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Eksma UVFS激光線反射鏡-2
高反射率(> 99%反射率)激光線鏡由石英制成,并涂有多層電介質(zhì)或IBS鍍膜。適用于UV,VIS和NIR激光器。
Eksma UVFS激光線反射鏡-2
產(chǎn)品介紹
?高反射鏡(反射率> 99%)
?設計用于45°或0°入射角
?由紫外線等級的熔融石英制成
?對于由BK7材料制成的激光線鏡,請單擊此處
激光線反射鏡是介電反射鏡,在規(guī)定的激光波長下具有優(yōu)良性能。我們的激光鏡由石英制成,并涂有多層電介質(zhì)或IBS鍍膜。對于低波前畸變,低散射和高損傷閾值,鏡子亞表面的高拋光質(zhì)量也很重要。
介電紫外熔融石英激光線鏡在UV,VIS和NIR光譜中涵蓋了廣泛的激光應用。
EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學,工業(yè),醫(yī)學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,光機械,帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業(yè)務,其基礎是在激光和光學領域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序,質(zhì)量控制評估以及對新技術的承諾,我們不斷改進并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發(fā)的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
產(chǎn)品型號
UVFS; ?12.7 x 6 mm
型號 | D | ET | R, %(S+P)/2 | AOI | 波長 | 應用 |
041-0240T6 | 12.7 mm | 6 mm | 99.0% | 45° | 244-248 nm | KrF |
041-0240T6-i0 | 12.7 mm | 6 mm | 99.0% | 0° | 244-248 nm | KrF |
041-0260T6 | 12.7 mm | 6 mm | 99.0% | 45° | 262-266 nm | Nd:YAG 4H |
041-0260T6-i0 | 12.7 mm | 6 mm | 99.0% | 0° | 262-266 nm | Nd:YAG 4H |
041-0266T6 | 12.7 mm | 6 mm | 99.0% | 45° | 257-275 nm | Ti:Sa 3H |
041-0266T6-i0 | 12.7 mm | 6 mm | 99.0% | 0° | 257-275 nm | Ti:Sa 3H |
041-0300T6 | 12.7 mm | 6 mm | 99.2% | 45° | 308 nm | XeCl |
041-0300T6-i0 | 12.7 mm | 6 mm | 99.2% | 0° | 308 nm | XeCl |
041-0325T6 | 12.7 mm | 6 mm | 99.5% | 45° | 325 nm | HeCd |
041-0325T6-i0 | 12.7 mm | 6 mm | 99.8% | 0° | 325 nm | HeCd |
041-0343T6 | 12.7 mm | 6 mm | 99.5% | 45° | 333-353 nm | Yb:KGW/KYW 3H |
041-0343T6-i0 | 12.7 mm | 6 mm | 99.8% | 0° | 333-353 nm | Yb:KGW/KYW 3H |
041-0347T6 | 12.7 mm | 6 mm | 99.5% | 45° | 347 nm | Ruby |
041-0347T6-i0 | 12.7 mm | 6 mm | 99.8% | 0° | 347 nm | Ruby |
041-0350T6 | 12.7 mm | 6 mm | 99.5% | 45° | 351-361 nm | Nd:YAG 3H |
041-0350T6-i0 | 12.7 mm | 6 mm | 99.8% | 0° | 351-361 nm | Nd:YAG 3H |
041-0350T6HHR | 12.7 mm | 6 mm | 99.9% | 45° | 351-361 nm | Nd:YAG 3H |
041-0350T6HHR-i0 | 12.7 mm | 6 mm | 99.9% | 0° | 351-361 nm | Nd:YAG 3H |
041-0400T6 | 12.7 mm | 6 mm | 99.5% | 45° | 380-420 nm | Ti:Sa 2H |
041-0400T6-i0 | 12.7 mm | 6 mm | 99.8% | 0° | 380-420 nm | Ti:Sa 2H |
041-0515T6 | 12.7 mm | 6 mm | 99.5% | 45° | 500-530 nm | Yb:KGW/KYW 2H |
041-0515T6-i0 | 12.7 mm | 6 mm | 99.8% | 0° | 500-530 nm | Yb:KGW/KYW 2H |
041-0530T6 | 12.7 mm | 6 mm | 99.5% | 45° | 527-532 nm | Nd:YAG |
041-0530T6-i0 | 12.7 mm | 6 mm | 99.8% | 0° | 527-532 nm | Nd:YAG |
041-0530T6HHR | 12.7 mm | 6 mm | 99.9% | 45° | 527-532 nm | Nd:YAG |
041-0530T6HHR-i0 | 12.7 mm | 6 mm | 99.9% | 0° | 527-532 nm | Nd:YAG |
041-0800T6 | 12.7 mm | 6 mm | 99.5% | 45° | 760-840 nm | Ti:Sa 1H |
041-0800T6-i0 | 12.7 mm | 6 mm | 99.8% | 0° | 760-840 nm | Ti:Sa 1H |
041-0800T6HHR | 12.7 mm | 6 mm | 99.9% | 45° | 760-840 nm | Ti:Sa 1H |
041-0800T6HHR-i0 | 12.7 mm | 6 mm | 99.9% | 0° | 760-840 nm | Ti:Sa 1H |
041-1030T6 | 12.7 mm | 6 mm | 99.5% | 45° | 1000-1060 nm | Yb:KGW/KYW 1H |
041-1030T6-i0 | 12.7 mm | 6 mm | 99.8% | 0° | 1000-1060 nm | Yb:KGW/KYW 1H |
041-1030T6HHR | 12.7 mm | 6 mm | 99.9% | 45° | 1000-1060 nm | Yb:KGW/KYW 1H |
041-1030T6HHR-i0 | 12.7 mm | 6 mm | 99.9% | 0° | 1000-1060 nm | Yb:KGW/KYW 1H |
041-1060T6 | 12.7 mm | 6 mm | 99.5% | 45° | 1047-1064 nm | Nd:YAG 1H |
041-1060T6-i0 | 12.7 mm | 6 mm | 99.8% | 0° | 1047-1064 nm | Nd:YAG 1H |
041-1060T6HHR | 12.7 mm | 6 mm | 99.9% | 45° | 1047-1064 nm | Nd:YAG 1H |
041-1060T6HHR-i0 | 12.7 mm | 6 mm | 99.9% | 0° | 1047-1064 nm | Nd:YAG 1H |
基材
材料 | UV級熔融石英 |
S1表面平整度 | λ/10 typical at 633 nm |
S1表面質(zhì)量 | 20-10表面光潔度 (MIL-PRF-13830B) |
S2表面質(zhì)量 | 簡單拋光 |
直徑公差 | + 0.00 mm, - 0.12 mm |
厚度公差 | ± 0.25 mm |
楔 | < 3 minutes |
倒角 | 0.3 mm at 45° typical |
鍍膜
技術 | 電子束多層電介質(zhì)或離子束濺射 |
附著力和耐久性 | 符合MIL-C-675A。 不溶于實驗室溶劑 |
通光孔徑 | 超過中心直徑的85% |
損壞閾值 | 6 J / cm2,8納秒脈沖,典型值1064 nm |
鍍膜表面平整度 | 通光孔徑下633 nm處的λ/ 10 |
入射角 | 0°或45° |
EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學,工業(yè),醫(yī)學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,光機械,帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業(yè)務,其基礎是在激光和光學領域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序,質(zhì)量控制評估以及對新技術的承諾,我們不斷改進并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發(fā)的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學,工業(yè),醫(yī)學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,光機械,帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業(yè)務,其基礎是在激光和光學領域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序,質(zhì)量控制評估以及對新技術的承諾,我們不斷改進并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發(fā)的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
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