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當(dāng)前位置：> 供求商機(jī)> Eksma 激光脈沖電動(dòng)可變衰減器
Eksma 飛秒和ND：YAG激光脈沖電動(dòng)可變衰減器990-0072M
Eksma 激光脈沖電動(dòng)可變衰減器
具有?22 mm透明孔徑的電動(dòng)可變衰減器，由薄膜偏振片，半波片和光機(jī)械組成，易于設(shè)置。波片的電動(dòng)旋轉(zhuǎn)允許連續(xù)改變輸出光束的強(qiáng)度比。
產(chǎn)品介紹
?將激光束分為兩束手動(dòng)調(diào)節(jié)的強(qiáng)度比，以68°角分開
?大動(dòng)態(tài)范圍
?透射光束偏移?1mm
?高光學(xué)損傷閾值
Eksma 激光脈沖電動(dòng)可變衰減器
該可變衰減器/分束器由直徑為50.8mm的UV FS薄膜布魯斯特型偏振片組成，該偏振片反射s偏振光，同時(shí)透射p偏振光，并安裝在分束器安裝座840-0056-12和石英零階（光學(xué)接觸）中。半波片直徑25.4mm（用于飛秒應(yīng)用）或零級(jí)空氣間隔半波片（用于高功率應(yīng)用），其放置在旋轉(zhuǎn)的偏振片支架840-0190-01中，并放置在入射的線性偏振激光束中。
可以通過旋轉(zhuǎn)波片來連續(xù)改變那兩個(gè)分離且不同的偏振光束的強(qiáng)度比，而無需改變其他光束參數(shù)?？梢栽诤軐挼膭?dòng)態(tài)范圍內(nèi)控制出射光束的強(qiáng)度或其強(qiáng)度比?？梢赃x擇P偏振以獲得較大的透射率，或者當(dāng)透射光束發(fā)生較大衰減時(shí)可以反射高純度s偏振。
840-0056-12運(yùn)動(dòng)學(xué)安裝座允許將薄膜Brewster型偏振片的入射角（AOI）調(diào)整為±4.5°，并獲得較大的消光對(duì)比度。支架位于桿，桿支架和可移動(dòng)基座820-0090上。
距桌面的光軸高度可以在78-88 mm的范圍內(nèi)調(diào)節(jié)?？梢蕴峁┢渌叨茸鳛槎ㄖ疲詫?biāo)準(zhǔn)桿和桿架更改為更高的高度。
EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué)，工業(yè)，醫(yī)學(xué)，美學(xué)，軍事和航空航天市場(chǎng)的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用，激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體，光機(jī)械，帶驅(qū)動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商，它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項(xiàng)業(yè)務(wù)，其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長期專業(yè)知識(shí)。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割，研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
我們的激光組件工作在從UV（193 nm）到VIS到IR（20μm）的光譜范圍內(nèi)，并在太赫茲（1-5 THz）范圍內(nèi)工作，可在科學(xué)，工業(yè)，醫(yī)學(xué)和美學(xué)領(lǐng)域的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用，軍事和航空航天市場(chǎng)。
EKSMA光學(xué)拋光設(shè)備專門從事由BK7，UVFS，Infrasil，Suprasil，CaF2以及DKDP，KDP，LBO，BBO，ZnGeP2晶體制成的平面光學(xué)器件的加工和終拋光，而大功率激光應(yīng)用需要高質(zhì)量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設(shè)備，球面，軸錐和非球面鏡片CNC制造設(shè)備，BBO，DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設(shè)備，超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術(shù)部門和質(zhì)量控制設(shè)備。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實(shí)驗(yàn)室的高質(zhì)量測(cè)試和認(rèn)證。
該公司可根據(jù)客戶的圖紙和規(guī)格提供定制的光學(xué)和晶體組件。但是，我們還提供了廣泛的標(biāo)準(zhǔn)目錄產(chǎn)品，可以快速實(shí)現(xiàn)現(xiàn)成的交付。
產(chǎn)品型號(hào)
飛秒激光脈沖
型號(hào) | 波長 | 損壞閾值 | 配置 |
990-0072-343M | 343 nm | >10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | without controller & power supply |
990-0072-343M+CP | 343 nm | >10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | with controller & power supply |
990-0072-400M | 400 nm | >10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | without controller & power supply |
990-0072-400M+CP | 400 nm | >10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | with controller & power supply |
990-0072-515M | 515 nm | >10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | without controller & power supply |
990-0072-515M+CP | 515 nm | >10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | with controller & power supply |
990-0072-800M | 800 nm | >10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | without controller & power supply |
990-0072-800M+CP | 800 nm | >10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | with controller & power supply |
990-0072-800BM | 780-820 nm | >10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | without controller & power supply |
990-0072-800BM+CP | 780-820 nm | >10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | with controller & power supply |
990-0072-1030M | 1030 nm | >10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | without controller & power supply |
990-0072-1030M+CP | 1030 nm | >10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | with controller & power supply |
990-0072-1030BM | 1010-1050 nm | >10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | without controller & power supply |
990-0072-1030BM+CP | 1010-1050 nm | >10 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | with controller & power supply |
大功率激光應(yīng)用
型號(hào) | 波長 | 損壞閾值 | 配置 |
990-0072-266HM | 266 nm | >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | without controller & power supply |
990-0072-266HM+CP | 266 nm | >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | with controller & power supply |
990-0072-343HM | 343 nm | >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | without controller & power supply |
990-0072-343HM+CP | 343 nm | >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | with controller & power supply |
990-0072-400HM | 400 nm | >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | without controller & power supply |
990-0072-400HM+CP | 400 nm | >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | with controller & power supply |
990-0072-515HM | 515 nm | >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | without controller & power supply |
990-0072-515HM+CP | 515 nm | >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | with controller & power supply |
990-0072-800HM | 800 nm | >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | without controller & power supply |
990-0072-800HM+CP | 800 nm | >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | with controller & power supply |
990-0072-800HBM | 780-820 nm | >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | without controller & power supply |
990-0072-800HBM+CP | 780-820 nm | >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | with controller & power supply |
990-0072-1030HM | 1030 nm | >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | without controller & power supply |
990-0072-1030HM+CP | 1030 nm | >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | with controller & power supply |
990-0072-1030HBM | 1010-1050 nm | >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | without controller & power supply |
990-0072-1030HBM+CP | 1010-1050 nm | >100 mJ/cm2, 50 fs @ 800 nm | with controller & power supply |
旋轉(zhuǎn)分辨率：全步模式 在1/8步進(jìn)模式下 |
|
較高轉(zhuǎn)速 | 50 deg/s |
適用于Nd：YAG激光應(yīng)用
孔徑 | 22 mm |
損害閾值 | >5 J/cm2 |
偏振對(duì)比 | >1:200 |
飛秒應(yīng)用
孔徑 | 22 mm |
損害閾值 大功率激光應(yīng)用： | > 10 mJ / cm2，在800 nm處有50 fs脈沖，典型值 > 100 mJ / cm2，在800 nm處有50 fs脈沖，典型值 |
時(shí)間色散 | 對(duì)于100 fs Ti：藍(lán)寶石激光脈沖，t<4 fs |
偏振對(duì)比 | >1:200 |
推薦設(shè)置
控制器 | 980-1045 |
電源 | PS12-2.5-4 |
上述控制器和電源已包含在衰減器套件中，其代碼結(jié)尾為“ + CP"。
EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué)，工業(yè)，醫(yī)學(xué)，美學(xué)，軍事和航空航天市場(chǎng)的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用，激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體，光機(jī)械，帶驅(qū)動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商，它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項(xiàng)業(yè)務(wù)，其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長期專業(yè)知識(shí)。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割，研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
我們的激光組件工作在從UV（193 nm）到VIS到IR（20μm）的光譜范圍內(nèi)，并在太赫茲（1-5 THz）范圍內(nèi)工作，可在科學(xué)，工業(yè)，醫(yī)學(xué)和美學(xué)領(lǐng)域的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用，軍事和航空航天市場(chǎng)。
EKSMA光學(xué)拋光設(shè)備專門從事由BK7，UVFS，Infrasil，Suprasil，CaF2以及DKDP，KDP，LBO，BBO，ZnGeP2晶體制成的平面光學(xué)器件的加工和終拋光，而大功率激光應(yīng)用需要高質(zhì)量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設(shè)備，球面，軸錐和非球面鏡片CNC制造設(shè)備，BBO，DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設(shè)備，超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術(shù)部門和質(zhì)量控制設(shè)備。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實(shí)驗(yàn)室的高質(zhì)量測(cè)試和認(rèn)證。
該公司可根據(jù)客戶的圖紙和規(guī)格提供定制的光學(xué)和晶體組件。但是，我們還提供了廣泛的標(biāo)準(zhǔn)目錄產(chǎn)品，可以快速實(shí)現(xiàn)現(xiàn)成的交付。
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