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單色元件 | 其他 | 分辨率 | 見詳情nm |
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光學系統(tǒng) | 雙光束 | 價格區(qū)間 | 3萬-5萬 |
檢測器類 | 光電倍增器 | 檢出限 | 見詳情mg/l |
扣背景技術 | 氘燈+自吸收扣背景 | 靈敏度 | 見詳情 |
儀器種類 | 火焰-石墨爐 | 應用領域 | 環(huán)保,食品,化工,制藥,綜合 |
重復性(RSD) | 見詳情 |
北京普析原子吸收分光光度計歡迎現(xiàn)場看貨
TAS-990系列是TAS-986的升級版本,在充分發(fā)展TAS-986優(yōu)點的基礎上,增強了火焰分析的安全連鎖系統(tǒng),提升了石墨爐分析系統(tǒng)的性能,提供并完善了對火焰和石墨爐自動進樣器的擴展。
TAS-990原子吸收分光光度計技術參數(shù)
1.波長范圍 :190~900nm
2.光譜帶寬 :0.1、0.2、0.4、1.0、2.0nm五檔自動切換
3.波長準確度:±0.25nm
4.波長重復性:0.15nm
5.基線漂移:0.005A/30min
6.背景校正:氘燈背景校正:可校正1A背景
自吸背景校正:可校正1A背景
TAS-990原子吸收分光光度計主要特點
1.一體化的火焰原子化器與石墨爐原子化器的結構設計,火焰與石墨爐原子化器的自動切換;
2.采用八支燈自動切換轉塔,預先設置優(yōu)化空心陰極燈的工作條件;
3.自動設置燃氣流量,選擇元素分析助燃比;
4.自動設定最佳火焰高度及原子化器位置,選擇最佳分析條件;
5.自動轉換光譜帶寬,自動調整負高壓、燈電流,兩路光平衡;
6.自動流量設定,自動點火,燃氣自動保護;
7.使用氘燈扣背景方式時,自動切入半透半反鏡裝置;
8.與眾不同的石墨爐設計,采用先進的橫向加熱石墨爐技術,實現(xiàn)了石墨管的溫度均勻*,減少了化學干擾和記憶效應,這樣既能保證提高原子化效率,又可延長石墨管的使用壽命,保證了分析準確度;
9.熱解涂層L’VOV平臺石墨管;
10.完善的安全措施:火焰監(jiān)視器;乙炔泄露報警;異常壓力監(jiān)測器;可靠的位置識別;石墨爐保護。
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為適應不同應用領域的需求,儀器具備不同配置和功能:F代表火焰型 G代表石墨爐型 A代表自動型
型號 配置說明
TAS-990F 單火焰型
TAS-990G 單石墨爐型
TAS-990FG (火焰型+石墨爐型)手動型
TAS-990AFG (火焰型+石墨爐型)自動型
性能指標:
技術指標 | TAS-990super | TAS-990 |
波長示值誤差 | ±0.15nm | ±0.25nm |
基線穩(wěn)定性 | 靜態(tài)基線±0.002Abs/30min | 靜態(tài)基線±0.004Abs/30min |
測量重復性 | 空氣-乙炔法Cu:<0.7% | 空氣-乙炔法Cu:<1% |
石墨爐法Cu:<2.0% Cd: <2.0 % | 石墨爐法Cu:<3.0% Cd: <4.0 % | |
特征濃度 | <0.02μg/mL/1% | <0.04μg/mL/1% |
檢出極限 | 空氣-乙炔法(Cu)<0.004μg/mL | 空氣-乙炔法(Cu)<0.006μg/mL |
石墨爐法(Cd)<0.4pg | 石墨爐法(Cd)<1.0pg |
波長范圍 | 190nm-900nm | ||
單色器 | 消象差 C-T 型單色器裝置 | ||
光譜帶寬 | 0.1、0.2、0.4、1.0、2.0nm:五檔自動切換 | ||
波長準確度 | ±0.25nm | ||
波長重復精度 | 0.15nm | ||
分辨率 | 優(yōu)于0.3nm | ||
基線漂移 | 0.005A/30min | ||
性能規(guī)格 | |||
特征濃度(Cu) | 0.03µg/ml/1% | ||
檢出限(Cu) | 0.006µg/ml | ||
燃燒器 | 金屬鈦燃燒器 | ||
精密度 | RSD≤1% | ||
噴霧器 | 高效玻璃霧化器 | ||
霧化室 | 耐腐蝕材料霧化室 | ||
位置調節(jié) | 火焰燃燒器高度及前后位置自動設定 | ||
安全措施 | 具有多種自動保護功能 | ||
石墨爐分析 | |||
特征量(Cd) | 0.5×10-12g | ||
檢出限(Cd) | 1.0×10-12g | ||
精密度 | RSD≤3% | ||
加熱溫度范圍 | 室溫~2650℃ | ||
加熱方式 | 石墨爐橫向加熱方式 | ||
加熱控溫方式 | 干燥灰化階段功率控制方式 原子化階段采用光控最大功 | ||
率方式 | |||
升溫方式 | 斜坡升溫.階梯升溫.最大功率加熱升溫 | ||
控溫精度 | < 1% | ||
背景校正 | |||
氘燈背景校正 | 可校正1A 背景 | ||
自吸背景校正 | 可校正1A 背景 | ||
數(shù)據處理 | |||
測量方式 | 火焰法,石墨爐法,氫化物發(fā)生—原子吸收法 | ||
濃度計算方式 | 標準曲線法(1~3次曲線),標準加入法、內插法 | ||
重復測量次數(shù) | 1~20次,計算平均值,給出標準偏差和相對標準偏差 | ||
結果打印 | 參數(shù)打印,數(shù)據結果打印,圖形打印 |
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