您好, 歡迎來(lái)到化工儀器網(wǎng)
| 產(chǎn)地類別 | 進(jìn)口 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,化工,生物產(chǎn)業(yè),電子,制藥 |
|---|---|---|---|
| 產(chǎn)品類型 | 旗艦型 | 最大樣品尺寸 | 230×230×15mm |
| 最大直寫面積 | 195mm?x?195mm | 曝光光源 | 385?nm?LED?適用于SU-8 |
| 直寫分辨率 | 0.6μm,?1μm,?2μm,?5μm | 直寫速度 | 25平方毫米/min?@?0.6μm |
| 多層套刻精度 | ±0.5μm | 最小柵格精度 | 100nm |
| 樣品臺(tái)最小步長(zhǎng) | 50nm | 光學(xué)輪廓Z分辨率 | 100nm |
產(chǎn)品簡(jiǎn)介
詳細(xì)介紹
傳統(tǒng)的光刻工藝中所使用的鉻玻璃掩膜板需要由專業(yè)供應(yīng)商提供，但是在研發(fā)環(huán)境中，掩膜板的設(shè)計(jì)通常需要經(jīng)常改變。無(wú)掩膜光刻技術(shù)通過(guò)以軟件設(shè)計(jì)電子掩膜板的方法，克服了這一問(wèn)題。與通過(guò)物理掩膜板進(jìn)行光照的傳統(tǒng)工藝不同，激光直寫是通過(guò)電腦控制一系列激光脈沖的開(kāi)關(guān)，在光刻膠上直接曝光繪出所要的圖案。
MicroWriter ML3 是一款多功能激光直寫光刻系統(tǒng)，具有結(jié)構(gòu)小巧緊湊(70cm x 70cm x 70cm)，無(wú)掩膜直寫系統(tǒng)的靈活性，還擁有高直寫速度，高分辨率的特點(diǎn)。采用集成化設(shè)計(jì)，全自動(dòng)控制，可靠性高，操作簡(jiǎn)便。適用于各種實(shí)驗(yàn)室桌面。
小型臺(tái)式無(wú)掩膜光刻機(jī)應(yīng)用領(lǐng)域
小型臺(tái)式無(wú)掩膜光刻系統(tǒng)是英國(guó)Durham Magneto Optics公司專為實(shí)驗(yàn)室設(shè)計(jì)開(kāi)發(fā)，為微流控、SAW、半導(dǎo)體、自旋電子學(xué)等研究領(lǐng)域提供方便高效的微加工方案。
MicroWriter小型臺(tái)式無(wú)掩膜光刻機(jī)產(chǎn)品特點(diǎn)
| Focus Lock自動(dòng)對(duì)焦功能
| 直寫前預(yù)檢查
| |
| 標(biāo)記物自動(dòng)識(shí)別 點(diǎn)擊“Bulls-Eye”按鈕，系統(tǒng)自動(dòng)在顯微鏡圖像中識(shí)別光刻標(biāo)記。標(biāo)記物被識(shí)別后，將自動(dòng)將其移動(dòng)到顯微鏡中心位置。
| 光學(xué)輪廓儀 MicroWriter ML3 配備光學(xué)輪廓探測(cè)工具，用于勻膠后沉積層，蝕刻層，MEMS等前道結(jié)構(gòu)的形貌探測(cè)與套刻。Z向最高精度100 nm，方便快捷。
| |
| 簡(jiǎn)單的直寫軟件 MicroWriter 由一個(gè)簡(jiǎn)單直觀的Windows界面軟件控制。工具欄會(huì)引導(dǎo)使用者進(jìn)行簡(jiǎn)單的布局設(shè)計(jì)、基片對(duì)準(zhǔn)和曝光的基本操作。該軟件在Windows10系統(tǒng)下運(yùn)行。
| Clewin 掩模圖形設(shè)計(jì)軟件 + 可以讀取多種圖形設(shè)計(jì)文件 （DXF, CIF, GDSII, 等） + 可以直接讀取TIFF, BMP 等圖片格式 + 書寫范圍只由基片尺寸決定
|
0.4 μm特征線寬曝光結(jié)果
 |  |
直寫分辨率1μm
直寫分辨率0.6μm
灰度直寫
|
|  |  |
微結(jié)構(gòu)/微器件/微電極制備
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
