摩擦機是為液晶研發(fā)實驗室開發(fā)的。該系統(tǒng)用于在聚酰亞胺上刻畫溝槽,以確定液晶分子的方向。凹槽是用一種深度為幾埃特的特殊摩擦布制成的?;烧婵瘴P固定,真空吸盤包括真空泵,并與系統(tǒng)集成??裳b載的最大玻璃基片尺寸為 100 毫米 x 100 毫米?;驼婵瘴P被固定在一個旋轉(zhuǎn)臺上,因此可以在 0 到 180 度之間的任意角度進行旋轉(zhuǎn)和定位,以獲得不同的摩擦方向。
該系統(tǒng)是作為一個獨立單元開發(fā)的,可改變輥筒的速度和基片的速度。
可編程功能
基底的運動范圍
移動速度(基底平臺)
重復(fù)次數(shù)/操作持續(xù)時間
規(guī)格
基片支架
a) 用于基底移動的電動線性平臺
b) 由步進電機驅(qū)動
c) 行程:80 毫米
d) 低速度:0.05 毫米/秒
最高速度:9 毫米/秒
e) 可移動基板的最大尺寸:100 毫米 x 100 毫米
f) 基板固定在旋轉(zhuǎn)臺上,可旋轉(zhuǎn) +/- 45 度
摩擦輪傳動裝置:帶速度控制的無刷直流電機
高轉(zhuǎn)速:3000 rpm
低轉(zhuǎn)速:0 rpm
LCD 屏幕顯示速度
通過旋鈕控制主軸轉(zhuǎn)速
輸入:230 VAC
系統(tǒng)可獨立使用
基底保持:真空(含真空泵)
真空泵類型 : 無油
摩擦布:絨布(不包括在內(nèi))
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