日本krosaki真空吸盤、靜電吸盤的推薦
靜電吸盤
靜電吸盤用于在半導(dǎo)體制造的真空工藝中固定、運(yùn)輸和校直晶圓。
我們的Johnsen-Rahbek型靜電吸盤因其的材料技術(shù)和加工技術(shù)而受到好評。
特征
出色的附著/分離響應(yīng)能力
通過優(yōu)化材料結(jié)構(gòu),表現(xiàn)出極其優(yōu)異的附著/分離響應(yīng)。
這有助于顯著提高吞吐量。
優(yōu)異的平整度
我們的拋光技術(shù)可在整個(gè)表面上提供高精度的平整度。
此外,還可實(shí)現(xiàn)優(yōu)異的表面粗糙度,從而實(shí)現(xiàn)高吸附能力并減少顆粒量。
高耐用性
由于電介質(zhì)、內(nèi)部電極和絕緣體作為一個(gè)整體進(jìn)行燒制,因此與使用粘合劑集成的靜電吸盤相比,它具有長期穩(wěn)定性。
物性表
材料 |
| Al 2 O 3 (添加TiO 2 ) |
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比重 | - | 3.98 |
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楊氏模量 | GPa | 400 |
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泊松比 | - | 0.24 |
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斷裂韌性值 | 兆帕·米1/2 | 4.6 |
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維氏硬度 | 98N,GPa | 14 |
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相對介電常數(shù) | - | 10.7 |
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*所列數(shù)據(jù)為典型值,并非保證值。
產(chǎn)品數(shù)據(jù)(參考值)
*所列數(shù)據(jù)為典型值,并非保證值。
真空吸盤
利用多孔陶瓷特性的真空吸盤。
多孔陶瓷是具有從內(nèi)部到表面連續(xù)連通的孔(連通孔)的陶瓷,就像海綿一樣。
還有各種其他名稱,如真空吸盤、真空吸盤、吸盤等,但通過在吸附表面上產(chǎn)生真空,將被吸附的物體保持在大氣壓力下并固定(吸盤))相同。該原理適用于吸盤之類的東西。
以前,通過加工凹槽和孔來形成空氣通道來吸附空氣,但薄膜等薄的吸附材料存在被吸入凹槽和孔中并變形等問題。另一方面,多孔陶瓷具有遍布整個(gè)表面的微米級孔,可以均勻地吸附被吸附材料而不使其變形。
我們的真空吸盤可以從材料到加工以一體化方式制造,并且我們有多種選擇。
多孔吸盤
利用多孔陶瓷的特性,可以無偏壓地均勻吸附并固定整個(gè)物體(薄膜、基板、晶圓等)。
只要處于大氣壓下,無論磁性還是非磁性,都有可能吸引磁鐵。
適用于固定薄膜產(chǎn)品,例如薄半導(dǎo)體器件、固定 3D 內(nèi)存基板、固定薄膜/膠片以及倒裝芯片接合機(jī)的吸附臺(tái)。
局部吸臺(tái)AH吸盤
該吸盤采用特殊材料多孔陶瓷(AH材料),可實(shí)現(xiàn)局部吸力。
單臺(tái)可拾取8英寸、12英寸等不同尺寸的工件。
普通的多孔吸盤必須覆蓋整個(gè)表面才能固定,因?yàn)槲P表面將因泄漏而不再是真空,但AH吸盤采用孔徑和孔隙率受控的材料,可以防止從開放部分泄漏。可以進(jìn)行固定以抑制壓力并保持真空狀態(tài)。
它可用于多種用途,例如用于干處理的抽吸臺(tái)和用于檢查不規(guī)則形狀物體的固定臺(tái)。
產(chǎn)品陣容/技術(shù)介紹
陣容
產(chǎn)品名稱 | 平均孔徑 [μm] | 孔隙率[%] |
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MP580 | 第580章 | 45~50 |
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MP230 | 230 | 45~50 |
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MP130 | 130 | 45~50 |
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MP100 | 100 | 45~50 |
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MP060 | 60 | 45~50 |
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MP040 | 40 | 45~50 |
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電導(dǎo)率 | 二十五 | 15-18日 |
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啊 | 2 | 30~35 |
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*所列數(shù)據(jù)為典型值,并非保證值。
高精度多孔吸盤
《粘合面SEM照片》
?與將金屬(SUS或鋁)底座粘合到多孔陶瓷上的標(biāo)準(zhǔn)產(chǎn)品不同,我們使用輕質(zhì)(密度3.9g/cm 3)和高剛性的氧化鋁陶瓷作為底座,使吸盤更易于使用。提高各種尺寸精度。
- φ300尺寸可適應(yīng)3μm以下的平面平行度。
?與金屬真空吸盤相比,隨著時(shí)間和溫度的變化,接合精度的穩(wěn)定性大大提高。
- 特殊粘合解決了粘合界面出現(xiàn)間隙的問題,不會(huì)因吸力或壓力而產(chǎn)生凹痕。