)鍍膜機可用于加工ABS、PS、PP、PC、PVC、TPU、尼龍、金屬、玻璃、陶瓷等材質(zhì)產(chǎn)品；適用于蒸發(fā)鍍鋁、鉻、銦、錫、銦錫合金、氧化硅、硫化鋅等材料

熱蒸發(fā)鍍膜設(shè)備是專業(yè)在塑料表面進(jìn)行蒸發(fā)鍍鋁絲、鉻絲、銅絲的專用設(shè)備，利用電阻加熱，將金屬絲熔融、汽化，讓金屬分子沉積在基片上，獲得光滑的高反射率的金屬膜層，達(dá)到...

真空鍍膜設(shè)備通常由多個關(guān)鍵部分組成，每個部分都有其特定的功能，協(xié)同工作以實現(xiàn)高效、均勻的薄膜沉積。

小型真空鍍膜機采用大抽速分子泵準(zhǔn)無油高真空系統(tǒng)，機架電控一體化設(shè)計，整體布局緊湊合理，充分考慮人機工程學(xué)的傾斜操控面板和可直觀觀察蒸發(fā)狀態(tài)的玻璃真空室結(jié)構(gòu)相得益...

實驗室真空鍍膜設(shè)備采用封閉的系統(tǒng)框架，外觀漂亮，使用安全。4～12組蒸發(fā)源可兼容金屬、有機物蒸發(fā)。

HP100-PA 烤膠機是一款高性能烤膠設(shè)備，帶有真空吸附、頂針定位烤膠、線性升溫等功能，可以存貯 100 組程序，每組程序可設(shè)多步。所有運行參數(shù)如加熱時間、頂...

小型離子濺射儀(Small size ion sputtering instrument)是一種物理氣相沉積技術(shù)，可用于制備薄膜和表面處理。它采用高能離子轟擊靶...

全自動離子濺射儀是一種功能強大的電子設(shè)備，經(jīng)常用于表面分析和薄膜制備。它可以利用離子束轟擊樣品表面，然后通過檢測生成的離子進(jìn)行分析。