開放式孔構(gòu)薄膜PLGA納米纖維500nm厚200/500

靜電紡絲是基于高壓靜電場(chǎng)下導(dǎo)電流體產(chǎn)生高速噴射的原理發(fā)展而來，其基本過程是：聚合物溶液或熔體在幾千至幾萬伏的高壓靜電場(chǎng)下克服表面張力而產(chǎn)生帶電噴射流，溶液或熔體射流在噴射過程中干燥，并保持一定電荷量，終落在接收集上形成纖維。

開放式孔構(gòu)薄膜PLGA納米纖維500nm厚200/500

昊然生物實(shí)驗(yàn)室可以制備多種高分子纖維 PVA、PVB、PVP、PCL、PLA、PLGA、PSF、PS、PVDF、PAN 等，還可定制提供各種形貌的納米纖維膜、纖維管。

多孔薄膜PLA納米纖維200nm（厚度：200/500）um或1cm

多孔薄膜PLGA納米纖維500nm（厚度：200/500）um或1cm

多孔薄膜PLGA納米纖維200nm（厚度：200/500）um或1cm

多孔薄膜PCL納米纖維500nm（厚度：200/500）um或1cm

多孔薄膜PCL納米纖維200nm（厚度：100/200/500）um或1cm

開放式孔構(gòu)薄膜PLA納米纖維500nm（厚度：200/500）um或1cm

開放式孔構(gòu)薄膜PLA納米纖維200nm（厚度：200/500）um或1cm

開放式孔構(gòu)薄膜PLGA納米纖維500nm（厚度：200/500）um或1cm

開放式孔構(gòu)薄膜PLGA納米纖維200nm（厚度：200/500）um或1cm

開放式孔構(gòu)薄膜PCL納米纖維500nm（厚度：200/500）um或1cm

開放式孔構(gòu)薄膜PCL納米纖維200nm（厚度：200/500）um或1cm

PS納米纖維網(wǎng)格濾片150nm（直徑3/8cm）（網(wǎng)格空隙：200um）

PS納米纖維網(wǎng)格濾片300nm（直徑3/8cm）（網(wǎng)格空隙：400um）

PS納米纖維薄膜網(wǎng)格濾片150nm（網(wǎng)格空隙：200um）

PS納米纖維薄膜網(wǎng)格濾片300nm（網(wǎng)格空隙：400um）

PS納米纖維內(nèi)嵌網(wǎng)格濾片150nm（孔數(shù)：6/12/24/48/96）（網(wǎng)格空隙：200um）

PLGA納米纖維網(wǎng)格膜片150nm（直徑：3/8cm）（網(wǎng)格空隙：200um）

PLGA納米纖維網(wǎng)格膜片300nm（直徑：3/8cm）（網(wǎng)格空隙：400um）

PLGA納米纖維薄膜網(wǎng)格膜片150nm（網(wǎng)格空隙：200um）

PLGA納米纖維薄膜網(wǎng)格膜片300nm（網(wǎng)格空隙：400um）

PLGA納米纖維內(nèi)嵌網(wǎng)格膜片150nm（孔數(shù)：6/12/24/48/96）（網(wǎng)格空隙：200um）

PLA納米纖維網(wǎng)格膜片150nm（直徑：3/8cm）（網(wǎng)格空隙：200um）

PLA納米纖維網(wǎng)格膜片300nm（直徑：3/8cm）（網(wǎng)格空隙：400um）

PLA納米纖維薄膜網(wǎng)格膜片150nm（網(wǎng)格空隙：200um）

PLA納米纖維薄膜網(wǎng)格膜片300nm（網(wǎng)格空隙：400um）

PLA納米纖維內(nèi)嵌網(wǎng)格膜片150nm（孔數(shù)：6/12/24/48/96）（網(wǎng)格空隙：200um）

PCL納米纖維網(wǎng)格膜片150nm（直徑：3/8cm）（網(wǎng)格空隙：200um）

PCL納米纖維網(wǎng)格膜片300nm（直徑：3/8cm）（網(wǎng)格空隙：400um）

PCL納米纖維薄膜網(wǎng)格膜片150nm（網(wǎng)格空隙：200um）

PCL納米纖維薄膜網(wǎng)格膜片300nm（網(wǎng)格空隙：400um）

PCL納米纖維內(nèi)嵌網(wǎng)格膜片150nm（孔數(shù)：6/12/24/48/96）（網(wǎng)格空隙：200um）

溫馨提示：以上產(chǎn)品僅用于科研，不能用于人體（BYZ 2021.7）