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價格區(qū)間	面議	應(yīng)用領(lǐng)域	醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子,綜合
組件類別	光學(xué)元件

Eksma 線性偏振激光束的電動可變衰減器-2

990-0071M

Eksma 線性偏振激光束的電動可變衰減器-2

具有ø10 mm透明光圈的電動可變衰減器，可以連續(xù)改變出射的s-pol和p-pol光束的強度比。衰減器由薄膜偏振片，高性能波片和精密光機械組成。

產(chǎn)品介紹

這款電動可變衰減器/分束器包括特殊設(shè)計的，用于56°840-0117A或840-0118A偏振片的光機械適配器和精密光機械支架840-0193。薄膜布魯斯特型偏振片被容納在56°的偏光鏡適配器中，該偏振片在56°時反射S偏振光，同時透射P偏振光。石英半波片安裝在電動旋轉(zhuǎn)平臺960-0161中?？梢酝ㄟ^旋轉(zhuǎn)波片連續(xù)改變這兩個光束的強度比，而不會改變其他光束參數(shù)。

可以在很寬的動態(tài)范圍內(nèi)控制出射光束的強度或其強度比。可以選擇P偏振以獲得較大的透射率，或者當(dāng)透射光束發(fā)生較大衰減時可以反射高純度s偏振。保持器840-0193允許將薄膜布魯斯特型偏振片的入射角調(diào)整±2°，并獲得較大的偏振對比度。

注意：控制器和電源應(yīng)單獨訂購。

產(chǎn)品型號

適用于Nd：YAG激光應(yīng)用

型號	波長	激光損傷閾值	配置
990-0071-355M	355 nm	5 J/cm², 10 ns pulses, 10 Hz, 1064 nm	without controller & power supply
990-0071-355M+CP	355 nm	5 J/cm², 10 ns pulses, 10 Hz, 1064 nm	with controller & power supply
990-0071-532M	532 nm	5 J/cm², 10 ns pulses, 10 Hz, 1064 nm	without controller & power supply
990-0071-532M+CP	532 nm	5 J/cm², 10 ns pulses, 10 Hz, 1064 nm	with controller & power supply
990-0071-1064M	1064 nm	5 J/cm², 10 ns pulses, 10 Hz, 1064 nm	without controller & power supply
990-0071-1064M+CP	1064 nm	5 J/cm², 10 ns pulses, 10 Hz, 1064 nm

飛秒應(yīng)用

型號	波長	激光損傷閾值	配置
990-0071-257M	257 nm	> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm	without controller & power supply
990-0071-257M+CP	257 nm	> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm	with controller & power supply
990-0071-266M	266 nm	> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm	without controller & power supply
990-0071-266M+CP	266 nm	> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm	with controller & power supply
990-0071-343M	343 nm	> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm	without controller & power supply
990-0071-343M+CP	343 nm	> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm	with controller & power supply
990-0071-400M	400 nm	> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm	without controller & power supply
990-0071-400M+CP	400 nm	> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm	with controller & power supply
990-0071-400BM	390-410 nm	> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm	without controller & power supply
990-0071-400BM+CP	390-410 nm	> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm	with controller & power supply
990-0071-515M	515 nm	> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm	without controller & power supply
990-0071-515M+CP	515 nm	> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm	with controller & power supply
990-0071-515BM	505-525 nm	> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm	without controller & power supply
990-0071-515BM+CP	505-525 nm	> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm	with controller & power supply
990-0071-800M	800 nm	> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm	without controller & power supply
990-0071-800M+CP	800 nm	> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm	with controller & power supply
990-0071-800BM	780-820 nm	> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm	without controller & power supply
990-0071-800BM+CP	780-820 nm	> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm	with controller & power supply
990-0071-1030M	1030 nm	> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm	without controller & power supply
990-0071-1030M+CP	1030 nm	> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm	with controller & power supply
990-0071-1030BM	1010-1050 nm	> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm	without controller & power supply
990-0071-1030BM+CP	1010-1050 nm	> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm	with controller & power supply

適用于高功率飛秒應(yīng)用

型號	波長	激光損傷閾值	配置
990-0071-257HM	257 nm	> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm	without controller & power supply
990-0071-257HM+CP	257 nm	> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm	with controller & power supply
990-0071-266HM	266 nm	> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm	without controller & power supply
990-0071-266HM+CP	266 nm	> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm	with controller & power supply
990-0071-343HM	343 nm	> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm	without controller & power supply
990-0071-343HM+CP	343 nm	> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm	with controller & power supply
990-0071-400HM	400 nm	> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm	without controller & power supply
990-0071-400HM+CP	400 nm	> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm	with controller & power supply
990-0071-400HBM	390-410 nm	> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm	without controller & power supply
990-0071-400HBM+CP	390-410 nm	> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm	with controller & power supply
990-0071-515HM	515 nm	> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm	without controller & power supply
990-0071-515HM+CP	515 nm	> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm	with controller & power supply
990-0071-515HBM	505-525 nm	> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm	without controller & power supply
990-0071-515HBM+CP	505-525 nm	> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm	with controller & power supply
990-0071-800HM	800 nm	> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm	without controller & power supply
990-0071-800HM+CP	800 nm	> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm	with controller & power supply
990-0071-800HBM	780-820	> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm	without controller & power supply
990-0071-800HBM+CP	780-820	> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm	with controller & power supply
990-0071-1030HM	1030 nm	> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm	without controller & power supply
990-0071-1030HM+CP	1030 nm	> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm	with controller & power supply
990-0071-1030HBM	1010-1050 nm	> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm	without controller & power supply
990-0071-1030HBM+CP	1010-1050 nm	> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm	with controller & power supply

適用于Nd：YAG激光應(yīng)用

通光孔徑	10 mm
損害閾值	5 J/cm2 pulsed at 1064 nm, typical
偏振比	>1:200

飛秒應(yīng)用

通光孔徑	10 mm
損害閾值大功率激光應(yīng)用：	>10 mJ/cm2, 50 fs pulse at 800 nm, typical >100 mJ/cm2, 50 fs pulse at 800 nm, typical
時間分散	t<4 fs for 100 fs Ti:Sapphire laser pulses
偏振比	>1:200

這款電動可變衰減器/分束器包括特殊設(shè)計的，用于56°840-0117A或840-0118A偏振片的光機械適配器和精密光機械支架840-0193。薄膜布魯斯特型偏振片被容納在56°的偏光鏡適配器中，該偏振片在56°時反射S偏振光，同時透射P偏振光。石英半波片安裝在電動旋轉(zhuǎn)平臺960-0161中。可以通過旋轉(zhuǎn)波片連續(xù)改變這兩個光束的強度比，而不會改變其他光束參數(shù)。

可以在很寬的動態(tài)范圍內(nèi)控制出射光束的強度或其強度比?？梢赃x擇P偏振以獲得較大的透射率，或者當(dāng)透射光束發(fā)生較大衰減時可以反射高純度s偏振。保持器840-0193允許將薄膜布魯斯特型偏振片的入射角調(diào)整±2°，并獲得較大的偏振對比度。

EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。我們的激光組件可在科學(xué)，工業(yè)，醫(yī)學(xué)，美學(xué)，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用，激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體，光機械，帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商，它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項業(yè)務(wù)，其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認(rèn)證。通過嚴(yán)格的檢查程序，質(zhì)量控制評估以及對新技術(shù)的承諾，我們不斷改進并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001：2015認(rèn)證。必維檢驗集團（Bureau Veritas）頒發(fā)的認(rèn)證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設(shè)備和擴展制造能力。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割，研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設(shè)備。在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。我們的激光組件可在科學(xué)，工業(yè)，醫(yī)學(xué)，美學(xué)，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用，激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體，光機械，帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商，它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項業(yè)務(wù)，其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認(rèn)證。通過嚴(yán)格的檢查程序，質(zhì)量控制評估以及對新技術(shù)的承諾，我們不斷改進并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001：2015認(rèn)證。必維檢驗集團（Bureau Veritas）頒發(fā)的認(rèn)證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設(shè)備和擴展制造能力。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割，研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設(shè)備。在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。我們的激光組件可在科學(xué)，工業(yè)，醫(yī)學(xué)，美學(xué)，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用，激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體，光機械，帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商，它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項業(yè)務(wù)，其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認(rèn)證。通過嚴(yán)格的檢查程序，質(zhì)量控制評估以及對新技術(shù)的承諾，我們不斷改進并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001：2015認(rèn)證。必維檢驗集團（Bureau Veritas）頒發(fā)的認(rèn)證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設(shè)備和擴展制造能力。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割，研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設(shè)備。在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

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