1. 產(chǎn)品概述

高密度等離子體蝕刻系統(tǒng)采用電感耦合等離子體作為放電形式。該系統(tǒng)配備了真空盒室，是一套完整的生產(chǎn)系統(tǒng)，具有優(yōu)良的工藝重復(fù)性和穩(wěn)定性。

2. 設(shè)備用途/原理

GaN、GaAs、InP等化合物半導(dǎo)體的高精度加工。SiC、SiO?的高速加工。蝕刻鐵電材料（PZT、BST、SBT、SBT）、電材料（Pt、Au、Ru、Al）和其他難以蝕刻的材料。複合式半導(dǎo)體晶片的等離子切割和薄型化。

3. 設(shè)備特點

新的ICP源 "HSTC™: Hyper Symmetrical Tornado Coil"。可高效穩(wěn)定地應(yīng)用高射頻功率（2千瓦以上），并實現(xiàn)良好的均勻性。大流量排氣系統(tǒng)，排氣系統(tǒng)直接連接到反應(yīng)室，可以實現(xiàn)從小流量和低壓范圍到大流量和高壓范圍的廣泛工藝窗口。下電升降機構(gòu)，晶片和等離子體之間的距離經(jīng)過優(yōu)化，以確保良好的平面內(nèi)均勻性。易于維護(hù)的設(shè)計，TMP(渦輪分子泵)集成在設(shè)備中，便于更換。