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Eksma 線性偏振激光束的可變衰減器990-0071
Eksma 線性偏振激光束的可變衰減器990-0071
該可變衰減器/分束器包括用于偏振片的特殊設計的光機械適配器,其在56°840-0117A或840-0118A以及精密光機械支架840-0197。
產(chǎn)品介紹
?將激光束分為兩束手動調(diào)節(jié)的強度比,以68°角分開
?大動態(tài)范圍
?透射光束偏移?0.5毫米
?高光學損傷閾值
?透射光束的衰減范圍:0.5%-95%
?反射光束的衰減范圍:5%-99.5%
該可變衰減器/分束器包括用于偏振片的特殊設計的光機械適配器,其在56°840-0117A或840-0118A以及精密光機械支架840-0197。薄膜布魯斯特型偏振片被容納在56°偏振片適配器中,該偏振片在反射56°的S偏振光同時透射P偏振光。石英半波片容納在旋轉(zhuǎn)支架840-0197中。
可以通過旋轉(zhuǎn)波片連續(xù)改變這兩個光束的強度比,而不會改變其他光束參數(shù)??梢栽诤軐挼膭討B(tài)范圍內(nèi)控制出射光束的強度或其強度比??梢赃x擇P偏振以獲得較大的透射率,或者當透射光束發(fā)生較大衰減時可以反射高純度s偏振。保持器840-0197允許將薄膜布魯斯特型偏振器的入射角調(diào)整±2°,并獲得較大的偏振對比度。
注意:實心基座高度擴展器820-0210和標準桿820-0020-20應單獨訂購。
產(chǎn)品型號
適用于Nd:YAG激光應用
型號 | 波長 | 激光損傷閾值 |
990-0071-355 | 355 nm | 5 J/cm2 @ 1064 nm, 10 ns, 10 Hz |
990-0071-532 | 532 nm | 5 J/cm2 @ 1064 nm, 10 ns, 10 Hz |
990-0071-1064 | 1064 nm | 5 J/cm2 @ 1064 nm, 10 ns, 10 Hz |
飛秒應用
型號 | 波長 | 激光損傷閾值 |
990-0071-257 | 257 nm | 10 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs |
990-0071-266 | 266 nm | 10 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs |
990-0071-343 | 343 nm | 10 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs |
990-0071-400 | 400 nm | 10 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs |
990-0071-400B | 390-410 nm | 10 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs |
990-0071-515 | 515 nm | 10 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs |
990-0071-515B | 505-525 nm | 10 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs |
990-0071-800 | 800 nm | 10 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs |
990-0071-800B | 780-820 nm | 10 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs |
990-0071-1030 | 1030 nm | 10 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs |
990-0071-1030B | 1010-1050 nm | 10 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs |
適用于高功率飛秒激光應用
型號 | 波長 | 激光損傷閾值 |
990-0071-257H | 257 nm | 100 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs |
990-0071-266H | 266 nm | 100 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs |
990-0071-343H | 343 nm | 100 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs |
990-0071-400H | 400 nm | 100 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs |
990-0071-400HB | 390-410 nm | 100 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs |
990-0071-515H | 515 nm | 100 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs |
990-0071-515HB | 505-525 nm | 100 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs |
990-0071-800H | 800 nm | 100 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs |
990-0071-800HB | 780-820 nm | 100 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs |
990-0071-1030H | 1030 nm | 100 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs |
990-0071-1030HB | 1010-1050 nm | 100 mJ/cm2 @ 800 nm, 50 fs |
適用于Nd:YAG激光應用
通光孔徑 | 10 mm |
損害閾值 | 5 J/cm2 |
偏振對比 | >1:200 |
飛秒應用
通光孔徑 | 10 mm |
損害閾值 大功率激光應用: | >10 mJ/cm2, 50 fs pulse at 800 nm, typical |
時間分散 | t<4 fs for 100 fs Ti:Sapphire laser pulses |
偏振對比 | >1:200 |
EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學,工業(yè),醫(yī)學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,光機械,帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業(yè)務,其基礎是在激光和光學領域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序,質(zhì)量控制評估以及對新技術的承諾,我們不斷改進并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發(fā)的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
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