PDMI-2無論是在靜態(tài)還是在灌注條件下，都能很好地工作。當在灌注條件下，PSMI斑點微型孵化器的設計，讓輸送流入液的軟管與一個溫度調節(jié)器控制的Peltier熱泵驅動盤接觸，這樣就可以讓流入的液體加熱或者冷卻到我們要求的溫度，減少了預加熱或者預冷卻過程。在沒有進行灌注時，Peltier盤可以均勻加熱或者冷卻中央腔室里的細胞。

PDMI-2無論是在靜態(tài)還是在灌注條件下，都能很好地工作。當在灌注條件下，PSMI斑點微型孵化器的設計，讓輸送流入液的軟管與一個溫度調節(jié)器控制的Peltier熱泵驅動盤接觸，這樣就可以讓流入的液體加熱或者冷卻到我們要求的溫度，減少了預加熱或者預冷卻過程。在沒有進行灌注時，Peltier盤可以均勻加熱或者冷卻中央腔室里的細胞。

連續(xù)數小時維持細胞需要的溫度：

加熱和冷卻-5°至50°C

pH 和 O2

Peltier熱泵

簡單改變灌注流量

使溫度循環(huán)試驗更加簡單

可變溫度范圍：

在使用溫度控制器時，PSMI斑點微型孵化器操作的試驗溫度范圍的標稱值是-5°至50°C，請參見336頁。較低的溫度可以使用附加在PDMI-2周邊的選配的降溫冷水環(huán)狀管。在整個溫度操作范圍內，很快可以達到預置的溫度；在整個腔室中，溫度的*性可以得到充分的保證。

理想的可調節(jié)式灌注:

兩條溫度控制的灌注管線通過微型孵化器到達腔室內部進行速度為每分鐘3ml的灌注。腔室內液體平面的維持是通過在腔室內安放一個吸引器而得以實現，液體的高度可以通過這一裝置進行調節(jié)。一個巧妙設計的吸引口消除了液體的撲動，因而吸引過程十分安靜。一個磁性的基座保證了吸引器放置在用戶選擇的微型孵化器的方便的位置上。

優(yōu)秀的pH 控制:

PDMI-2同時也在腔室的上部提供了氣流，以對pH進行控制并提高了溫度的*性。開放式的設計提供了出色的機械以及視覺上的對媒介的通路。

低噪聲條件:

在基底部位，teflon的溝槽配備Ag/AgCl的電極，可以進行低噪聲的電生理紀錄時形成鹽橋。

規(guī)格:

腔室選擇 Coming 35mm Petri 盤,LU-CSD,MSC-TD或MSC-PTD 推薦氣體流量 0.5至2.0 L/min 溫度范圍 低于室溫-5°C 至 10°C，到50°C 溫度穩(wěn)定性 使用TC-202A在37°C使用1ml/min灌注時±0.2°C， 腔室內溫度坡度變化 在使用1.5ml媒介容量，1ml/min灌注時2°C 內置式溫度感應器 電阻式，25°C 時，YSI44011, 100kW Peltier設備額定電流 *大6A 媒介灌注速率 近3.0ml/min 整體大小，高度＊直徑 17＊152mm (0.67＊60 in) 重量 0.5kg (17.9oz) 載物臺承載 Harvard Apparatus得到選擇