硅烷的分析,硅烷氣相色譜分析法
在大規(guī)模集成電路和非晶硅研制中,常常要對硅烷的純度及其組分進行分析。有關(guān)硅烷分析的文章國內(nèi)、外公開報道的不多[1-6,9]。現(xiàn)有文獻以蘇聯(lián)的居多,其次是日本和美國。1975年B.T.Резчикоъ等[5]報道了用光譜法測定硅烷中的總碳。1978年H.T.Nванова[6]和1980年A.E.Eжелевла[7]用氣相色譜法測定硅烷中的O2、N2和CH4,用光譜法測定B2H6、AsH3、PH3、H2S、NH3,HCI等雜質(zhì),靈敏度由0.0025~200ppm。日本森迫他[9]用色譜—質(zhì)譜法測定硅烷中的H2,CH4,N2,CO,Ar,CO2和O2。靈敏度CH4=3ppm,CO2=10ppm,N2、CO、Ar、O2=30ppm.H2=100ppm。SEMI[10]采用色譜法測定硅烷中各種雜質(zhì)。由于采用了氦離子檢定器,靈敏度可達0.1ppm。A.Yusa[1]利用物理方法測定硅烷中的PH3濃度,其摩爾濃度從4.2×10-5到5.4×10-12。根據(jù)我所大規(guī)模集成電路的需要,從1977年至今我們對硅烷為主的烷類氣體進行了分析研究。
一、直接氣相色譜法測定硅烷中的O2+Ar、N2和H2
直接氣相色譜法,即利用硅烷能被分子篩吸附,而混合氣中雜質(zhì)氬、氧、氮、氫不被吸附,然后隨高純載氣(一般為氫或氮)帶到色譜柱(分子篩)進行分離,分離后的氬、氧、氮、氫通過熱導(dǎo)檢定器進行測定。我們用北京普瑞分析儀器有限公司生產(chǎn)的GC-9280型氣相色譜儀,其S≥1000毫伏*毫升/毫克。當(dāng)進樣量顯3毫升時,靈敏度為33ppm。1978年H.T.Nванова[6]用直接氣相色譜法測定高純烷類氣體(包括硅烷)中的氧、氮、甲烷等雜質(zhì),靈敏度為50ppm。
實驗設(shè)備:GC-9280型氣相色譜儀
實驗條件:
色譜柱:不銹鋼柱,長2米,內(nèi)徑4毫米。充填60/80目分子篩。
電流和衰減值根據(jù)硅烷中雜質(zhì)的含量多少而定。
分析數(shù)據(jù):我們采用電流200毫安,衰減“1”.
我們可知:
1、 在充氫的硅烷中,硅烷被分子篩吸附,而雜質(zhì)被載氣攜帶到熱導(dǎo)池進行測定。
2、 從圖1a、b看到O2+Ar、N2 添加回收,結(jié)果很好。
3、 提高儀器靈敏度,同時增加進樣量,甲烷也能出峰
二、濃縮氣體色譜法測定充氫硅烷中的雜質(zhì)
硅烷中的雜質(zhì)是由稀釋的背景氣和硅烷本身帶來的。為了檢測硅烷中的少量雜質(zhì),可采用濃縮氣體色譜法。本方法用分子篩作濃縮吸附劑(約5克)裝入玻璃取樣器內(nèi)。本法只適用于充氫5%的硅烷,靈敏度比直接進樣法幾乎提高兩個數(shù)量級。當(dāng)取樣3升時,可分析氧、氮、甲烷到0.1ppm,滿足了半導(dǎo)體工藝對硅烷的分析要求。
實驗設(shè)備:色譜儀與直接氣相色譜法的相同。部分數(shù)據(jù)用Sigma10處理和計算。玻璃四通活塞取樣器內(nèi)裝5克60/80目分子篩,然后在250℃通高純氮活化。
實驗條件:與直接氣相色譜法相同。
實驗方法:本法與文獻[8]方法大致相同,只是在取樣方式上稍有改變。我們對同一瓶硅烷用兩種分析方法比較如下:
對濃縮色譜法可歸納如下:
1、 濃縮色譜法只適用于充氫(氦)烷類中雜質(zhì)分析,對于充氮、充氬的烷類氣不適用。
2、 用濃縮色譜法測定充氫硅烷中雜質(zhì)時,分析靈敏度比直接進樣法提高2~3個數(shù)量級。
3、 本法除可用于硅烷中氧、氬、氮、甲烷雜質(zhì)分析外,也適用于其它充氫(氦)烷類中氧、氬、氮、甲烷等雜質(zhì)分析。
4、 在上述方法基礎(chǔ)上,只要濃縮裝置稍加改進,本法可用于100%純度硅烷中氬、氧、氮、甲烷等雜質(zhì)分析。
三、硅烷中甲烷雜質(zhì)的氣相色譜分析
用氫火焰檢定器分析甲烷等烴類有機化合物,具有很高的靈敏度,一般可測到0.1ppm。對硅烷中的有害雜質(zhì)甲烷的分析,用高靈敏度的氫火焰檢定器,靈敏度可達0.05ppm。
實驗儀器:使用P.E.公司的SigmaI型氣相色譜儀;氫火焰檢定器;十通閥附5毫升定體積定量管。
載氣為高純氮;采用高純度空氣和高純度氫氣。
色譜柱中采用兩種吸附劑。
(1) 用分子篩時,硅烷被吸附,而甲烷不被吸附,被載氣帶到氫火焰檢定器中進行分析。柱長2米,內(nèi)徑1.5毫米,裝80/100目分子篩。
(2) 用高分子微球時,除分析甲烷外,還可分析硅烷、磷烷、砷烷等成分。柱長2米,內(nèi)徑1.5毫米,裝60/80目高分子微球。
標(biāo)準氣:甲烷為1%,背景氣為高純氮。
實驗數(shù)據(jù):先用高分子微球Porapak N研究CH4,PH3,NH3,CO2,H2S,SiH4的分離條件,并采用熱導(dǎo)檢測器求出上述成份保留時間,見表2。
實驗條件:Porapak N 80/100目。柱長2米,內(nèi)徑1.5毫米。
熱導(dǎo)檢定器:用高純氫作載氣,流量30毫升/分。采用十通閥自動進樣,使用氫火焰檢定器,甲烷與硅烷的色譜圖見圖6。
圖6是我們選用合適的色譜條件,控制一定衰減和量程后求得的硅烷三成份圖。
圖7和圖8比較了充氫和充氮硅烷,用氮作載氣的氫火焰檢定器的色譜圖。從這兩個圖中可以看到。在充氮硅烷中,甲烷峰的前面沒有峰。而在充氫硅烷中,甲烷峰前面有一小峰。但分析超純氫也發(fā)現(xiàn)有這個小峰,故斷定與硅烷無關(guān)。
總的說來,采用高靈敏度的氫火焰檢定器測定硅烷等各種烷類中的甲烷雜質(zhì)是一種靈敏度高,速度快,取樣量少的分析方法。當(dāng)采用分子篩作分離柱時,只能分析甲烷,而用高分子微球作分離柱時,本方法能同時測定硅烷、磷烷等。
選擇*條件,配上Sigma 10微處理機,發(fā)現(xiàn)硅烷峰實際上由三個峰組成,這三個峰分別是什么成分有待繼續(xù)研究。
四、氮磷檢定器用于硅烷分析
氮磷檢定器是一種對磷、硫、氮的有機化合物具有高靈敏度、高選擇性、重復(fù)性好、線形范圍寬的新型檢定器。它對磷的zui高靈敏度可達10-15克/秒,比電子捕獲檢定器的氯靈敏度10-14克/秒還要高。普瑞公司生產(chǎn)的GC-9280型氣相色譜儀的氮磷檢定器,采用不易揮發(fā)的銣珠(硅烷銣)作堿源。這種銣珠壽命長,性能穩(wěn)定,非常適用于痕量分析。本文用氮磷檢定器在半導(dǎo)體工藝中分析硅烷中磷烷雜質(zhì),以及確定氮磷檢定器對硅烷的靈敏度。
儀器:用普瑞公司的GC-9280型氣相色譜儀;氮磷檢定器,色譜柱為GC-9280 N,柱長2米,內(nèi)徑為1.5毫米。
(1) zui小檢出量
實驗條件:注射室溫度,140℃;爐溫120℃;檢定器溫度140℃;載氣,高純氮,經(jīng)脫氧劑和分子篩提純,流量30毫升/分;合成高純空氣,流量100毫升/分;高純氫,流量2~5毫升/分;其衰減和量程根據(jù)注射進樣量多少來選擇。
用充氮2.5%SiH4直接注射樣品氣5微升,得面積分別為10.5996、12.5958、13.8218(計算機打出峰面積數(shù)。)
平均峰面積=12.3411,標(biāo)準偏差=±1.3302。
按信噪比二倍計算,硅烷在氮磷檢定器測定中,zui小檢測量為2.5×10-5微升,同樣,我們得PH3,zui小檢測量為4×10-7微升。
(2)硅烷的成份分析
由于氮磷檢定器對硅烷、磷烷具有特別高的靈敏度,因此,用色譜法可以很快求出烷類混合氣中硅烷、磷烷組分含量。這一點對大規(guī)模集成電路生產(chǎn)線,以及其它使用硅烷的科研領(lǐng)域,如非晶硅研究方面顯得特別重要。
五、三種靈敏檢定器對硅烷的分析比較
硅烷是大規(guī)模集成電路制造中應(yīng)用很廣的原材料之一。大規(guī)模集成電路對硅烷的要求很高。首先,要求純度高;其次,產(chǎn)品質(zhì)量要穩(wěn)定。
本節(jié)主要以色譜分析用三種不同靈敏度的檢測器(電子捕獲檢定器、氮磷檢定器、氫火焰離子化檢測器)分析充氫、充氮硅烷,色譜柱用分子篩和GC-9280N。對國產(chǎn)硅烷分別色譜“照相”(畫“指紋”),從這些“指紋”圖來探索硅烷的內(nèi)在質(zhì)量情況。
實驗儀器和實驗條件。
使用普瑞公司的GC-9280型氣相色譜儀,附有氮磷檢定器(NPD),電子捕獲器(ECD),氫火焰離子化檢定器(FID)。
載氣:高純氮,流量30毫升/分。
色譜柱:使用的GC-9280 N 同前面所述。柱長3米,內(nèi)徑1.5毫米,分子篩40/60目。
進樣量:1毫升。
FID、NPD實驗條件同第三、四節(jié)中所述。
ECD條件:除檢定器溫度250℃外,其它條件與FID、NPD均一致。
(1) 比較NPD,ECD及FID對硅烷測定的靈敏度。
(2) 有關(guān)NPD、ECD、FID三種檢定器測定半導(dǎo)體用的硅烷、磷烷,靈敏度尚未系統(tǒng)報道。我們根據(jù)半導(dǎo)體的要求,選擇合適條件,求出SiH4,PH3,CH4,O2的zui小檢測量,見表3。
(3) 圖9~圖14比較FID、ECD、NPD對充氫、充氮硅烷進行色譜“照相”時,實驗條件嚴格要求一致。從這些圖中,我們可得到如下結(jié)果:
① 從這三個檢定器分析硅烷的色譜圖中,硅烷成分是復(fù)雜的,特別在ECD檢定器試驗中尤其如此。另外,稀釋氣純度和品種不同,也使得色譜圖的圖形有變化。為了把稀釋硅烷質(zhì)量提高,我們認為首先把釋釋氣質(zhì)量搞好是關(guān)鍵,SEMI[10]認為高純氮中含Kr85將影響集成電路質(zhì)量。
② ECD檢定器的靈敏度比FID高,但色譜圖的圖形復(fù)雜,對于未知峰定性很困難。同樣,NPD檢定器分析SiH4時圖形也比較復(fù)雜,只有用幾種檢定器反復(fù)比較,配合色譜—質(zhì)譜儀或色譜—光譜儀才能真正搞清硅烷質(zhì)量。
六、高純硅烷中痕量水的分析
高純硅烷中痕量水的分析是困難的,這是由于硅烷易水解,產(chǎn)生的二氧化硅影響鏡面觀察。分析一次,露點儀主要處理清洗一次。采用庫倫法,由于硅烷本身含有大量氫,造成分析誤差大。其它如化學(xué)法、電容法也未見報道。前一種方法是硅烷與卡爾—費希試劑反應(yīng);而后者人們尚未試驗,主要是硅烷易水解,影響探頭元件壽命。我們試驗了用碳化鈣將水轉(zhuǎn)化為乙炔,然后用氫火焰色譜測定乙炔。該方法靈敏度可到-70℃。
儀器設(shè)備:使用普瑞公司的GC-9280氣相色譜儀;FID,Sigma 10數(shù)據(jù)處理計算機;自制露點儀;碳化鈣轉(zhuǎn)化器:內(nèi)徑8毫米,長15厘米,碳化鈣為8/20目。
色譜條件:載氣,高純氮,流量47毫升/分;輔助氣,高純氫,壓縮空氣,見上述第三節(jié)。
取樣流量100~800毫升/分,每次取樣后吹洗100分鐘。色譜注程見圖15。
分析過程是把SiH4,樣品以500毫升/分通1小時,用六通閥進樣,測定峰面積,再換處成露點。
本法能分析氨中痕量水,對于不宜用露點法、電容法、庫倫法的氣體,可以用碳化鈣法。此法缺點是實驗開始時一定要測準露點。利用CaC2將水轉(zhuǎn)化成乙炔,再用氫火焰法測定。此法靈敏度可達-70℃