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          [供應(yīng)]OTL1200-1200雙溫區(qū)PECVD系統(tǒng)
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          • OTL1200-1200雙溫區(qū)PECVD系統(tǒng)
          貨物所在地:
          北京北京市
          更新時(shí)間:
          2023-04-24 21:00:27
          有效期:
          2023年4月24日 -- 2023年10月24日
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          OTL1200-1200雙溫區(qū)PECVD系統(tǒng)由供氣系統(tǒng)+管式爐+抽氣系統(tǒng),最高溫度可以達(dá)到1200度、1400度、1600度、1700度,加熱區(qū)間可以是單溫區(qū)、雙溫區(qū)、三溫區(qū)等,極限真空可以達(dá)到10-3Pa,供氣系統(tǒng)是流量調(diào)節(jié)可以是質(zhì)子流量計(jì)或浮子流量計(jì),混氣路數(shù)可以是2路、3路、4路、5路相混合。

          詳細(xì)介紹

          OTL1200-1200雙溫區(qū)PECVD系統(tǒng),由OTL1200真空管式爐、石英真空室、射頻電源、GX供氣系統(tǒng)、抽氣系統(tǒng)、真空測(cè)量系統(tǒng)組成。

          OTL1200-1200雙溫區(qū)PECVD系統(tǒng)主要特點(diǎn):

          1、通過(guò)射頻電源把石英真空室內(nèi)的氣體變?yōu)殡x子態(tài)。

          2、PECVD比普通CVD進(jìn)行化學(xué)氣相沉積所需的溫度更低。

          3、可以通過(guò)射頻電源的頻率來(lái)控制所沉積薄膜的應(yīng)力大小。

          4、PECVD比普通CVD進(jìn)行化學(xué)氣相沉積速率高、均勻性好、一致性和穩(wěn)定性高。

          5、廣泛應(yīng)用于:各種薄膜的生長(zhǎng),如:SiOx,SiNx,SiOxNy和無(wú)定型硅(a-Si:H)等。

          OTL-PECVD-1200-1200雙溫區(qū)PECVD系統(tǒng)以瑞典Kanthal電阻絲為加熱元件,采用雙層殼體結(jié)構(gòu)和30段程序控溫儀表,移相觸發(fā)、可控硅控制,爐膛采用日本進(jìn)口氧化鋁多晶纖維材料,爐管兩端能不銹鋼法蘭密封,不銹鋼法蘭上安裝有氣嘴、閥門(mén)和壓力表,抽真空時(shí)真空度能夠達(dá)到10-3Pa,具有溫場(chǎng)均衡、表面溫度低、升降溫度速率快、節(jié)能、*等優(yōu)點(diǎn)。

          (1)、表面溫度高可達(dá)1420℃

          (2)、表面為不銹鋼色(非常亮、客戶(hù)識(shí)別時(shí)要注意)、不會(huì)生銹,使用時(shí)間再長(zhǎng)都不會(huì)掉渣。

          (3)、Kanthal電阻絲資料下載

          (4)、Kanthal電阻絲網(wǎng)站

          (5)、電阻均衡、溫場(chǎng)均衡性好

          當(dāng)電路過(guò)流或漏電時(shí),空開(kāi)會(huì)自動(dòng)斷開(kāi)。

          爐配有通訊接口和軟件,可以直接通過(guò)電腦控制爐子的各個(gè)參數(shù),并能從電腦上觀察到爐子上PV和SV溫度值和儀表的運(yùn)行情況,爐子的實(shí)際升溫曲線電腦會(huì)實(shí)時(shí)繪出,并能把每個(gè)時(shí)刻的溫度數(shù)據(jù)保存起來(lái),隨時(shí)可以調(diào)出

          1、真空吸濾成型的優(yōu)質(zhì)高純氧化鋁多晶纖維固化爐膛。

          2、采用日本技術(shù)成型。

          3、爐膛里電阻絲的間距和節(jié)距全部按日本*的熱工技術(shù)布置、經(jīng)過(guò)熱工軟件模擬溫場(chǎng)

          4、采用4周加熱,溫場(chǎng)更加均衡


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