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透射電鏡樣品桿存儲儀
CIF透射電鏡樣品桿存儲儀采用無油隔膜泵，通過抽真空產(chǎn)生100 Pa恒定潔凈無污染的真空環(huán)境，特別適用于TEM透射電鏡樣品桿的日常真空儲存或水汽去除，簡單方便實...
型號： CIF-TEM 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/5 14:24:27 對比

透射電鏡樣品桿存儲儀存儲儀
原子層沉積ALD
用于電池、太陽能和柔性電子產(chǎn)品的功能性原子層沉積涂層。 Genesis ALD 是涂布任何卷筒格式基材以及多種功能應用的理想選擇。
型號： Genesis A... 所在地：芬蘭參考價：面議更新時間：2024/9/5 14:24:21 對比

ALD Beneq 原子層沉積半導體
濺射系統(tǒng)
iTops PVD AlN 濺射系統(tǒng)，采用托盤形式，可兼容 2/4/6 英寸,工藝溫度在 0~700℃之間。
型號： iTops PVD... 所在地：北京市參考價：面議更新時間：2024/9/5 14:22:41 對比

濺射系統(tǒng)iTops PVD AlN 北方華創(chuàng)
快速退火爐
德國UNITEMP研發(fā)的符合真空標準的快速退火爐RTP-100-EP，升溫速率高達 200 K/sec。主要特點：良好的溫度均勻性、精確控制的斜坡上升速率和快速...
型號： RTP-100-E... 所在地：德國參考價：面議更新時間：2024/9/5 14:22:14 對比

半導體前道退火爐
全自動CMP晶圓清洗一體機
韓國G&P的全自動CMP晶圓清洗一體機是一臺可以自動拋光和清潔300毫米晶圓的機器。
型號： GNP GPC-3... 所在地：韓國參考價：面議更新時間：2024/9/5 14:22:01 對比

半導體濕法化學機械拋光
快速退火爐
德國UNITEMP研發(fā)的符合高真空標準的快速退火爐RTP-100-HV，升溫速率可高達 150 K/sec。主要特點：良好的溫度均勻性、精確控制的斜坡上升速率和...
型號： RTP-100-H... 所在地：德國參考價：面議更新時間：2024/9/5 14:21:01 對比

半導體前道退火爐
快速退火爐
由德國UNITEMP研發(fā)的符合高真空標準的快速退火爐，升溫速率高達 200 K/sec。主要特點：良好的溫度均勻性、精確控制的斜坡上升速率和快速斜坡下降速率、工...
型號： RTP-100-H... 所在地：德國參考價：面議更新時間：2024/9/5 14:19:24 對比

半導體前道退火爐
超聲掃描顯微鏡
PVA TePla 超聲掃描顯微鏡SAM Premium系列結合了聲學顯微鏡和光學顯微鏡。它使超聲掃描平臺與倒置光學顯微鏡或反射式光學顯微鏡相結合。SAM Pr...
型號： SAM Premi... 所在地：美國參考價：面議更新時間：2024/9/5 14:19:04 對比

半導體測量檢測
激光橢圓儀
多角度激光橢偏儀 SE 400adv PV 在 HeNe 激光波長為 632.8 nm 時，在紋理單晶和多晶硅片上提供抗反射單膜的膜厚度和折射率?？筛鼡Q晶圓支架...
型號： SE 400adv... 所在地：德國參考價：面議更新時間：2024/9/5 14:18:06 對比

激光膜厚度折射率
濺射系統(tǒng)
iTops PVD ITO 濺射系統(tǒng)，加熱能力、精確的溫度控制、優(yōu)異的真空能力.高晶體質量的氮化鋁薄膜及優(yōu)異的薄膜厚度均勻性。
型號： iTops PVD... 所在地：北京市參考價：面議更新時間：2024/9/5 14:18:05 對比

濺射系統(tǒng)iTops PVD ITO 北方華創(chuàng)
快速退火爐
由德國UNITEMP研發(fā)的快速退火爐RTP-150，升溫速率高達 75 K/sec。主要特點：良好的溫度均勻性、精確控制的斜坡上升速率和快速斜坡下降速率、工藝周...
型號： RTP-150 所在地：德國參考價：面議更新時間：2024/9/5 14:16:15 對比

半導體前道退火爐
分子束外延MBE
GEN10™ MBE 系統(tǒng)是成熟平臺中經(jīng)濟、最靈活的簇狀工具系統(tǒng)，允許多達三個可配置的、特定于材料的生長模塊。這使得系統(tǒng)利用率高，允許多個研究人員同...
型號： GEN10 所在地：國外參考價：面議更新時間：2024/9/5 14:14:41 對比

分子束外延 MBE 薄膜沉積
單腔立式甩干機
單腔立式甩干機適用于晶圓直徑至200mm；25片晶圓單盒工藝；標準的高邊和低邊花籃；可選內置電阻率檢測傳感器來控制晶圓的清洗工藝；用冷或熱的N2輔助晶圓干燥；離...
型號： customize... 所在地：南通市參考價：面議更新時間：2024/9/5 14:13:55 對比

甩干機單腔半導體英思特
超高真空激光分子束外延薄膜沉積系統(tǒng)
產(chǎn)品概述：超高真空激光分子束外延薄膜沉積系統(tǒng)由真空腔室（外延室、進樣室）、樣品傳遞機構、樣品架、立式旋轉靶臺、基片加熱臺、抽氣系統(tǒng)、真空測量、工作氣路、電控系統(tǒng)...
型號： LMBE450 所在地：沈陽市參考價：面議更新時間：2024/9/5 14:13:08 對比

分子束外延薄膜沉積
快速退火爐
由德國UNITEMP研發(fā)的真空快速退火爐RTP-150-EP，升溫速率高達 150 K/sec。主要特點：良好的溫度均勻性、精確控制的斜坡上升速率和快速斜坡下降...
型號： RTP-150-E... 所在地：德國參考價：面議更新時間：2024/9/5 14:11:47 對比

半導體前道退火爐
快速退火爐
由德國UNITEMP研發(fā)符合高真空標準的快速退火爐，升溫速率高達 75 K/sec。，升溫速率高達 150 K/sec。主要特點：良好的溫度均勻性、精確控制的斜...
型號： RTP-150-H... 所在地：德國參考價：面議更新時間：2024/9/5 14:08:50 對比

半導體前道退火爐
高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)
產(chǎn)品概述：高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)可用于制備光學薄膜、電學薄膜、磁性薄膜、硬質保護薄膜和裝飾薄膜等，工藝性能穩(wěn)定、模塊化結構，采用行業(yè)的軟件控制系統(tǒng)。設備用途...
型號： PVD400 所在地：沈陽市參考價：面議更新時間：2024/9/5 14:08:37 對比

磁控濺射薄膜
自動光譜反射儀
SENTECH RM 1000 QC反射儀設計用于快速簡單地測量透明或吸收基材上的透明和半透明薄膜的厚度，用于工業(yè)生產(chǎn)過程中的質量控制。該工具涵蓋 20 nm ...
型號： SENTECH R... 所在地：德國參考價：面議更新時間：2024/9/5 14:06:57 對比

反射光譜
勻膠機
H6-8型勻膠機機結構緊湊，具有先進的功能，設計為最容易安裝在手套箱中的旋涂機。這款 650 系列 HL 涂布機系統(tǒng) 將可容納最大 200mm 晶圓和 7 英...
型號： H6-8 所在地：美國參考價：面議更新時間：2024/9/5 14:00:18 對比

半導體前道勻膠
紫外臭氧清洗機
CIF紫外臭氧清洗機（UVO），是一種簡單，經(jīng)濟，快速高效的材料表面清洗設備，能快速去除大多數(shù)無機基材（比如石英，硅片，金，鎳，鋁，砷化鎵，氧化鋁等）上的有機污...
型號： UVO系列所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/9/5 14:00:02 對比

CIF 紫外臭氧清洗機清洗機

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