您好, 歡迎來到化工儀器網(wǎng)！ 登錄| 免費注冊| 產(chǎn)品展廳| 收藏商鋪|
當前位置：深圳市矢量科學儀器有限公司>>半導體前道工藝設(shè)備>>3 CVD>> HORIC L200 系列臥式 LPCVD 氣相沉積系統(tǒng)
| 參 考 價: | 面議 |
產(chǎn)品型號HORIC L200 系列
品牌北方華創(chuàng)
廠商性質(zhì)經(jīng)銷商
所在地北京市
更新時間：2024-09-05 17:43:28瀏覽次數(shù)：309次
聯(lián)系我時，請告知來自 化工儀器網(wǎng)1. 產(chǎn)品概述
HORIC L200 系列 臥式 LPCVD 氣相沉積系統(tǒng)，半導體客戶端機臺裝機量大,可根據(jù)客戶需求配置多工藝組合的機臺。可提供先進成熟的 MES 系統(tǒng)解決方案.優(yōu)異的工藝技術(shù)支持。
2. 設(shè)備用途/原理
HORIC L200 系列 臥式 LPCVD 系統(tǒng)，半導體客戶端機臺裝機量大。可根據(jù)客戶需求配置多工藝組合的機臺。高可靠性、穩(wěn)定性 Higher reliability and stability。安全性能高：設(shè)備及所使用的元件符合國標和國際標準。可提供先進成熟的 MES 系統(tǒng)解決方案。優(yōu)異的工藝技術(shù)支持。
3. 設(shè)備特點
晶圓尺寸 4、6、8 英寸，適用材料硅、碳化硅、硅基氮化鎵。適用工藝 氮化硅、氧化硅、多晶硅、摻雜多晶硅、磷硅玻璃、硼磷硅玻璃。適用域 科研、化合物半導體。
 |
 |
 |
請輸入賬號
請輸入密碼
請輸驗證碼
以上信息由企業(yè)自行提供，信息內(nèi)容的真實性、準確性和合法性由相關(guān)企業(yè)負責，化工儀器網(wǎng)對此不承擔任何保證責任。
溫馨提示：為規(guī)避購買風險，建議您在購買產(chǎn)品前務(wù)必確認供應(yīng)商資質(zhì)及產(chǎn)品質(zhì)量。
| 評價時間 | 類別 | 詳細內(nèi)容 | 評價者 | IP地址 |
化工儀器網(wǎng)