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        1. 上海攸亦光電科技有限公司
          中級(jí)會(huì)員 | 第4年

          18861577951

          當(dāng)前位置:上海攸亦光電科技有限公司>>光學(xué)元件>> Eksma 部分反射鍍膜

          Eksma 部分反射鍍膜

          參  考  價(jià)面議
          具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

          產(chǎn)品型號(hào)

          品       牌Eksma

          廠(chǎng)商性質(zhì)代理商

          所  在  地上海市

          更新時(shí)間:2021-03-22 09:34:01瀏覽次數(shù):856次

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          組件類(lèi)別 光學(xué)元件
          Eksma 部分反射鍍膜
          部分反射鍍膜是耐用的多層介電鍍膜,旨在用于有效的光束分離以及激光腔中的輸出耦合。它們被設(shè)計(jì)用于大功率激光應(yīng)用。

          Eksma 部分反射鍍膜


          Eksma 部分反射鍍膜

          部分反射鍍膜是耐用的多層介電鍍膜,旨在用于有效的光束分離以及激光腔中的輸出耦合。

          產(chǎn)品描述

          部分反射鍍膜是耐用的多層介電鍍膜,旨在用于有效的光束分離以及激光腔中的輸出耦合。它們被設(shè)計(jì)用于大功率激光應(yīng)用。

          我們提供適用于不同波長(zhǎng)和反射值的一系列標(biāo)準(zhǔn)局部反射鍍膜。請(qǐng)與我們聯(lián)系以獲取其他波長(zhǎng),AOI或反射值。

          請(qǐng)發(fā)送帶有鍍膜和基材代碼的定制產(chǎn)品請(qǐng)求,以獲取報(bào)價(jià)。對(duì)于基材,請(qǐng)參閱我們的標(biāo)準(zhǔn)未鍍膜激光窗口部分。

          我們還提供標(biāo)準(zhǔn)的分束器和輸出耦合器,可快速交付:

          ØNd:YAG LaserLine分束器(1064 nm,532 nm,355 nm,266 nm)

          ØFemtoline分束器(1030 nm,800 nm,515 nm,400 nm,343 nm,266 nm)

          ØFemtoline寬帶分束器(720-880 nm,750-850 nm)

          ØNd:YAG LaserLine輸出耦合器(1064 nm nm)

          ØFemtoline輸出耦合器(1030 nm,800 nm)

          EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué),工業(yè),醫(yī)學(xué),美學(xué),軍事和航空航天市場(chǎng)的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長(zhǎng)范圍從紫外(193 nm)到可見(jiàn)光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
          EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用,激光介質(zhì)和非線(xiàn)性頻率轉(zhuǎn)換晶體,光機(jī)械,帶驅(qū)動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商,它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
          EKSMA Optics從1983年開(kāi)始在激光領(lǐng)域開(kāi)始其一項(xiàng)業(yè)務(wù),其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長(zhǎng)期專(zhuān)業(yè)知識(shí)。
          公司提供的所有組件均經(jīng)過(guò)質(zhì)量控制實(shí)驗(yàn)室的高質(zhì)量測(cè)試和認(rèn)證。 通過(guò)嚴(yán)格的檢查程序,質(zhì)量控制評(píng)估以及對(duì)新技術(shù)的承諾,我們不斷改進(jìn)并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過(guò)ISO 9001:2015認(rèn)證。 必維檢驗(yàn)集團(tuán)(Bureau Veritas)頒發(fā)的認(rèn)證。
          EKSMA OPTICS大力投資于的制造設(shè)備和擴(kuò)展制造能力。
          公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割,研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線(xiàn)性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠(chǎng)中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

          產(chǎn)品型號(hào)

          鍍膜型號(hào)

          波長(zhǎng)

          反射率

          推薦

          損傷

          AOI=0

          AOI=45


          nm


          %

          基材

          閾值

          2012-i0

          2012-i45

          248

          25±3

          UVFS

          1 J/cm2
          in 10 ns

          2015-i0

          2015-i45

          248

          50±3

          UVFS

          1 J/cm2
          in 10 ns

          2017-i0

          2017-i45

          248

          75±3

          UVFS

          1 J/cm2
          in 10 ns

          2022-i0

          2022-i45

          266

          25±3

          UVFS

          1 J/cm2
          in 10 ns

          2025-i0

          2025-i45

          266

          50±3

          UVFS

          1 J/cm2
          in 10 ns

          2027-i0

          2027-i45

          266

          75±3

          UVFS

          1 J/cm2
          in 10 ns

          2032-i0

          2032-i45

          308

          25±3

          UVFS

          1 J/cm2
          in 10 ns

          2035-i0

          2035-i45

          308

          50±3

          UVFS

          1 J/cm2
          in 10 ns

          2037-i0

          2037-i45

          308

          75±3

          UVFS

          1 J/cm2
          in 10 ns

          2042-i0

          2042-i45

          355

          25±3

          UVFS

          2 J/cm2
          in 10 ns

          2045-i0

          2045-i45

          355

          50±3

          UVFS

          2 J/cm2
          in 10 ns

          2047-i0

          2047-i45

          355

          75±3

          UVFS

          2 J/cm2
          in 10 ns

          2052-i0

          2052-i45

          400

          25±3

          UVFS

          3 J/cm2
          in 10 ns

          2055
          -i0

          2055
          -i45

          400

          50±3

          UVFS

          3 J/cm2
          in 10 ns

          2057-i0

          2057-i45

          400

          75±3

          UVFS

          3 J/cm2
          in 10 ns

          2062-i0

          2062-i45

          532

          25±3

          UVFS, BK7

          3 J/cm2
          in 10 ns

          2065-i0

          2065-i45

          532

          50±3

          UVFS, BK7

          3 J/cm2
          in 10 ns

          2067-i0

          2067-i45

          532

          75±3

          UVFS, BK7

          3 J/cm2
          in 10 ns

          2069-i0

          2069-i45

          633

          25±3

          UVFS, BK7

          1.5 J/cm2
          in 10 ns

          2070-i0

          2070-i45

          633

          50±3

          UVFS, BK7

          1.5 J/cm2
          in 10 ns

          2071-i0

          2071-i45

          633

          75±3

          UVFS, BK7

          1.5 J/cm2
          in 10 ns

          2072-i0

          2072-i45

          800

          25±3

          UVFS, BK7

          3 J/cm2
          in 10 ns

          2075-i0

          2075-i45

          800

          50±3

          UVFS, BK7

          3 J/cm2
          in 10 ns

          2077-i0

          2077-i45

          800

          75±3

          UVFS, BK7

          3 J/cm2
          in 10 ns

          2079-i0

          2079-i45

          852

          25±3

          UVFS, BK7

          1 J/cm2
          in 10 ns

          2080-i0

          2080-i45

          852

          50±3

          UVFS, BK7

          1 J/cm2
          in 10 ns

          2081-i0

          2081-i45

          852

          75±3

          UVFS, BK7

          1 J/cm2
          in 10 ns

          2082-i0

          2082-i45

          1064

          25±3

          UVFS, BK7

          3 J/cm2
          in 10 ns

          2085-i0

          2085-i45

          1064

          50±3

          UVFS, BK7

          3 J/cm2
          in 10 ns

          2087-i0

          2087-i45

          1064

          75±3

          UVFS, BK7

          3 J/cm2
          in 10 ns

          2089-i0

          2089-i45

          1550

          25±3

          UVFS, BK7

          2 J/cm2
          in 10 ns

          2090-i0

          2090-i45

          1550

          50±3

          UVFS, BK7

          2 J/cm2
          in 10 ns

          2091-i0

          2091-i45

          1550

          75±3

          UVFS, BK7

          2 J/cm2
          in 10 ns

           EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué),工業(yè),醫(yī)學(xué),美學(xué),軍事和航空航天市場(chǎng)的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長(zhǎng)范圍從紫外(193 nm)到可見(jiàn)光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
          EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用,激光介質(zhì)和非線(xiàn)性頻率轉(zhuǎn)換晶體,光機(jī)械,帶驅(qū)動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商,它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
          EKSMA Optics從1983年開(kāi)始在激光領(lǐng)域開(kāi)始其一項(xiàng)業(yè)務(wù),其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長(zhǎng)期專(zhuān)業(yè)知識(shí)。
          公司提供的所有組件均經(jīng)過(guò)質(zhì)量控制實(shí)驗(yàn)室的高質(zhì)量測(cè)試和認(rèn)證。 通過(guò)嚴(yán)格的檢查程序,質(zhì)量控制評(píng)估以及對(duì)新技術(shù)的承諾,我們不斷改進(jìn)并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過(guò)ISO 9001:2015認(rèn)證。 必維檢驗(yàn)集團(tuán)(Bureau Veritas)頒發(fā)的認(rèn)證。
          EKSMA OPTICS大力投資于的制造設(shè)備和擴(kuò)展制造能力。
          公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割,研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線(xiàn)性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠(chǎng)中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

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