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當(dāng)前位置：深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司>>半導(dǎo)體前道工藝設(shè)備>>2 PVD>> PC450高真空磁控濺射粉末顆粒表面薄膜沉積系統(tǒng)
| 參 考 價(jià): | 面議 |
產(chǎn)品型號(hào)PC450
品牌沈陽(yáng)科儀
廠商性質(zhì)經(jīng)銷商
所在地沈陽(yáng)市
更新時(shí)間：2024-09-05 10:23:15瀏覽次數(shù)：158次
聯(lián)系我時(shí)，請(qǐng)告知來(lái)自 化工儀器網(wǎng)1.產(chǎn)品概述：
高真空磁控濺射粉末顆粒表面薄膜沉積系統(tǒng)可以在粉末顆粒狀樣品表面鍍制金屬膜、磁性膜、絕緣膜等，采用行業(yè)的軟件控制系統(tǒng)。
2.設(shè)備用途：
可廣泛應(yīng)用于大院校、科研院所的粉末樣品表面鍍制薄膜材料的科研項(xiàng)目。
3.真空室結(jié)構(gòu):
圓筒形側(cè)開門，通常采用不銹鋼材質(zhì)制造，具備良好的密封性能
真空室尺寸:Ф450x550mm
限真空度:≤8.0E-5Pa
沉積源:永磁靶2套，φ3英寸
樣品尺寸，溫度:小型粉末顆粒狀樣品
占地面積（長(zhǎng)x寬x高）:約1米x1.8米x2米
電控描述:全自動(dòng)設(shè)備電控系統(tǒng)和控制系統(tǒng)：采用計(jì)算機(jī)控制，具有液晶顯示屏、鼠標(biāo)鍵盤操作界面，支持自動(dòng)控制和手動(dòng)控制兩種方式，操作簡(jiǎn)便，并可實(shí)現(xiàn)真空系統(tǒng)及工藝過(guò)程的全自動(dòng)化操作。
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