Nonsequitur 大束流離子源離子槍

Model 1404設(shè)計特點(diǎn)：

高亮度電子沖擊離子源

連續(xù)可變光束能量，最多3kV

束流0-10uA

支持所有惰性氣體外加氮?dú)?，可選氧氣功能，帶Thoria涂層燈絲

所有材料采用超高真空和耐腐蝕材料

配備可用于可變蝕刻區(qū)域和光束準(zhǔn)直的冷凝器透鏡

配備用于計算機(jī)控制的USB接口和圖形用戶界面

Nonsequitur 大束流離子源離子槍

Nonsequitur公司的Model 1401離子源離子槍非常適合用于表面化學(xué)實(shí)驗，例如使用Auger 和ESCA進(jìn)行樣品制備和深度分析，可以用于惰性氣體。

在工作距離為25mm，束流大小為20µA時，光斑為直徑0.4mm。相比較于其他的離子槍而言，離子槍Model 1401能提供的電流密度是其他離子槍的1-倍。當(dāng)束流為1µA時，光斑最小可以選擇到50µm. 電子束能量可以在范圍5eV到5keV中選擇，并同時保持樣品的最佳聚焦。束流大小可以調(diào)節(jié)，并不受電子束能量的影響，無需外部設(shè)備，可以直接從前面板進(jìn)行調(diào)節(jié)。

通過電子沖擊來生成離子，雙燈絲設(shè)計可以延長使用壽命，而無需中斷設(shè)備的使用。離子源的真空燈絲處于離軸狀態(tài)，以防止燈絲材料沉積到樣品上。

Nonsequitur 銫離子槍 堿性離子槍設(shè)計特點(diǎn)

• 用戶可更換Frit離子源以產(chǎn)生各種離子

• 光斑可調(diào) 75um to >1mm for spatially defined sputtering

• 連續(xù)可變束流能量，最高 5keV

• 使用光束彎曲光學(xué)元件進(jìn)行中性種抑制

• BTOF SIMS的光束消隱能力

• 集成束流監(jiān)控能力

• 可選光束束電極

• 采用適合超高真空和耐蝕刻的材料

• 用于減小光斑尺寸的透鏡偏轉(zhuǎn)

• 差速泵，以盡量減少主腔室氣體負(fù)載

•  Ion Guns Model 1407 設(shè)計特點(diǎn)

• 緊湊型離子源，雙等離子發(fā)射器

• 可調(diào)節(jié)的束斑， ≥ 15µm ，用于空間定義的濺射

• 可調(diào)節(jié)發(fā)射，提供穩(wěn)定的束流，前面板可調(diào)動態(tài)范圍 x300

• 連續(xù)可變電子束能量，最高達(dá) 5keV

• 用于電子束掃描和校正的雙電極

• 用于減小束斑大小的預(yù)目標(biāo)透鏡偏轉(zhuǎn)

• 集成束流大小監(jiān)測

• 燈絲不直接到樣品，避免不必要的樣品污染

• 可更換電子束修剪孔徑板，典型使用壽命> 500 hours

• 提供雙燈絲備份

• 內(nèi)部源壓力傳感器，允許監(jiān)控離子源壓力

• 采用適合超高真空和耐蝕刻的材料

• 差速泵，以盡量減少主腔室氣體負(fù)載

• 在惰性氣體下運(yùn)行

• Nonequitur李子源Model 1450設(shè)計特點(diǎn)

• 可調(diào)節(jié)的光斑尺寸≥5um，用于空間定義的濺射或注入。發(fā)射調(diào)節(jié)轟擊提供穩(wěn)定的離子電流。連續(xù)可變的束能5kV至50kV。雙八極用于束掃描和像散校正。預(yù)物鏡掃描可減小光斑尺寸。沒有直接的燈絲到樣品視線，以避免樣品污染?？蛻艨筛鼡Q的燈絲和束修整孔。雙燈絲在燈絲壽命結(jié)束時提供操作備份。制造中使用的所有UHV兼容和耐蝕刻材料。差分泵送可最大限度地減少主室氣體負(fù)載。在惰性氣體和氮?dú)夥秶鷥?nèi)工作